「Thermal oxidation」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

DETOXIFYING DEVICE OF EXHAUST GAS BASED ON THERMAL OXIDATION DECOMPOSITION例文帳に追加

排ガスの熱酸化分解式除害装置 - 特許庁

DAMPER DEVICE FOR THERMAL STORAGE COMBUSTION TYPE OXIDATION SYSTEM例文帳に追加

蓄熱燃焼式酸化装置のダンパ装置 - 特許庁

CONTROLLED THERMAL OXIDATION METHOD FOR ORGANIC WASTE例文帳に追加

有機廃棄物の制御された熱酸化方法 - 特許庁

A field oxidized film is formed by thermal oxidation.例文帳に追加

熱酸化を行って、フィールド酸化膜を形成する。 - 特許庁

Thereafter, a thermal oxide film is formed within the cavity with thermal oxidation of the Si substrate 1 (BOX oxidation method).例文帳に追加

その後、Ｓｉ基板１を熱酸化して空洞部内に熱酸化膜を形成する（ＢＯＸ酸化工程）。 - 特許庁

To suppress oxidation generating on an interior wall of a device isolation trench during thermal oxidation process.例文帳に追加

熱酸化工程で発生する素子分離溝の内壁の酸化を抑制する。 - 特許庁

Thereafter, a thermal oxidation processing of the silicon substrate 1 is performed.例文帳に追加

その後、シリコン基板１の熱酸化処理を行う。 - 特許庁

After a thermal oxidation film is formed in the peripheral circuit region RA and the memory cell region by first time thermal oxidation processing , the thermal oxidation film located in the memory cell region is removed.例文帳に追加

１回目の熱酸化処理により周辺回路領域ＲＡとメモリセル領域に熱酸化膜が形成された後、メモリセル領域に位置する熱酸化膜が除去される。 - 特許庁

The thermal oxidation film 9 is smaller in thickness than the thermal oxidation film 6 formed in the STI groove 60.例文帳に追加

この熱酸化膜９の膜厚はＳＴＩ溝６０内の熱酸化膜６よりも薄く形成されている。 - 特許庁

An oxide film 16 is grown on the bottom of the first oxidation window 15a by thermal oxidation.例文帳に追加

熱酸化法によって、第１酸化窓１５ａ底面に酸化膜１６を成長させる。 - 特許庁

By thermal oxidation, a part of the gate electrodes formed in the region between the gate electrodes is replaced by a thermal oxidation film.例文帳に追加

熱酸化により、ゲート電極の間の領域に形成されたゲート電極の一部が熱酸化膜に置換される。 - 特許庁

A thermal oxidation film is formed on an insulating film 101 (Fig.2(A)).例文帳に追加

絶縁膜１０１に熱酸化膜を形成する（図２（Ａ））。 - 特許庁

Thereafter, a thermal oxidation is so performed by using the oxidation preventing films 4a, 4b as oxidation preventing masks as to form a protective oxide film 7.例文帳に追加

その後、酸化防止膜４ａ、４ｂを酸化防止マスクにして熱酸化を行い、保護酸化膜７を形成する。 - 特許庁

ROTATING THERMAL OXIDATION APPARATUS FOR RECYCLING USAGE PROCESSING OF BATTERY例文帳に追加

バッテリーを循環使用処理するための回転式熱酸化装置 - 特許庁

FERRITIC STAINLESS STEEL SUPERIOR IN THERMAL FATIGUE CHARACTERISTICS AND OXIDATION RESISTANCE例文帳に追加

熱疲労特性と耐酸化性に優れるフェライト系ステンレス鋼 - 特許庁

FERRITIC STAINLESS STEEL EXCELLENT IN THERMAL FATIGUE CHARACTERISTICS AND OXIDATION RESISTANCE例文帳に追加

熱疲労特性と耐酸化性に優れたフェライト系ステンレス鋼 - 特許庁

MEASURING METHOD OF OXIDATION DEGREE, DEGREE OF NITRIDING, THERMAL CONDUCTIVITY AND COMPOSITION RATIO例文帳に追加

酸化度、窒化度、熱伝導率および組成比の測定方法 - 特許庁

During a thermal oxidation treatment, a silicon nitride film is embedded in a gap G between charge transfer electrodes as a thermal oxidation barrier film.例文帳に追加

熱酸化処理時に、電荷転送電極間ギャップＧ内には、熱酸化抑制膜としてのシリコン窒化膜が充填されている。 - 特許庁

In the thermal oxidation process of an element region, enlargements of thermal oxidation films in the other element regions can be suppressed by covering the other element regions with an oxidation resistance film.例文帳に追加

一の素子領域を熱酸化処理する際に、他の素子領域を耐酸化性膜により覆い、かかる他の素子領域における熱酸化膜の肥大を抑制する。 - 特許庁

The method includes a process of modifying the amorphous silicon layer 70 into a thermal oxide film 71 through thermal oxidation.例文帳に追加

アモルファスシリコン層７０を、熱酸化により熱酸化膜７１へ変質させる工程を備える。 - 特許庁

To provide a thermal barrier coating which has excellent oxidation resistance and ductility.例文帳に追加

耐酸化性及び延性に優れる遮熱コーティングを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMATION OF THERMAL OXIDATION FILM AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

熱酸化膜の形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

A semiconductor wafer is disposed in a chamber of a thermal oxidation device (S1).例文帳に追加

熱酸化装置のチャンバ内に半導体ウエハを配置する（Ｓ１）。 - 特許庁

The first thermal oxidation film 6 is eliminated by e.g. wet etching.例文帳に追加

第１の熱酸化膜６を、例えばウェットエッチングにより除去する。 - 特許庁

Afterwards, the silicon oxide films 10, 10a are formed by thermal oxidation method.例文帳に追加

その後、熱酸化法によりシリコン酸化膜１０，１０ａを形成する。 - 特許庁

A hydrofluoric-acid aqueous-solution treatment 5 and a thermal oxidation treatment 6 are conducted.例文帳に追加

フッ酸水溶液処理５と熱酸化処理６とがなされてなること。 - 特許庁

A thermal oxidation film 12 is formed on the bottom surface 11a and wall surface 11b of a trench 11, and only the thermal oxidation film 12a of the bottom surface is etched.例文帳に追加

トレンチ１１の底面１１ａ及び壁面１１ｂに熱酸化膜１２を形成し、底面の熱酸化膜１２ａだけをエッチングする。 - 特許庁

This high- temperature heat treatment can anneal out contaminants in the thermal oxidation film 4 and improve the quality of the thermal oxidation film 4.例文帳に追加

このような高温熱処理により、熱酸化膜４中の汚染物質をアニールアウトし、熱酸化膜４の品質を向上させることができる。 - 特許庁

Thermal oxide films 21 and 22 are formed on both the front and rear of a silicon carbide semiconductor substrate 1 by thermal oxidation.例文帳に追加

まず、炭化珪素半導体基板１の表裏面を熱酸化して熱酸化膜２１、２２を形成する。 - 特許庁

To prevent the spread of oxidation up to an SiC substrate for thermal oxidation of Si deposited on the SiC substrate.例文帳に追加

ＳｉＣ基板上に堆積したＳｉを熱酸化する際に、ＳｉＣ基板にまで酸化が及ぶのを防ぐ。 - 特許庁

To provide a setting technique for thermal oxidation conditions by which a high process capability is obtained even when the atmospheric pressure changes, regarding a method for forming a thermal oxide film and a thermal oxidation device.例文帳に追加

熱酸化膜の形成方法及び熱酸化装置に関し、大気圧が変動した場合にも高い工程能力が得られる熱酸化条件の設定手法を提供する。 - 特許庁

FERRITIC STAINLESS STEEL SUPERIOR IN THERMAL FATIGUE CHARACTERISTICS, OXIDATION RESISTANCE AND TOUGHNESS例文帳に追加

熱疲労特性、耐酸化性および靭性に優れるフェライト系ステンレス鋼 - 特許庁

Then the thermal oxidation film positioned in the fourth element region 401 is removed.例文帳に追加

次いで、第４素子領域４０１に位置する熱酸化膜を除去する。 - 特許庁

Then the thermal oxidation film positioned in the third element region 301 is removed.例文帳に追加

次いで、第３素子領域３０１に位置する熱酸化膜を除去する。 - 特許庁

Then, the embedded oxide film is formed inside the cavity part 25 by thermal oxidation.例文帳に追加

その後、熱酸化により、空洞部２５内に埋め込み酸化膜を形成する。 - 特許庁

For example, the silicon oxide layer 102 can be formed by a thermal oxidation process.例文帳に追加

例えば、熱酸化法により酸化シリコン層１０２のが形成可能である。 - 特許庁

FERRITIC STAINLESS STEEL SUPERIOR IN THERMAL FATIGUE CHARACTERISTICS, OXIDATION RESISTANCE AND WORKABILITY例文帳に追加

熱疲労特性、耐酸化性および加工性に優れるフェライト系ステンレス鋼 - 特許庁

The gate insulating film is formed by a thermal oxidation method by using dry oxygen.例文帳に追加

また、ゲート絶縁膜を乾燥酸素を用いた熱酸化法で形成する。 - 特許庁

GRAFT RUBBER HAVING IMPROVED STABILITY AGAINST DECOMPOSITION BY THERMAL OXIDATION例文帳に追加

熱酸化による分解に対して改良された安定性を有するグラフトゴム - 特許庁

To provide a method for forming a thermal oxidation film which can improve an uniformity of a thermal oxidation film by decreasing a roughness on a surface of the thermal oxidation film, and also to provide a method for manufacturing a semiconductor device using the film.例文帳に追加

熱酸化膜表面の粗さを減少させることにより、熱酸化膜の膜厚均一性を向上させることができる熱酸化膜の形成方法及びそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The silicon nitride film 7 functions as an oxidation preventive film which prevents the titanium oxide film 6 from oxidation when the surface of the substrate 1 is subjected to the thermal oxidation in the next process.例文帳に追加

窒化シリコン膜７は、次の工程で基板１の表面を熱酸化する時に酸化チタン膜６が酸化されるのを防ぐ酸化防止膜として機能する。 - 特許庁

Then, oxygen is introduced into a thermal oxidation device where the SiC is thermally oxidated in oxidation atmosphere at a temperature of 1,100°C or higher.例文帳に追加

次に、熱酸化装置に酸素を導入し、酸化雰囲気中１１００度以上の温度でＳｉＣを熱酸化する。 - 特許庁

An oxide film 12 is formed to be thick in the specified region 1 by thermal oxidation.例文帳に追加

熱酸化を行って酸化膜１２を特定領域１で厚く形成する。 - 特許庁

METHOD OF IMPROVING OXIDATION RESISTANCE OF METALLIC BASE MATERIAL COATED WITH THERMAL BARRIER COATING例文帳に追加

遮熱皮膜で被覆された金属基材の耐酸化性を改善する方法 - 特許庁

The thermal treatment process is a thermal oxidation, when the thermal oxidation of the oxidation time of T minutes is performed, and when the measured pressure is x% of the mean rate of a preset pressure, the thermal treatment time variation ΔT is ΔT=T {1-(x/100) ^2}/(x/100) ^2.例文帳に追加

熱処理は熱酸化であり、Ｔ分の酸化時間の熱酸化を行う場合、測定された前記気圧値が予め設定された気圧値の平均値のｘ％であるとき、前記熱処理時間変動値ΔＴはΔＴ＝Ｔ｛１−（ｘ／１００）^２｝／（ｘ／１００）^２である。 - 特許庁