「Thermal oxidation」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

OXIDATION-RESISTANT FILM AND ITS DEPOSITION METHOD, THERMAL BARRIER COATING, HEAT-RESISTANT MEMBER, AND GAS TURBINE例文帳に追加

耐酸化膜及びその形成方法、遮熱コーティング、耐熱部材、及びガスタービン - 特許庁

At this time, thermal oxidation time and oxidation temperature are adjusted properly within a range where all the polycrystalline silicon film 620 is not oxidized.例文帳に追加

このとき、多結晶シリコン膜６２０の全てが酸化されないような範囲で、熱酸化時間と酸化温度を適宜調節する。 - 特許庁

To provide a thermal head and a thermal head array capable of suppressing oxidation or corrosion of electrode wires, and also, disconnection of the electrode wires, and to provide a thermal printer including the thermal head.例文帳に追加

電極配線の酸化や腐食および電極配線の断線を抑制することができるサーマルヘッドおよびサーマルヘッドアレイ、ならびにサーマルヘッドを備えるサーマルプリンタを提供する。 - 特許庁

A first oxide film 3 formed by thermal oxidation is partly removed by etching.例文帳に追加

熱酸化により形成した第１の酸化膜３の一部をエッチングにより除去する。 - 特許庁

To provide a grease composition excellent in biodegradation, an extreme pressure property and thermal oxidation stability.例文帳に追加

生分解性、極圧性及び熱酸化安定性に優れたグリース組成物を提供する。 - 特許庁

FERRITIC STAINLESS STEEL EXCELLENT IN THERMAL FATIGUE PROPERTY, HIGH TEMPERATURE FATIGUE PROPERTY AND OXIDATION RESISTANCE例文帳に追加

熱疲労特性、高温疲労特性および耐酸化性に優れるフェライト系ステンレス鋼 - 特許庁

HIGH THERMAL CONDUCTIVITY HARD MATERIAL LIGHT IN WEIGHT AND EXCELLENT IN OXIDATION RESISTANCE, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

軽量で耐酸化性に優れる高熱伝導性硬質材料及びその作製方法 - 特許庁

Further, the SiO_2 layer 2 is formed in the surface of a silicon substrate 1 by using a thermal oxidation method.例文帳に追加

また、熱酸化法により、シリコン基板１の表面にＳｉＯ_２層２を形成する。 - 特許庁

Next, a gate oxide film 24 is formed on the wall surface of the trench 21 by thermal oxidation treatment.例文帳に追加

次に，ゲートトレンチ２１の壁面に熱酸化処理によりゲート酸化膜２４を形成する。 - 特許庁

After the mask member 12 is removed, a gate insulating film 16 is formed through a process of thermal oxidation.例文帳に追加

マスク部材１２除去後、熱酸化の工程を経てゲート絶縁膜１６を形成する。 - 特許庁

The method also comprises steps of removing the film 7, and forming a gate insulating film by a thermal oxidation method.例文帳に追加

次に、絶縁膜７を除去し、熱酸化法によりゲート絶縁膜を形成する。 - 特許庁

After the wiring is formed, an oxygen plasma treating method and a thermal oxidation treating method are used.例文帳に追加

また、配線形成後、酸素プラズマ処理する方法と、熱酸化処理する方法を用いる。 - 特許庁

To provide a lithium secondary battery which improves safety, oxidation stability, and thermal stability.例文帳に追加

安全性、酸化安定性、熱安定性の改善されたリチウム二次電池を提供すること。 - 特許庁

To provide Cu plating titanium copper having excellent corrosion resistance, oxidation resistance and thermal peelability of plating.例文帳に追加

耐食性、耐酸化性、めっき熱剥離性に優れたＣｕめっきチタン銅を提供する。 - 特許庁

LOW DENSITY OXIDATION RESISTANT SUPERALLOY MATERIAL CAPABLE OF THERMAL BARRIER COATING RETENTION WITHOUT BOND COAT例文帳に追加

接合被覆なしに断熱被覆を保持できる低密度耐酸化性超合金材料 - 特許庁

To provide an electrode catalyst layer excellent in thermal oxidation resistance even under high-temperature and low-humidity conditions.例文帳に追加

高温低加湿条件下でも耐熱酸化に優れた電極触媒層の提供。 - 特許庁

A step of degenerating the amorphous silicon layer 70 to a thermal oxide film 71 by thermal oxidation to block an opening 72 is included.例文帳に追加

アモルファスシリコン層７０を熱酸化により熱酸化膜７１へ変質することで、開口部７２を閉塞する工程を備える。 - 特許庁

Furthermore, thermal oxidation is made in a vapor atmosphere to form the thermal oxide film 143, and the annealing is performed again in the N2 atmosphere.例文帳に追加

さらに、水蒸気雰囲気で熱酸化を行って熱酸化膜１４３を形成し、再びＮ_2 雰囲気でアニール処理を行う。 - 特許庁

The thermal oxidation process is conducted in an atmosphere of a mixed gas of a nitrogen gas and an oxygen gas and of a fast oxidation speed at a temperature below 1100°C.例文帳に追加

熱酸化処理は温度を１１００℃以下に低下し、酸化速度の速い水素ガスと酸素ガスの混合ガス雰囲気中で行う。 - 特許庁

To efficiently perform a thick gate oxidation, when plural gate oxide films having different thicknesses are formed by a one-time thermal oxidation treatment.例文帳に追加

厚さを異にする複数のゲート酸化膜を１回の熱酸化処理により形成する際に厚いゲート酸化を効率的に行なう。 - 特許庁

On a silicon carbide semiconductor substrate 2, an oxidation silicon 5 with a thickness of 0.5 to 2 nm is formed by a thermal oxidation method.例文帳に追加

炭化珪素半導体基板２上に、熱酸化法により、０．５ｎｍ〜２ｎｍの範囲内の厚みを有する酸化珪素５を形成する。 - 特許庁

After removal of the silicon nitride film 113, a thermal oxidation film 117 and a photo resist 119 are deposited and subjected to a full-surface etch-back process to expose the thermal oxidation film 117 on the element region.例文帳に追加

シリコン窒化膜１１３を除去後、熱酸化膜１１７及びフォトレジスト１１９を堆積し、全面エッチバックを行って、素子領域上の熱酸化膜１１７を露出する。 - 特許庁

Then, the silicon nitride film 32 other than a part covered with the photoresist 33 is removed, and thermal oxidation processing is applied onto the upper surface of the exposed groove 31 to form a thermal oxidation film 34.例文帳に追加

続いて、フォトレジスト３３で被覆された部分以外の窒化シリコン膜３２を除去し、露出した溝３１の上面に熱酸化処理を施して熱酸化膜３４を形成する。 - 特許庁

This oxidation-resisting member is provided with a base material 4, a thermal stress relaxation layer 6 provided on the surface of the base material 4, a heat and oxidation-resisting protective layer 8 provided on the surface of the thermal stress relaxation layer 6 and an oxidation-resisting protective layer 10 provided on the surface of the heat and oxidation-resisting protective layer 8.例文帳に追加

基材４と、基材４の表面に設けられた熱応力緩和層６と、熱応力緩和層６の表面に設けられた耐熱耐酸化性保護層８と、耐熱耐酸化性保護層８の表面に設けられた耐酸化性保護層１０とを備える耐酸化性部材。 - 特許庁

In the method for manufacturing an optical waveguide including a process of thermally oxidizing at least a silicon substrate to form a thermal oxidation film to be a lower clad film on the surface of the substrate, the process of forming the thermal oxidation film is a process of forming a thermal oxidation film containing aluminum.例文帳に追加

少なくともシリコン基板を熱酸化して下側クラッド膜となる熱酸化膜を基板表面に形成する工程を有する光導波路基板の製造方法において、前記熱酸化膜の形成は、アルミニウムを含有する熱酸化膜を形成する光導波路基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a combustion chamber for preventing sulfuric acid corrosion (low-temperature corrosion) due to acid dew formation and at the same time preventing oxidation corrosion (high-temperature oxidation) due to high- temperature oxidation and the thermal damage of a refractory.例文帳に追加

酸結露による硫酸腐食（低温腐食）を防止すると共に、高温酸化による酸化腐食（高温酸化）及び耐火物の熱損傷を防止する燃焼室を提供する。 - 特許庁

To provide the thermal decomposition apparatus for polymer waste which can suppress the oxidation of a carbide left in the thermal decomposition furnace after thermal decomposition of the polymer waste.例文帳に追加

高分子系廃棄物の熱分解後の熱分解炉内に残る炭化物の酸化を抑えることが可能な高分子系廃棄物の熱分解装置を提供する。 - 特許庁

In the method for forming a thermal oxidation film, a tunnel oxidation film is formed on a surface of a silicon substrate 1 within a heated furnace.例文帳に追加

本発明に係る熱酸化膜の形成方法は、加熱した炉内でシリコン基板１の表面にトンネル酸化膜を形成するものである。 - 特許庁

finally, an oxidation film 7 is formed by performing a thermal oxidation treatment to an inner wall surface of the trench including the side surface of the exposed polysilicon film 3.例文帳に追加

次に、露出しているポリシリコン膜３ａの側面を含むトレンチの内壁面に熱酸化処理を施すことで酸化膜７を形成する。 - 特許庁

The method includes a step of measuring the thickness of the thermal oxidation film formed on the substrate to be determined (d).例文帳に追加

次に、判定用基板上に形成された前記熱酸化膜の膜厚を測定する（ｄ）。 - 特許庁

FERRITIC STAINLESS STEEL EXCELLENT IN THERMAL FATIGUE PROPERTY, HIGH TEMPERATURE FATIGUE PROPERTY, OXIDATION RESISTANCE AND TOUGHNESS例文帳に追加

熱疲労特性、高温疲労特性、耐酸化性および靭性に優れるフェライト系ステンレス鋼 - 特許庁

To provide an α-olefins/styrenes copolymer excellent in thermal oxidation resistance.例文帳に追加

耐熱酸化性に優れたα−オレフィン／スチレン類共重合体およびその製造方法の提供。 - 特許庁

An SiO2 film 12 is formed on the surface of an Si substrate 10 by performing a thermal oxidation treatment.例文帳に追加

Ｓｉ基板１０の表面に、ＳｉＯ_2 膜１２が熱酸化処理によって形成されている。 - 特許庁

Thereafter, the semiconductor film 15 is made thinner to obtain a desired thickness by a method such as thermal oxidation etc.例文帳に追加

その後、熱酸化等の方法によって、半導体膜１５を所望の膜厚に薄膜化する。 - 特許庁

Thereby, the abradable property, and durability against a thermal cycle and high-temperature oxidation are improved.例文帳に追加

これにより、アブレーダブル特性と熱サイクル、及び高温酸化に対する耐久性が良好になる。 - 特許庁

A TiO_2 film 106 is formed by sputtering a Ti metal film 105 on the HfSiO film 104 and subjecting the Ti metal film 105 to a thermal oxidation treatment.例文帳に追加

その上にTi金属膜105をスパッタし、それを熱酸化処理して、TiO_2膜106を形成する。 - 特許庁

After a pretreatment is conducted, a gate insulating film 32 for the core part is formed on the core part through thermal oxidation (a).例文帳に追加

前処理をおこなった後、熱酸化によりコア部用のゲート絶縁膜３２を形成する（ａ）。 - 特許庁

Then, the trench surface is subjected to thermal oxidation treatment, thus making the upper end part C of the opening round.例文帳に追加

次に、トレンチ表面に熱酸化処理を施すことで、同開口上端部Ｃをラウンドさせる。 - 特許庁

FERRITIC STAINLESS STEEL SUPERIOR IN THERMAL FATIGUE CHARACTERISTICS, OXIDATION RESISTANCE AND HIGH-TEMPERATURE SALT-CORROSION RESISTANCE例文帳に追加

熱疲労特性、耐酸化性および耐高温塩害腐食性に優れるフェライト系ステンレス鋼 - 特許庁

Gate electrodes 122A, 124A and 129A are formed on the thermal oxidation film 160.例文帳に追加

熱酸化膜１６０の上に、ゲート電極１２２Ａ，１２４Ａ、および１２９Ａが形成されている。 - 特許庁

The surface of the light shielding layer is oxidized by performing thermal oxidation processing to form an antireflection film 5.例文帳に追加

熱酸化処理を施して遮光層表面を酸化させ反射防止膜５形成する。 - 特許庁

FERRITIC STAINLESS STEEL EXCELLENT IN THERMAL FATIGUE PROPERTY, HIGH TEMPERATURE FATIGUE PROPERTY, OXIDATION RESISTANCE AND WORKABILITY例文帳に追加

熱疲労特性、高温疲労特性、耐酸化性および加工性に優れるフェライト系ステンレス鋼 - 特許庁

A second thermal oxidation film is formed on the surface of the trench, and the element isolation film is embedded in the trench.例文帳に追加

溝の表面に第２の熱酸化膜を形成し、その後、溝に、素子分離膜を埋め込む。 - 特許庁

Moreover, the thermal oxidation processing of the diffusion wafer may be performed by wet oxidization.例文帳に追加

また、本発明によると、前記拡散ウエハの熱酸化処理は、ウェット酸化で行われてもよい。 - 特許庁

A liner oxide film 22 is formed on the inner surface of the element separation trench 21 by thermal oxidation method.例文帳に追加

素子分離トレンチ２１の内面に熱酸化法によりライナー酸化膜２２が形成される。 - 特許庁