| 意味 | 例文 (664件) |
Thermal oxidationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 664件
In the formation of an element isolation insulating film 6, first, a silicon oxide film 6a of the thickness of about 5 nm is formed by thermal oxidation.例文帳に追加
素子分離絶縁膜６の形成に当たり、先ず、熱酸化法により、厚さが５ｎｍ程度のシリコン酸化膜６ａを形成する。 - 特許庁
A CVD oxidation film 3 is formed on the surface of a substrate 1 without directly forming the thermal oxide film on the surface of the substrate 1.例文帳に追加
基板１表面上に直接、熱酸化膜を形成するのではなく、基板１表面上に、ＣＶＤ酸化膜３を形成する。 - 特許庁
The hydrogen chloride formed in the reaction is converted by thermal oxidation into chlorine and this chlorine is recirculated for the preparation of phosgene.例文帳に追加
反応で形成された塩化水素は熱的酸化により塩素に変換され、その塩素はホスゲンを調製するために再循環される。 - 特許庁
The thermal oxidation process is carried out under an atmosphere in which a substrate surface temperature is ≥850°C, and water concentration is ≥7% and ≤20%.例文帳に追加
熱酸化工程は、基板表面温度を８５０℃以上とし、水分濃度が７％以上で２０％以下の雰囲気下で行う。 - 特許庁
To suppress variations in cell characteristics due to widening of a diffusion layer as a bit line in a thermal process at the time of gate oxidation.例文帳に追加
ゲート酸化時の熱工程で、ビット線としての拡散層が広がることによるセル特性のばらつきを抑制することを課題とする。 - 特許庁
To provide a die or the like having a surface film simultaneously improving thermal crack resistance and oxidation-resistance and having a long life.例文帳に追加
耐熱亀裂性及び耐酸化性を同時に向上させる表面被膜を有する長寿命の金型等を提供することである。 - 特許庁
A silicon nitride film 5 exhibiting a high oxidation barrier characteristic is formed selectively on the surface of a silicon substrate 1 by subjecting the substrate 1 to a direct thermal nitriding process or the like.例文帳に追加
シリコン基板表面に選択的に酸化バリア性の高いシリコン窒化膜をシリコン基板の直接熱窒化等で形成する。 - 特許庁
An RTO (rapid thermal oxidation) film 11 is formed along a control gate electrode CG, insulating film 7 between gates and the sidewall of a floating gate electrode FG.例文帳に追加
ＲＴＯ膜１１が、制御ゲート電極ＣＧ、ゲート間絶縁膜７、浮遊ゲート電極ＦＧの側壁に沿って形成されている。 - 特許庁
The deposition and thermal oxidation processing of the amorphous silicon layer is repeated so that multilayer multicrystalline silicon/silicon dioxide laminated layers are formed.例文帳に追加
非晶質シリコン層の堆積及び熱酸化処理は繰り返され、複数層の多結晶シリコン／二酸化シリコン積層膜を形成する。 - 特許庁
An amorphous Si film 4 is formed on a first SiO2 film 3 formed by thermal oxidation on a p-type Si substrate 1.例文帳に追加
ｐ型Ｓｉ基板１上の、熱酸化によって形成された第１のＳｉＯ_２膜３上に、非晶質Ｓｉ膜４を形成する。 - 特許庁
The anodization to form the aluminum oxide is performed through treatment at low temperature unlike thermal oxidation, and the use of a glass substrate is made possible.例文帳に追加
酸化アルミニウムを形成するための陽極酸化処理は、熱酸化と異なり低温処理であるため、ガラス基板の使用が可能である。 - 特許庁
The support 12 and the thermal oxidation film 17 on the surface of the support are removed, and a second semiconductor layer 6 is exposed, thus obtaining the SOI structure.例文帳に追加
その後、支持体１２とその表面の熱酸化膜１７とを除去し、第２半導体層６を露出させ、ＳＯＩ構造を得る。 - 特許庁
In a step (e), a thermally oxidized porous polysilicon layer 6 is formed by oxidizing the porous polysilicon layer 5 by a rapid thermal oxidation method.例文帳に追加
急速熱酸化法によって、多孔質ポリシリコン層５を酸化して熱酸化された多孔質ポリシリコン層６を形成する（図１（ｅ））。 - 特許庁
To provide a ferritic stainless steel which has both of superior thermal fatigue characteristics and oxidation resistance though Mo, W and Cu are not added thereinto.例文帳に追加
Ｍｏ，ＷおよびＣｕを添加することなく優れた熱疲労特性と耐酸化性を兼備したフェライト系ステンレス鋼を提供する。 - 特許庁
After the second transistor formation region of the laminated film is selectively removed, a second thermal oxidation is performed to form a gate insulating film 13 of the second MOS transistor, while a second thermal-oxidation film 13a in the gate insulating film 12 of the first MOS transistor is formed at the same time.例文帳に追加
この積層膜のうち第２トランジスタ形成領域２の部分を選択的に除去した後、第２回目の熱酸化を行なって、第２ＭＯＳトランジスタのゲート絶縁膜１３を形成すると同時に、第１ＭＯＳトランジスタのゲート絶縁膜１２のうちの第２の熱酸化膜１３ａを形成する。 - 特許庁
To provide a silicon nitride-combined SiC refractory which has heat resistance, thermal shock resistance, oxidation resistance, and high strength, and is excellent in creep resistance and thermal conductivity; and to provide a method for producing the same.例文帳に追加
耐熱性、耐熱衝撃性及び耐酸化性を有するとともに、高強度で且つ耐クリープ性、熱伝導性に優れた窒化珪素結合ＳｉＣ耐火物及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pump part for molten metal of long service life having a surface excellent in wear resistance, thermal impact resistance, thermal fatigue resistance, impact resistance, and oxidation resistance by molten metal more than before.例文帳に追加
溶融金属用ポンプ部品の表面が、従来よりも耐摩耗性、耐熱衝撃性、耐熱疲労性、耐衝撃性、耐溶融金属による酸化性に優れた長寿命のポンプ部品を提供する。 - 特許庁
To provide a thermal insulator capable of surely preventing contamination of a molten steel caused by oxidation and reduction of the thermal insulator and a continuous casting method for obtaining an ingot excellent in cleanness.例文帳に追加
本発明は、空気酸化と保温材の反応に起因する溶鋼汚染を確実に防止できる保温材と清浄性の優れた鋳片を得るための連続鋳造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide an alloy powder for thermal spraying, which is used for forming a thermal-sprayed film superior in heat resistance and high-temperature oxidation resistance on a substrate surface, and to provide an advantageous manufacturing method therefor.例文帳に追加
基材表面に耐熱性、耐高温酸化特性に優れた溶射皮膜を形成するために用いられる溶射用合金粉末を提供するとともにそれの有利な製造方法を提案する。 - 特許庁
To provide a thermal decomposition apparatus for polymer-based waste, which promotes thermal decomposition reaction of polymer-based waste, suppresses graphitization of carbonized material left thereafter and inhibits oxidation of the carbonized material.例文帳に追加
高分子系廃棄物の熱分解反応を促進させ、その後に残る炭化物の黒鉛化を抑制し、該炭化物の酸化を抑えることも可能な高分子系廃棄物の熱分解装置を提供する。 - 特許庁
To provide a thermal insulation coating material for carbon-containing refractories which prevents the surface oxidation of the carbon-containing refractories during high-temperature heating and forms a thermal insulation layer.例文帳に追加
本発明の目的は、高温加熱時にカーボン含有耐火物の表面酸化を防止すると共に断熱層を形成することができるカーボン含有耐火物の断熱コーティング材を提供することにある。 - 特許庁
The hydrocarbon reforming method is provided which comprises allowing a partial oxidation reaction to concur with a steam reforming reaction and utilizing the thermal energy generated from the partial oxidation reaction as an internal heat source to thermally balance the steam reforming reaction and the partial oxidation reaction.例文帳に追加
さらに、水蒸気改質反応に部分酸化反応を併発させ、部分酸化反応によって生じる熱エネルギーを内部熱源として用いて、水蒸気改質反応と部分酸化反応との熱バランスをとることを特徴とする炭化水素改質方法を提供する。 - 特許庁
To provide a ferritic stainless steel which is excellent in any of oxidation resistance (including resistance to oxidation with water vapor), thermal fatigue characteristic and high-temperature fatigue characteristic by preventing the deterioration of the oxidation resistance due to the addition of Cu without adding expensive elements such as Mo and W.例文帳に追加
ＭｏやＷ等の高価な元素を添加することなく、かつ、Ｃｕ添加による耐酸化性の低下を防止することによって、耐酸化性（耐水蒸気酸化性を含む）、熱疲労特性および高温疲労特性のいずれにも優れるフェライト系ステンレス鋼を提供する。 - 特許庁
In addition, since the anodic-oxidation can be performed at a room temperature unlike the case of thermal oxidation, the oxide film can be formed easily and, at the same time, the quality of the inner part of the silicon carbide substrate not forming the oxide film can be maintained.例文帳に追加
また、熱酸化法と異なり室温で処理可能であるため、酸化膜を簡易に形成できるとともに、炭化ケイ素基板において酸化膜を形成しない内層部分の品質を保持することができる。 - 特許庁
When the grooves are not completely buried by the thermal oxidation treatment [Fig.1(d)], the conductive regions 101, 102 connected to both sides of the oxidation region 301 are brought into a state supported by a spring consisting of a zigzag beam.例文帳に追加
熱酸化処理で溝が完全に埋められなかった場合（ｄ）、酸化領域３０１の両側に接続する導電性領域１０１，１０２は、つづら折れ形状の梁からなるばねにより支持される状態となる。 - 特許庁
Thereafter, at the time of forming a thermal oxidation film 21 on an inner wall of a groove 5, an exposed part of the silicon layer 16 is also oxidized so that a polycrystalline silicon oxidation region 21a is formed relatively wide.例文帳に追加
その後、溝５の内壁に熱酸化膜２１を形成する際にイオン注入多結晶シリコン層１６の露出部分も酸化され、多結晶シリコン酸化領域２１ａが比較的広い形成幅で形成される。 - 特許庁
To provide a heat transfer element for a manifold capable of restraining thermal fatigue of a manifold body and attaining suitable high-temperature strength and oxidation resistance.例文帳に追加
マニホールド本体の熱疲労を抑制でき、かつ、高温強度および耐酸化性が良好であるマニホールド用熱伝達体を提供する。 - 特許庁
In the 2nd area 52, a thermal oxidation film 8 has constant thickness, so that a height difference is generated at the remaining part of the substrate 1.例文帳に追加
第２の領域５２においては、熱酸化膜８が一定の厚みをもつため、半導体基板１の残存する部分に高低差ができる。 - 特許庁
Next, a thermal oxidation treatment is executed to oxidize parts of the electrode films WL facing the through-hole 20b to form gate insulation films 22.例文帳に追加
次に、熱酸化処理を行い、電極膜ＷＬにおける貫通ホール２０ｂに面した部分を酸化し、ゲート絶縁膜２２を形成する。 - 特許庁
To provide a microchannel apparatus that has a supported catalyst resistant to corrosion and oxidation under thermal cycles, and flaking and spalling.例文帳に追加
熱サイクル下における腐食、酸化、ならびにフレーキングやスポーリングに対して耐性を有する担持触媒を備えたマイクロチャネル装置を提供する。 - 特許庁
To suppress the crystallization of a high dielectric gate insulating film when repairing damage to a metallic gate electrode (metal electrode) by thermal oxidation.例文帳に追加
金属製のゲート電極（メタル電極）のダメージを熱酸化により修復する際の高誘電率ゲート絶縁膜の結晶化を抑制する。 - 特許庁
Next, a liner oxide layer is formed on the surface of the trench by thermal oxidation such that the linear oxide layer near the SiON layer is in a bird's beak form.例文帳に追加
次に、線形パッド酸化層を熱酸化により、トレンチの表面に形成し、線形パッド酸化層を、SiON層近くでクチバシ型に形成する。 - 特許庁
To provide ferritic stainless steel having excellent resistance to both oxidation and thermal fatigue, without the addition of expensive elements such as molybdenum and tungsten.例文帳に追加
ＭｏやＷ等の高価な元素を添加することなく、耐酸化性と耐熱疲労特性とが共に優れるフェライト系ステンレス鋼を提供する。 - 特許庁
An unnecessary layer formed in a part where a gate insulating layer 8 is formed is removed, and the gate insulating layer 8 is formed by the thermal oxidation method.例文帳に追加
その後、ゲート絶縁層８を形成する部分に形成された余分な層を除去し、熱酸化法によりゲート絶縁層８を形成する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device for preventing the oxidation of a trench side wall, and for forming a thermal oxide film on a substrate.例文帳に追加
トレンチ側壁の酸化を防止しつつ基板上に熱酸化膜を形成することができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
Each structure subjected to thermal oxidation and made of silicon is substituted for silicon oxide, thereby forming respective optical elements on the substrate surface in a lump.例文帳に追加
そして熱酸化し、シリコンからなる各構造体を酸化シリコンに置き換えることにより、各光学素子を基板面上に一括形成する。 - 特許庁
To provide an excellent oxidation resistance coating which is utilized as an under-coating for TBC (Thermal Barrier Coating) of a high-temperature equipment component such as a turbine blade.例文帳に追加
タービンブレード等の高温機器部品のＴＢＣ用アンダーコーティングとして利用できる良好な耐酸化性を有するコーティングを提供する。 - 特許庁
(j): A field oxide film 22 is made by performing the LOCOS treatment using the silicon nitride film 13 patterned in specified form as a thermal oxidation mask.例文帳に追加
（ｊ）所定形状にパターニングした窒化シリコン膜１３を熱酸化マスクとしたＬＯＣＯＳ処理を行ってフィールド酸化膜２２を形成する。 - 特許庁
To provide a method for producing a high-quality ester, especially the ester having excellent thermal oxidation stability, and further to provide the ester obtained by the method.例文帳に追加
高品質のエステル、特に熱酸化安定性に優れたエステルを製造する方法、および該方法により得られるエステルを提供すること。 - 特許庁
To provide a new polyether ketone which has a high mechanical strength, high toughness, excellent electric properties, excellent thermal oxidation stability and excellent solubility.例文帳に追加
高い機械的強度および強靭性を有し、電気的特性、熱酸化安定性および溶解性に優れた新規なポリエーテルケトンを提供する。 - 特許庁
The first substrate 51 is formed by thermal decomposition an oxidation reaction of a film-forming material containing chlorine on a piece of glass at 60°C or higher.例文帳に追加
第１の下地膜は、６００℃以上のガラス上において、塩素を含む被膜形成原料の熱分解酸化反応により成膜する。 - 特許庁
The silicon oxide 31 easily grows on the silicon 11a' of the bottom surface of the trench, and has difficulty in growing on the thermal oxidation film 12b of the wall surface.例文帳に追加
この酸化シリコン３１は、トレンチ底面のシリコン１１ａ’上には成長しやすく、壁面の熱酸化膜１２ｂ上には成長しにくい。 - 特許庁
To attain early temperature rise and to suppress the particle growth of noble metal by improving the thermal characteristics of an oxidation catalyst arranged in a prior stage.例文帳に追加
前段に配置される酸化触媒の熱特性を改善し、早期に昇温されしかも貴金属の粒成長を抑制できるようにする。 - 特許庁
A polysilazane film as the second element isolation insulating film 32 is applied over the entire surface so as to embed the concave part 31v and is densified by thermal oxidation.例文帳に追加
第２素子分離絶縁膜３２としてのポリシラザン膜が窪み部３１ｖを埋めるように全面塗布され、熱酸化により緻密化される。 - 特許庁
To suppress the crystallization of a high dielectric gate insulating film when repairing the damage of a gate electrode (metal electrode) formed of a metal material by thermal oxidation.例文帳に追加
金属製のゲート電極（メタル電極）のダメージを熱酸化により修復する際の高誘電率ゲート絶縁膜の結晶化を抑制する。 - 特許庁
To provide a method of growing a thin oxynitride film on a substrate by adding a high concentration nitrogen to an oxynitrid film using a water-vapor thermal-oxidation process.例文帳に追加
水蒸気熱酸化を利用して酸窒化膜へ高濃度の窒素を加え、基板上へ酸窒化物薄膜を成長させる方法を提供する。 - 特許庁
To expose the end face of a protrusion of a heat sink to the side of a package without causing thermal oxidation or cracking the package and with a simple process only.例文帳に追加
ヒートシンクの突出部の端面を、熱酸化やパッケージのクラックの発生を招くことなくパッケージの側面に露出させ、しかも簡単な工程で済ませる。 - 特許庁
To provide a ferritic stainless steel which has all of superior thermal fatigue characteristics, oxidation resistance and toughness though Mo, W and Cu are not added thereinto.例文帳に追加
Ｍｏ，ＷおよびＣｕを添加することなく優れた熱疲労特性、耐酸化性および靭性の全てを兼備したフェライト系ステンレス鋼を提供する。 - 特許庁
To provide a fluid composition for a fan clutch, excellent in thermal oxidation stability and shear stability under a high temperature condition, and small in viscosity change for a long period.例文帳に追加
高温下において熱酸化安定性及びせん断安定性に優れ、長期間に亘り粘度変化の少ないファンクラッチ用流体組成物を提供する。 - 特許庁
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