「defect inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

The defect level is determined by dividing the picture elements included in the inspection area into N×N of segments (N is the number of picture elements), and by using an average concentration of picture element concentrations included in the each segment as the defect level of the segment.例文帳に追加

欠陥レベルは、検査領域に含まれる画素をＮ×Ｎ（Ｎは画素数）のセグメントで分割し、各セグメントに含まれる画素濃度の平均濃度を当該セグメントの欠陥レベルとして決定される。 - 特許庁

To reduce line defect problems of postprocessing, a reliability test, and a user by preventing a defect in connection from being overlooked in sensitive inspection and an inspector from incorrectly deciding an unstable connection.例文帳に追加

感応検査での接続不良の見逃しや、接続不安定なものの検査作業者による判定違いの発生を防ぎ、後工程や信頼性試験及びユーザーにおける線欠陥問題を低減する。 - 特許庁

A defect inspection apparatus inspects the defect on a module board by comparing the image pattern picked up by an image pickup apparatus 20 with a reference pattern image of a reference module board previously stored.例文帳に追加

画像読取装置２０で読取った画像パターンと予め記憶されている基準モジュール基板の基準パターン画像と比較対照することにより、モジュール基板の欠陥を検査する欠陥検査装置である。 - 特許庁

To provide a defect detector which attains improvement in defect detection output and reliability by highly accurately detecting various defects to occur on the surface of an inspection object.例文帳に追加

検査対象物の表面上に発生する様々な欠陥を高精度に検出可能とすることで、欠陥検検出力及び信頼性の向上を図った欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing device capable of preventing an IC chip with an abnormal defect from mis-detection in a probe inspection process, a defect review device and a manufacturing method for a semiconductor device.例文帳に追加

異常欠陥のあるＩＣチップがプローブ検査工程で検出される不良チップから漏れることを防止できる半導体製造装置、欠陥レビュー装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect detection method of an insulator cap part in which automation of detection is possible and precise inspection of the defect of the cap part can be done, and appropriate quality control can be performed.例文帳に追加

検出の自動化が可能であり、精度のよい笠部欠陥検査を行うことができ、しかも品質管理の適正化を果たすことのできるガイシ笠部の欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

Information (offset information) about distribution of a coordinate system offset between a defect inspection apparatus and a SEM apparatus at an observation location on a wafer is registered in the SEM apparatus as a defect observation apparatus.例文帳に追加

欠陥観察装置であるＳＥＭ装置には、欠陥検査装置と当該ＳＥＭ装置との間の座標系のずれの、ウェハ上の観察位置に対する分布に関する情報（ずれ情報）が登録される。 - 特許庁

To evaluate the absolute value of the height or the depth of an irregularity defect, to shorten simultaneously an inspection time, and to discriminate the defect irregularities.例文帳に追加

凹凸欠陥の高さあるいは深さの絶対値評価を行うことができるようにするとともに、その検査時間の短縮を同時に実現できるようにし、さらに欠陥の凹凸判別を行えるようにする。 - 特許庁

To provide a painting defect inspection method capable of detecting accurately existence of a painting defect, even when irregularities are formed on a substrate surface, when applying painting onto the substrate.例文帳に追加

基材に塗装を施す場合、この基材の表面に凹凸が形成されている場合であっても塗装不良の有無を正確に検知することができる塗装不良検査方法を提供する。 - 特許庁

To detect and inspect a micro circuit pattern with high sensitivity in defect inspection of a pattern to be inspected for inspecting a defect/foreign matter on the pattern to be inspected such as a semiconductor wafer, a liquid crystal display, a photomask or the like.例文帳に追加

半導体ウェーハや液晶ディスプレイ、ホトマスクなどの被検査パターンにおける欠陥・異物を検査する被検査パターンの欠陥検査において、微細な回路パターンを高い感度で検出し、検査する。 - 特許庁

To obtain a surface inspection apparatus by which a defect is detected with high accuracy by detecting a patternlike scab defect having no remarkable uneven property such as a crack, a twist or a burr on a surface as a face to be inspected surely.例文帳に追加

被検査面における表面の割れや捩れやめくれ上がりのような顕著な凹凸性を持たない模様状ヘゲ欠陥を確実に検出して高精度に欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device capable of suitably and rapidly detecting a defect even when the manufacturing process is varied or the periodicity of images of an area to be inspected on a sample is low.例文帳に追加

製造プロセスが変動しても、また、試料から検査対象領域を撮像した撮像画像に周期性が少なくても、良好かつ迅速に欠陥検出できる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

Since at least one of the defect in the pump apparatus, the defect of the motor, and the inspection time of the apparatus can be detected, the wastewater pump apparatus can always be maintained in a correct operating state.例文帳に追加

これにより、ポンプ装置内の異常と電動機の異常及び点検時期の少なくとも一つが把握することができるので、排水ポンプ装置を常に正しい運転状態に保持することができる。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus and its method capable of high-sensitively detecting a critical defect existing in the vicinity of a direct peripheral circuit part in a chip formed on a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェハ上に形成されたチップ内の直接周辺回路部の近辺に存在する致命欠陥を高感度に検出することができる欠陥検査装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wafer surface defect inspection device capable of reducing instrument errors of detection sensitivity and foreign matter coordinate detection error, and capable of obtaining high position coordinate precision for a defect such as a foreign matter, and a method therefor.例文帳に追加

検出感度や異物座標検出誤差の機差が小さく、異物等の欠陥の高い位置座標精度が得られるウェハ表面欠陥検査装置およびその方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a defect inspection method for detecting the disturbance of a cycle generated in the cyclic structure of a semiconductor device by image comparison.例文帳に追加

半導体装置の周期的な構造に生じる周期の乱れを画像比較によって検出する欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device and method capable of easily inspecting a defect such as a crack of the solar battery at a certain determination level.例文帳に追加

太陽電池のクラック等の欠陥の検査を一定の判定レベルで簡単に行うことができる検査装置と方法を提供する。 - 特許庁

The above inspection logic is made by an application development system 40 separately for each classification of the tape carrier, and is given to a defect detector 10.例文帳に追加

上記検査論理は、テープキャリアの種別ごとに、適用開発システム４０により作成され、欠陥検出装置１０に与えられる。 - 特許庁

Operation results by the means 404 are used as shading correction data to be used for the defect inspection object of this time.例文帳に追加

重み付け演算手段４０４での演算結果を、今回の欠陥検査対象物に対して用いるシェーディング補正データとする。 - 特許庁

The inspection device 1 extracts a defect (dirt or chip) from the difference with a reference region relative to the divided small domain image after correction.例文帳に追加

検査装置１は補正後の分割小領域画像について、基準となる領域との差異から、欠陥（汚れ、欠け）を抽出する。 - 特許庁

To provide a method for producing a semiconductor device, by which a fine pattern is formed even without using an assist pattern method or a phase shift mask and defect inspection on a mask is easily performed.例文帳に追加

補助パターン法や位相シフトマスクなどを用いずとも微細パターンの形成が可能で、かつマスクの欠陥検査を容易とする。 - 特許庁

The acquired mask data of the defect portion of mask inspection results 205 is sent to a simulated repair circuit 300 to be simulatedly repaired.例文帳に追加

マスク検査結果２０５のうち、欠陥箇所のマスク採取データは、模擬修正回路３００に送られて模擬修正が行われる。 - 特許庁

To inspect a sudden signal transfer defect in a short time in an inspection method of an optical disk and an optical disk manufacturing apparatus.例文帳に追加

光ディスクの検査方法、及び光ディスク製造装置において、短時間で突発的な信号転写不良の検査を可能にする。 - 特許庁

To provide an electrooptical device substrate in which a defective spot can be quickly surely specified and a defect inspection can be stably conducted.例文帳に追加

迅速かつ確実に欠陥個所を特定でき、安定して欠陥検査を行うことができる電気光学装置用基板を提供する。 - 特許庁

The defect inspection device is also provided with a spatial filter arranged on a Fourier transformation face for shutting out diffracted rays from the linear part of the circuit pattern.例文帳に追加

更に、回路パターンの直線部分からの回折光を遮光するためにフーリエ変換面上に設けた空間フィルタを有する。 - 特許庁

There is provided a mist feeding device for filter inspection which can further improve a detection accuracy of the defect of a filter, while using liquid particles.例文帳に追加

液体粒子を使いつつ、フィルタ欠陥の検出精度をより向上できるフィルタ検査用ミスト供給装置を提供する。 - 特許庁

To provide a smooth surface inspection apparatus for avoiding a damage in an object to be measured and a slider, and detecting a minute defect.例文帳に追加

測定対象物及びスライダの損傷を回避して、微小な欠陥を検出することが可能な平滑面検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display apparatus for obtaining favorable inspection accuracy while suppressing increase in the cost for inspecting a pixel defect.例文帳に追加

画素欠陥検査についてコストの上昇を抑制しつつ良好な検査精度を得ることができる液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method by which an observer can easily and precisely checkt a defect in a cholesteric liquid crystal layer by visual check.例文帳に追加

コレステリック液晶層の欠陥を観察者の目視により簡易にかつ精密に検査することができる検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device, method, and program for defect detection, in which exact inspection can be performed in a short time.例文帳に追加

正確な検査を短時間で行うことができる欠陥検出装置、欠陥検出方法、及び欠陥検出プログラムを提供する。 - 特許庁

Furthermore, the program calculates review priority of each defect from the inferiority probability of each mask (step 11), and writes the result into inspection data (step 12).例文帳に追加

さらに、各マスクの不良確率から各欠陥のレビュー優先度を算出し（ステップ１１）、結果を検査データに書き込む（ステップ１２）。 - 特許庁

Defect inspection of a TFT substrate is performed first in each manufacturing stage and coordinate data on a defective image and a defective pixel are stored.例文帳に追加

まず、各製造工程においてＴＦＴ基板の欠陥検査を行い、欠陥画像及び欠陥画素の座標データを保存する。 - 特許庁

To provide an inspection system for electronic device in which an image for clarifying a defect and the boundary between different materials can be obtained.例文帳に追加

異なる材質の境界および欠陥が明瞭となるような画像を得ることができる電子部品の検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection processor capable of accurately detecting a defect or the like existing over the photographing range of a plurality of cameras.例文帳に追加

複数のカメラの撮像範囲に跨って存在する欠陥等を正確に検出することができる検査処理装置を提供する。 - 特許庁

A defect is determined according to the result of comparison between the generated ideal pattern and the unit patterns contained in the inspection image S.例文帳に追加

そして、この生成された理想パターンと被検査画像Ｓに含まれる単位パターンとを比較した結果を用いて欠陥を判定する。 - 特許庁

To quickly and precisely realize the defect inspection of an object having a complicate shape such as a bonding pad.例文帳に追加

ボンディングパッド等の複雑な形状を持つ対象の欠陥検査を高速且つ精度良く実現できるようにすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a mist feeding device for filter inspection, which can further improve a detection accuracy of the defect of a filter, while using liquid particles.例文帳に追加

液体粒子を使いつつ、フィルタの欠陥の検出精度をより向上できる、フィルタ検査用ミスト供給装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optical display manufacturing system and an optical display method of manufacturing can more preferably performing defect inspection.例文帳に追加

欠点検査をより好適に行うことができる光学表示装置製造システム及び光学表示装置製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a component mounting machine and an inspection method capable of detecting defect in mounting a component with high precision and in a short time.例文帳に追加

部品の実装不良を短時間で高精度に検知することができる部品実装機及び実装検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a visual external inspection apparatus for semiconductors capable of surely detecting a defect on a semiconductor wafer or a pellet at a high speed.例文帳に追加

半導体ウエハあるいはペレット上の欠陥を高速で確実に検出することができる半導体外観検査装置を提供する。 - 特許庁

A defect is determined thereby in the pattern inspection, by comparing detection signals obtained substantially concurrently in the same circuit patterns.例文帳に追加

これにより、同一の回路パターン同士でほぼ同時に得られた検出信号を比較し、パターン検査の欠陥判定を同時に行う。 - 特許庁

Corresponding two pattern parts which differ on an object 3 to be inspected are aligned to each other and are compared to conduct defect inspection.例文帳に追加

被検査物（３）上の異なる２ヵ所の対応するパターン部分を位置合わせし、パターンを比較することにより欠陥検査を行う。 - 特許庁

To provide a tool defect inspection device capable of inspecting efficiently and precisely a work such as a throw-away chip and a rod-like cutting tool.例文帳に追加

スローアウェイチップや棒状切削工具等のワークを効率よく精度良く検査することができる工具欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection apparatus in which sensitivity of defect detection can be improved by canceling trouble caused by optical distortion formed on a mask substrate.例文帳に追加

マスク基板に形成された光学歪みによる不具合が解消され、欠陥検出の感度を高くできる検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for inspecting a defect by a surface wave, capable of speedily carrying out inspection with high measurement accuracy.例文帳に追加

測定精度が高く迅速に実施することの可能な表面波による欠陥の検査方法及び検査装置を提供すること。 - 特許庁