「Thermal oxidation」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a γ' precipitation-hardening type Ni-based superalloy with low thermal expansion, which has a coefficient of thermal expansion equal to that of a ferrite-based 12Cr steel, has excellent hot workability in addition to high-temperature strength, corrosion resistance and oxidation resistance, and has excellent weldability.例文帳に追加

フェライト系12Cr鋼と同等程度の熱膨張係数を有し、また優れた高温強度と耐食，耐酸化性に加えて良好な熱間加工性を有し、且つ溶接性に優れたγ´析出硬化型の低熱膨張Ni基超合金を提供する。 - 特許庁

A semiconductor device comprises a silicon oxide film 2 formed on a single crystalline silicon substrate 1 in a predetermined region, and the gate insulating film 3 as the thermal oxidation film formed by thermally oxidizing the surface of the silicon substrate 1 in a region adjacent to the silicon oxidation film.例文帳に追加

半導体装置は、単結晶シリコン基板１上の所定の領域に形成されたシリコン酸化膜２、それと隣接する領域に単結晶シリコン基板１の表面を熱酸化して形成した熱酸化膜であるゲート絶縁膜３を備える。 - 特許庁

In the heat transport device 1, the coating treatment is applied with ion implantation, thermal oxidation, and steam oxidation or the like on a wick part generating capillary force to circulate the working fluid or the surface of the flow path where the working fluid of the gas phase or the liquid phase flows.例文帳に追加

熱輸送装置１において、作動流体を還流させるために毛細管力を発生するウィック部又は気相若しくは液相の作動流体が流れる流路の表面に、イオン注入、熱酸化、水蒸気酸化等で被覆処理を施こす。 - 特許庁

A pad oxidation film 2 and a nitriding silicon film 3 are formed on a silicon substrate 1, a trench 4 is formed by dry etching to make the nitriding silicon film 3 an etching mask, further the nitriding silicon film 3 is made an oxidation mask to thermally oxidize the silicon substrate 1, and a reforming layer formed on the surface of the nitriding silicon film 3 is removed by a neutral radical containing fluorine in a thermal oxidation process.例文帳に追加

シリコン基板１上にパット酸化膜２と窒化珪素膜３を形成し、窒化珪素膜３をエッチングマスクにしたドライエッチングでトレンチ４を形成し、更に窒化珪素膜３を酸化マスクにしてシリコン基板１を熱酸化し、上記熱酸化工程において窒化珪素膜３表面に形成される改質層をフッ素含有の中性ラジカルで除去する。 - 特許庁

To provide a backing plate made of a copper alloy in which deformation is hard to occur, and which combines excellent characteristics in thermal conductivity, 0.2% proof stress, a Young's modulus and oxidation resistance; and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

変形が生じにくく、熱伝導性、０．２％耐力、ヤング率、および耐酸化性に優れた特性を兼ね備えた銅合金製バッキングプレートとその製造方法を提供する。 - 特許庁

In a method for manufacturing semiconductor devices, an element isolation insulating film 30 is formed in an element isolation recessed section 22a through thermal oxidation, after the recessed section 22a has been formed on the surface of a substrate 22 through wet etching.例文帳に追加

基板２２の上部に、ウエットエッチングにより素子分離用凹部２２ａを予め形成し、該素子分離用凹部２２ａに、熱酸化により素子分離用絶縁膜３０を形成する。 - 特許庁

An oxynitirde film 5 is formed in a low breakdown voltage transistor LMOS region and an oxide film 7 which becomes the gate insulating film of high breakdown voltage transistor HMOS is formed through a thermal oxidation processing.例文帳に追加

低耐圧トランジスタＬＭＯＳ領域に酸窒化膜５を形成した後、熱酸化処理によって高耐圧トランジスタＨＭＯＳのゲート絶縁膜となる酸化膜７を形成する。 - 特許庁

By this setup, a silicon dioxide film which is almost equal in characteristics to other silicon dioxide films formed through a conventional high-temperature thermal oxidation method can be easily formed on the surface of the processed silicon substrate 1.例文帳に追加

これにより、該被処理用シリコン基板１の表面に、通常の高温熱酸化法で形成した二酸化シリコン膜の特性と遜色のない二酸化シリコン膜が容易に形成できる。 - 特許庁

The mask layer is then patterned on the side of the silicon substrate 2 previously applied with a thermal oxidation film 3 and through holes 52 are opened in the silicon substrate 2 with high concentration alkaline liquid of KOH, for example, (Fig. (C)).例文帳に追加

予め熱酸化膜３がついていたシリコン基板２側のマスク層をパターニングし、ＫＯＨ等の高濃度アルカリ液にてシリコン基板２に貫通穴５２を開口する（図１（Ｃ））。 - 特許庁

To provide a graphite fixture for brazing of a ceramic, which has a thermal expansion coefficient adjusted to match to that of a ceramic substrate or the like, enhanced hardness, improved wear resistance, and excellent oxidation resistance.例文帳に追加

熱膨張率をセラミック基板等と合わせるとともに、硬度を高め、耐摩耗性を向上させ、さらには耐酸化性に優れたセラミックろう付け用黒鉛治具を提供する。 - 特許庁

To provide a method for improving high-temperature performance of a component made of an organic matrix composite by providing a coating system which improves thermal oxidation stability and mechanical performance.例文帳に追加

熱的酸化安定性及び機械的性能を向上させるコーティング系を設けることにより、有機マトリックス複合材からなる部品の高温性能を向上できる方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, the battery reaction can be suppressed, generation of reaction heat can be reduced, and a thermal run away can be stopped, by making an oxidation-reduction reaction suppressor react prior to the battery reaction.例文帳に追加

また、電池反応に優先して酸化還元反応抑制剤が反応することで電池反応を抑制し反応熱の発生を低減し熱暴走を抑えることができる。 - 特許庁

To provide metal powder which has excellent oxidation resistance in a sinterable temperature range and excellent thermal shrinkage resistance so as to reduce the behavior of shrinkage at the time of sintering even when the metal powder is fine.例文帳に追加

微細な金属粉であっても、焼結可能な温度範囲での良好な耐酸化性、焼結時の収縮挙動の小さな耐熱収縮性に優れた金属粉を提供する。 - 特許庁

To obtain solid material for a magnet which has density higher than 7.45 g/cm^3 and is superior in magnetic characteristic, thermal stability and oxidation resistance, without using binder or depending on self-sintering.例文帳に追加

バインダを用いず、また自己焼結によらずに、７．４５ｇ／ｃｍ^３より高い密度で、磁気特性、熱安定性及び耐酸化性に優れる磁石用固形材料を得ること。 - 特許庁

To prevent the thermal degradation of a catalyst by easily advancing oxidation-reduction reaction to exhaust gas of a prescribed low temperature area from an engine by coating a catalyst carrier with fine powder containing tourmaline by specific wt.%.例文帳に追加

電気石を主成分とした触媒を用いたエンジン用排気浄化装置を、エンジンのマニフォルドから１メートル以上離して排気通路に装着し、触媒の劣化を防ぐ。 - 特許庁

A polysilicon layer is deposited on an upper surface of a substrate after forming a gate insulating film 14 in an element hole of a field insulating film 12, and thereon a silicon oxide layer is formed by thermal oxidation.例文帳に追加

フィールド絶縁膜１２の素子孔内にゲート絶縁膜１４を形成した後、基板上面にポリシリコン層を堆積し、その表面に熱酸化によりシリコンオキサイド層を形成する。 - 特許庁

To suppress oxidation deteriorating properties, to improve the thermal aging resistance and preservability and to improve further storage handleability in a polyethylenic resin raw material for water crosslinking.例文帳に追加

水架橋用ポリエチレン系樹脂粉粒体組成物材料において、酸化劣化性を抑制し、耐熱老化性と保存性を向上させ、さらに保管取り扱い性も改良する。 - 特許庁

To prevent OSF from being introduced into an electro-optical device board formed on a semiconductor layer, provided on the surface of an insulator layer in a thermal oxidation process, so as to provide an electro-optical device of high reliability.例文帳に追加

絶縁体層上の半導体層に形成された電気光学装置用基板において、熱酸化時にＯＳＦの導入を防ぎ、信頼性の高い電気光学装置を提供する。 - 特許庁

To provide ferritic stainless steel provided with strength, thermal fatigue resistance and oxidation resistance required as those of exhaust system parts used in a high temp. automotive exhaust gas environment of ≥700°C.例文帳に追加

７００℃以上の高温自動車排気ガス環境で使用される排気系部品として必要な強度、耐熱疲労特性および耐酸化性を備えたフェライト系ステンレス鋼の提供。 - 特許庁

First and second outermost layers 50a, 50c brought into contact with the floating gate 40 and the control gate 36, respectively, are composed of silicon oxide layers formed by thermal oxidation.例文帳に追加

フローティングゲート４０およびコントロールゲート３６にそれぞれ接する第１および第２の最外層５０ａおよび５０ｃは熱酸化法によって形成された酸化シリコン層からなる。 - 特許庁

Thermal transfer from the wall part along the leg part 60 is increased by the wall part 122 to prevent oxidation, and structural reinforcement is brought about to maintain an aerodynamic shape.例文帳に追加

壁部１２２により、脚部６０に沿った壁部からの熱移動が増加して酸化が防止されるとともに、構造的な補強がもたらされて空気力学的な形状が維持される。 - 特許庁

Next, by performing heating processing in a condition such as at 900°C for about 10 minutes in an oxygen atmosphere, thermal oxidation films 107 and 107a are formed on the silicon core 131 and the p-type silicon core 132a, respectively.例文帳に追加

次に、酸素雰囲気で、９００℃・１０分程度の条件で加熱処理することで、熱酸化膜１０７，１０７ａを、シリコンコア１３１およびｐ型シリコンコア１３２ａに形成する。 - 特許庁

After removal of the thermal oxidation film 117 by wet etching, a gate oxide film 120 and a polysilicon film 121 for a gate electrode are deposited and etched to obtain a desired gate electrode 122.例文帳に追加

ウエットエッチにより熱酸化膜１１７を除去した後、ゲート酸化膜１２０及びゲート電極用のポリシリコン膜１２１を堆積し、エッチングを行って所望のゲート電極１２２を得る。 - 特許庁

To realize a method of manufacturing a plasma display panel decreasing characteristic variation caused by deterioration by oxidation of a phosphor material in a thermal process in a production process.例文帳に追加

製造工程時の熱プロセスでの蛍光体材料の酸化による変質が原因と考えられる特性変化の小さいプラズマディスプレイパネルの製造方法を実現することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an oxide thin film, having bulk characteristics and interface characteristics nearly equal to the bulk characteristics and the interface characteristics of thermal oxidation.例文帳に追加

薄膜酸化物を製造する方法であって、熱酸化のバルク特性および界面特性に近いバルク特性および界面特性を有する薄膜酸化物を生成する方法が提供される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can prevent the occurrence of a crystal defect caused by thermal oxidation in a fabrication method, while reducing the capacitance caused by the gate electrode.例文帳に追加

ゲート電極起因の容量を低減し、かつ製造工程における熱酸化に起因する結晶欠陥の発生が抑制できる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A silicon oxide film is coated by the thermal oxidation method to the whole of a front face of a chamber substrate having the manifold, the restrictor and the chamber of a silicon single crystal substrate.例文帳に追加

シリコン単結晶基板で形成されたマニホールド、リストリクタ、チャンバを有するチャンバ基板の表面全体に、熱酸化法により酸化シリコン膜を被覆することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an olefinic thermoplastic elastomer composition that is not only stable to thermal oxidation degradation and photodegradation but very stable to discoloration due to a combustion gas and a NO_x gas.例文帳に追加

熱酸化劣化および光劣化に対して安定であるのみならず、燃焼ガスやＮＯx ガスによる変色に対しても優れた安定性を有するオレフィン系熱可塑性エラストマー組成物を得る。 - 特許庁

To manufacture a semiconductor device having an uniform oxide bulk without cavity and recessed part by preventing a silicon pillar from inclining in the case of thermal oxidation without increasing the diameter of the silicon pillar.例文帳に追加

シリコン柱を太くすることなく、熱酸化時にシリコン柱が傾くのを防ぐことにより、空洞や凹部のない均一な酸化物バルクを有する半導体装置を製造すること。 - 特許庁

Then, a gate oxide film 13B thinner than the trench oxide film 16 is formed in the trench 17 by thermal oxidation of the N-type semiconductor layer 12 including the inside of the trench 17.例文帳に追加

そして、トレンチ１７内を含むＮ−型半導体層１２を熱酸化することにより、トレンチ酸化膜１６よりも薄いゲート酸化膜１３Ｂをトレンチ１７内に形成する。 - 特許庁

On the surface of a silicon substrate 100, a silicon oxide film 110 is formed by thermal oxidation process and silver is implanted in the silicon oxide film 110 by negative ion implantation.例文帳に追加

シリコン基板１００の表面に、熱酸化工程により、シリコン酸化膜１１０を形成し、このシリコン酸化膜１１０中に、負イオン注入法によって銀を注入する。 - 特許庁

The low thermal conducting portion 120 is formed, by oxidizing partially the aluminum nitride substrate in an oxidation atmosphere and by forming a portion, containing aluminum oxide in the aluminum nitride substrate.例文帳に追加

酸化雰囲気中で窒化アルミニウム基板を部分的に酸化して、酸化アルミニウムを含む部分を窒化アルミニウム基板内に形成することによって低熱伝導部分１２０を形成する。 - 特許庁

The combination of the alloy and a thermal barrier coating can be used for producing a turbine member having satisfactory high temperature strength and satisfactory oxidation resistance while maintaining the other attendant properties.例文帳に追加

合金と断熱被覆との組み合わせは、他の関連する特性を維持しながら、良好な高温強度と良好な耐酸化性を有するタービン部材を作成するのに使用できる。 - 特許庁

To provide an electrolyte for an electrochemical device capable of suppressing the occurrence of hydrogen fluoride (HF) by thermal decomposition of a supporting electrolyte, and excelling in oxidation resistance.例文帳に追加

本発明は、支持塩の熱分解によるフッ化水素（ＨＦ）の発生を抑制でき、かつ耐酸化性に優れた電気化学デバイス用電解液を提供することを主目的とする。 - 特許庁

A deep groove 70 formed in the STI groove 60 is so deep as to reach the silicon substrate 1, and a thermal oxidation film 9 is formed on the concave inner surface of the deep groove 70.例文帳に追加

また、ＳＴＩ溝６０内に形成された深い溝７０はシリコン基板１に到達するまでの深さで形成され、その凹部内面には熱酸化膜９が形成されている。 - 特許庁

Nitrogen is introduced to the surface of the thermal oxidation film located in the peripheral circuit region, and the region of a semiconductor substrate 1 exposed to the memory cell region by performing plasma nitriding treatment.例文帳に追加

プラズマ窒化処理を施すことにより、周辺回路領域に位置する熱酸化膜とメモリセル領域に露出した半導体基板１の領域の表面に窒素が導入される。 - 特許庁

By using wood or a high molecular hygroscopic material as a hygroscopic material, the life of the insulation property of each cable conductor with respect to thermal oxidation is improved, and in addition an excellent hygroscopic and dehumidifying characteristic is obtained.例文帳に追加

吸湿材としては、木材や高分子吸収材を用いることにより、熱酸化に対する心線の絶縁性の寿命を改善するとともに優れた吸排湿特性を得る。 - 特許庁

Thereby a first insulation film 106 formed by a thermal oxidation process has a uniform thickness on the side end corner part 111 of the active layer, and local thinning does not occur.例文帳に追加

これにより、熱酸化工程により形成した第一の絶縁膜１０６は、活性層側端角部１１１においても一様な厚さとなり、局所的な薄膜化が生じない。 - 特許庁

To provide a heat storage member and a heat exchanger capable of reducing the size and the number of burners and executing short time heat exchanging, which is hardly damaged by thermal expansion, oxidation, corrosion or others.例文帳に追加

バーナーの小型化、少台数化、短時間の熱交換を図ることができ、しかも熱膨張、酸化、腐食等により損耗し難い蓄熱部材及び熱交換器を提供する。 - 特許庁

Although the thermal oxidation film 58 is also reduced in height as it is corroded in the height direction by the SAS etching, a gate edge part 59 is protected by the film 58 during the SAS etching.例文帳に追加

ＳＡＳエッチングに際し、熱酸化膜５８も高さ方向に浸食されて背が低くなるものの、ＳＡＳエッチングの間、該熱酸化膜５８によってゲートエッジ部５９は保護される。 - 特許庁

By rapid heating method, in which the temperature-increase rate is set so that the thicknesses of the silicon oxide films 64 will be film thicknesses, in which tunneling phenomenon is generated, the strong field drift layer 6 is formed by a thermal oxidation of a porous polycrystalline silicon layer formed by a positive electrode oxidation treatment.例文帳に追加

強電界ドリフト層６は、陽極酸化処理により形成された多孔質多結晶シリコン層を、シリコン酸化膜６４の厚さが電子のトンネリング現象が発生する膜厚となるように昇温速度を設定した急速加熱法によって熱酸化することで形成する。 - 特許庁

The lubricating oil composition has excellent shear stability, superior oxidation stability and thermal stability, and a narrow fluctuation width of kinetic viscosity and a viscosity index even at a high temperature oxidation, and is suitable as gear oil, transmission oil, lubricating oil for an internal combustion engine, hydraulic working oil and compressor oil.例文帳に追加

この潤滑油組成物は、剪断安定性が優れ、優良な酸化安定性及び熱安定性があり、高温酸化時においても動粘度及び粘度指数の変化の変動幅が少なく、ギヤ油、変速機油、内燃機関用潤滑油、油圧作動油、圧縮機油として好適である。 - 特許庁

The lubricating oil composition has excellent shear stability, superior oxidation stability and thermal stability, and a narrow fluctuation width of kinetic viscosity and a viscosity index even at a high temperature oxidation, and is suitable as gear oil, transmission oil, lubricating oil for an internal combustion engine, hydraulic working oil and compressor oil.例文帳に追加

これらの潤滑油組成物は、剪断安定性が優れ、優良な酸化安定性及び熱安定性があり、高温酸化時においても動粘度及び粘度指数の変化の変動幅が少なく、ギヤ油、変速機油、内燃機関用潤滑油、油圧作動油、圧縮機油として好適である。 - 特許庁

A die having recessed part of square cone shape is fabricated by applying anisotropic heat oxidation on a silicon substrate, and by applying thermal oxidation on this, an oxidized film of 0.8 μm or more is formed, and by making each face of the recessed part of square cone shape a convex face, the tip shape of the recessed part is made sharp.例文帳に追加

シリコン基板を異方性エッチングして四角錐形状の凹部を有した型を作製し、これを熱酸化することにより０．８μｍ以上の酸化膜を形成し、四角錐形状の凹部の各面を凸面とすることにより、凹部の先端形状を鋭利にする。 - 特許庁

The oxidation gas passage part is divided into a first passage part in a prescribed range, including an entrance, from an entrance to an exit of the oxidation gas passage part and a second passage part consisting of the remainder other than the first passage part, the first passage part having a larger thermal expansion coefficient than that of the second passage part.例文帳に追加

酸化ガス流路部は、酸化ガス流路部の入口から出口までの範囲のうち、入口を含む所定の範囲の第１流路部と、第１流路部を除く第２流路部と、に区分され、第１流路部の熱膨張係数が第２流路部の熱膨張係数に比べて大きい。 - 特許庁