「Thermal oxidation」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The SOI wafer is subjected to rounding oxidation by thermal oxidation treatment, and a silicon oxide film 9 is formed on a region corresponding to a bottom surface and a side surface of the trench 7 in the BOX layer 3.例文帳に追加

次に、ＳＯＩウエハに熱酸化処理を施して丸め酸化を行い、ＢＯＸ層３における溝７の底面及び側面に相当する領域にシリコン酸化膜９を形成する。 - 特許庁

Also, the surface of the semiconductor thin film 5 is subjected to thermal oxidation under the pressurized atmosphere, containing the gas having the oxidation capability, thus nearly discharging hydrogen remaining on the semiconductor thin film 5 by heating.例文帳に追加

又、酸化能力が有る気体を含む加圧雰囲気下で半導体薄膜５の表面を熱酸化する為、半導体薄膜５に残留していた水素は加熱でほとんど放出される。 - 特許庁

An insulator film 55 consisting of zirconium oxide is formed on an elastic layer 50 (silicon dioxide film 51) by carrying out thermal oxidation of a zirconium layer, and then annealing of the insulator film 55 is carried out at a temperature below the highest temperature when thermal oxidation of the zirconium layer is carrier out.例文帳に追加

弾性膜５０（二酸化シリコン膜５１）上に、ジルコニウム層を熱酸化して酸化ジルコニウムからなる絶縁体膜５５を形成し、その後、ジルコニウム層を熱酸化する際の最高温度以下の温度で、絶縁体膜５５をアニール処理する。 - 特許庁

The optical waveguide consists of a silicon substrate and a thermal oxidation film to be a lower clad film formed on the substrate, and the thermal oxidation film is formed by thermally oxidizing the silicon substrate and contains aluminum.例文帳に追加

およびシリコン基板と、該基板上に形成された下側クラッド膜となる熱酸化膜から成る光導波路基板であって、前記熱酸化膜が、シリコン基板を熱酸化させて形成したアルミニウムを含有する熱酸化膜から成る光導波路基板。 - 特許庁

A silicon oxide film for gate insulating films 25b, 25d of a control transistor and a high withstand voltage MISFET is formed by thermal oxidation and by CVD after the thermal oxidation, and the silicon oxide film is removed in a MISFET formation region 1B, and thereafter a silicon oxide film for a gate insulating film 25c is formed in the MISFET formation region 1B by thermal oxidation processing.例文帳に追加

制御用トランジスタおよび高耐圧用のＭＩＳＦＥＴのゲート絶縁膜２５ｂ，２５ｄ用の酸化シリコン膜を熱酸化と該熱酸化後のＣＶＤにより形成してから、この酸化シリコン膜をＭＩＳＦＥＴ形成領域１Ｂで除去し、その後、熱酸化処理によりＭＩＳＦＥＴ形成領域１Ｂにゲート絶縁膜２５ｃ用の酸化シリコン膜を形成する。 - 特許庁

In the second wet oxidation process, oxidation of the epitaxial layer 1b is made to progress in the state that a thermal treatment temperature of the above wet oxidation is raised up to about 1050°C, and the trench part LOCOS oxide film 6 of about 950 nm in thickness is finally formed.例文帳に追加

第２のウエット酸化工程では、上記ウエット酸化の熱処理温度を、約１０５０℃に上げた状態でエピタキシャル層１ｂの酸化を進行させ、最終的に膜厚が９５０ｎｍ程度の溝部ＬＯＣＯＳ酸化膜６を形成する。 - 特許庁

An oxidation-resistant mask film 59 coating the surface of the low breakdown-strength element region 52 is formed, and thermal oxidation treatment is conducted using the oxidation-resistant mask film 59 as a mask, thus forming a gate oxide film 55 in the high breakdown-strength element region 51.例文帳に追加

低耐圧素子領域５２の表面を覆う耐酸化性マスク膜５９が形成されて、その耐酸化性マスク膜５９をマスクとする熱酸化処理が行われることにより、高耐圧素子領域５１にゲート酸化膜５５が形成される。 - 特許庁

It has a further step for oxidizing a side surface section of the gate electrode 5 by a thermal oxidation process to form an insulating region 9.例文帳に追加

更に、ゲート電極５の側面表層部を熱酸化法で酸化し、絶縁領域９を形成する工程を有する。 - 特許庁

In the through-hole 105c, a through wiring 115 as a conductive member is provided inside the thermal oxidation film 113.例文帳に追加

貫通孔１０５ｃ内には、熱酸化膜１１３の内側に導電性部材としての貫通配線１１５が設けられている。 - 特許庁

To provide a plasma oxidation treatment method which can form a silicon oxide film having the quality equal to or higher than a thermal oxide film.例文帳に追加

熱酸化膜と同等以上の膜質を有するシリコン酸化膜を形成できるプラズマ酸化処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive steam turbine member superior in oxidation resistance, without using alloy coating such as thermal spray and a sintered body.例文帳に追加

溶射や焼結体などの合金コーティングを用いることなく低コストで、耐酸化性に優れた蒸気タービン部材を提供する。 - 特許庁

A second insulating film larger in film thickness than the first insulating film is formed by thermal oxidation on a side face of the trench internal wall.例文帳に追加

また、トレンチ内壁の側面上に熱酸化により第一の絶縁膜よりも膜厚が薄い第二の絶縁膜を形成する。 - 特許庁

To provide an electrolyte having high conductivity and superior thermal stability and oxidation stability, and a battery using the same.例文帳に追加

導電率が高く、熱的安定性および酸化安定性に優れた電解質およびそれを用いた二次電池を提供する。 - 特許庁

To provide a method which can accurately determine the presence or absence of a carbon pollution of a thermal oxidation film formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上に形成された熱酸化膜の炭素汚染の有無を精度良く判定できる方法を提供する。 - 特許庁

To improve a thermal efficiency of a reformer of a self-oxidation internal heating-type steam reforming system and make the reformer compact.例文帳に追加

自己酸化内部加熱型の水蒸気改質システムにおいて、その改質装置の熱効率を向上し、装置をコンパクト化する。 - 特許庁

A method for determining an impurity pollution includes simultaneously treating of a substrate to be determined at pretreating time before thermal oxidation of a semiconductor substrate or a semiconductor material (a).例文帳に追加

判定用基板を半導体基板もしくは半導体材料の熱酸化前の前処理時に同時処理する（ａ）。 - 特許庁

To increase the breakdown voltage of a thermal oxidation film used for a gate insulating film or the like and to increase the operation reliability of a device.例文帳に追加

ゲート絶縁膜等に使用される熱酸化膜の絶縁耐圧を向上させ、デバイスの動作信頼性の向上を図る。 - 特許庁

To enable spraying of a coating low in the degree of oxidation and having a high density by high-speed thermal spraying of particles being heated but being not melted.例文帳に追加

加熱されるが融解はしない粒子の高速熱スプレーにより、低酸化で、高密度のコーティングのスプレーを可能とする。 - 特許庁

To provide an acrylonitrile polymer having high thermal oxidation reactivity and suitable as a raw material for a carbonaceous material such as carbon fiber.例文帳に追加

炭素繊維等の炭素材料の原料に適した熱酸化反応性の高いアクリロニトリル系重合体を提供する。 - 特許庁

A thermal oxidation film 113 is formed on a wall surface of the n-type semiconductor substrate 105 defining the through-hole 105c.例文帳に追加

貫通孔１０５ｃを画成するｎ型半導体基板１０５の壁面上には、熱酸化膜１１３が形成されている。 - 特許庁

The trench 2 is as deep as 5 μm or above, and the insulating region 5 formed after thermal oxidation is as wide as 5 μm or above.例文帳に追加

また、トレンチ２の深さは５μｍ以上であり、熱酸化後に形成される絶縁領域５の幅は５μｍ以上である。 - 特許庁

To provide an acrylonitrile-based polymer suitable for a raw material for a carbon material such as carbon fiber, and having stable thermal oxidation reactivity.例文帳に追加

炭素繊維等の炭素材料の原料に適した熱酸化反応性の安定したアクリロニトリル重合体を提供する。 - 特許庁

To provide an acrylonitrile-based polymer suitable for a raw material for a carbon material such as carbon fiber, and having stable thermal oxidation reactivity.例文帳に追加

炭素繊維等の炭素材料の原料に適した熱酸化反応性の安定したアクリロニトリル系重合体を提供する。 - 特許庁

An STI groove 60 is formed on the N-type epitaxial layer 3, and a thermal oxidation film 6 is formed on the concave inner surface of the STI groove 60.例文帳に追加

Ｎ型エピタキシャル層３にはＳＴＩ溝６０が形成され、その凹部内面には熱酸化膜６が形成されている。 - 特許庁

Subsequently, an interlayer insulating film 108 is formed on the first gate electrode by thermal oxidation and a second gate electrode is formed.例文帳に追加

そして、熱酸化によって第１ゲート電極上に層間絶縁膜１０８を形成した後、第２ゲート電極を形成する。 - 特許庁

This constitution provides a low cost exhaust part without reducing oxidation resistance and thermal resistance at the high temperature of the joint.例文帳に追加

これにより、接合部の高温での耐酸化性及び耐熱性を低下させることなく、低コストな排気系部品が得られる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a quartz optical waveguide substrate by which a thermal oxidation film being a lower clad film can rapidly be produced with high quality by a thermal oxidization method and to provide an optical waveguide.例文帳に追加

熱酸化法で下部クラッド膜となる熱酸化膜を高品質かつ迅速に作製できる石英系光導波路基板の製造方法および光導波路基板を提供する。 - 特許庁

To remarkably enhance the oxidation resistance of a thermal barrier coating material by providing the oxygen ingress barrier effect to a zirconium oxide layer formed on the outermost surface of a thermal barrier coating layer.例文帳に追加

遮熱コーティング層の最表面に形成されるジルコニウム酸化物層に酸素侵入の遮蔽効果を付与し、遮熱コーティング材料の耐酸化性を著しく向上させる。 - 特許庁

The surface films release the α rays from thorium included in the garnet and are capable of effectively suppressing the deterioration of the oil W by thermal oxidation, thermal polymerization, hydrolysis, etc., of the oil.例文帳に追加

表面被膜は、ざくろ石に含まれるトリウムからのα線を放出し、油Ｗの熱酸化、熱重合、加水分解等による劣化を効果的に抑制することができる。 - 特許庁

To provide the peeling of a thermal insulation layer (the second layer) by relaxing thermal stress between metal and ceramics, and further to suppress the oxidation and corrosion of a metallic layer and to prolong the life of the film.例文帳に追加

金属とセラミックスとの間の熱応力を緩和するとともに、金属層の酸化及び腐食を抑制して、遮熱層（第２層）の剥離を防止し、皮膜の長寿命化を図る。 - 特許庁

To provide a powder of a boride-based cermet for thermal spraying, which is used for forming a thermal-sprayed coating film that is superior in hardness, heat resistance, wear resistance, oxidation resistance and corrosion resistance against molten metal and further has more improved thermal shock resistance and toughness.例文帳に追加

硬度、耐熱性、耐摩耗性、耐酸化性、および耐溶融金属腐食性に優れ、しかも耐熱衝撃性および靭性をさらに向上させた溶射被膜を形成するための硼化物系サーメット溶射用粉末を提供する。 - 特許庁

To provide boride-based cermet powder for thermal spraying for forming a thermal-sprayed coating film capable of sufficiently enhancing not only the hardness, the wear resistance, the thermal shock resistance, the oxidation resistance, and the heat resistance, but also the molten metal corrosion resistance, and the acid resistance.例文帳に追加

硬度、耐摩耗性、耐熱衝撃性、耐酸化性、耐熱性だけでなく、耐溶融金属腐食性および耐酸性を十分に向上させた溶射被膜を形成するための硼化物系サーメット溶射用粉末を提供する。 - 特許庁

A second thermal oxidation film is formed even at the surface of the thin oxide film 20, and the same conditions are selected for interfaces between the first thermal oxide film and second thermal oxidation films, and the substrate to form a flat substrate having no step on the surface after the first thermal oxide film and second oxide film are removed.例文帳に追加

この第二の熱処理により薄い酸化膜２０の表面部分にも第二の熱酸化膜が形成され、このとき第一の熱酸化膜及び第二の熱酸化膜の基板との界面が等しく条件を選択することによって、第一の熱酸化膜と第二の熱酸化膜を除去した後には表面には段差のない平坦な基板を形成することが可能となる。 - 特許庁

To provide a cooking oil oxidation suppressing device for fryers exerting superior oxidation suppressing effects and thermal deterioration suppressing effects on the cooking oil using an existing batch type fryer and a large-scale automatic fryer as they are.例文帳に追加

既存のバッチ式フライヤー及び大型自動フライヤーをそのまま使用して食用油の酸化抑制効果及び熱劣化抑制効果の優れたフライヤーの食用油酸化抑制装置を提供する。 - 特許庁

A silicon oxide film 10 is formed on the rear surface and each end face of an n-type single crystal silicon substrate 1 by subjecting the rear surface of the n-type single crystal silicon substrate 1 to thermal oxidation or ozone oxidation.例文帳に追加

ｎ型単結晶シリコン基板１の裏面を熱酸化またはオゾン酸化することにより、ｎ型単結晶シリコン基板１の裏面および各端面に酸化シリコン膜１０を形成する。 - 特許庁

To constrain flow velocity of exhaust gas flowing into a prestage oxidation catalyst by limiting exhausting flow rate to the prestage oxidation catalyst in order to moderate oxidation reaction in the prestage oxidation catalyst, while avoiding thermal degradation of the prestage oxidation catalyst in an exhaust purification device by exhaust gas within broad exhaust temperature zone from low temperature to high temperature in an internal combustion engine.例文帳に追加

内燃機関において、低温から高温までの幅広い排気温度域で、排気による排気浄化装置における前段酸化触媒の熱劣化を回避しつつ、更には前段酸化触媒における酸化反応を適度なものとするために前段酸化触媒への排気流量を制限することにより、前段酸化触媒に流れ込む排気の流速を抑制することにある。 - 特許庁

To provide a long-lasting die which has a surface coating film and has improved thermal crack resistance and oxidation resistance.例文帳に追加

耐熱亀裂性及び耐酸化性を同時に向上させる表面被膜を有する長寿命の金型等を提供することである。 - 特許庁

A first time of thermal oxidation treatment is carried out to form a first gate-oxide-film 107 (film thickness of 45 Å) in regions A, B respectively.例文帳に追加

１回目の熱酸化処理を行い，領域Ａ，Ｂそれぞれに第１ゲート酸化膜１０７（膜厚４５Å）を形成する。 - 特許庁

To provide a lubricant composition for an internal-combustion engine, which is excellent in thermal and oxidation stability and achieves satisfactory long-drain properties.例文帳に追加

熱・酸化安定性に優れ、十分なロングドレイン化を達成することが可能な内燃機関用潤滑油組成物を提供する。 - 特許庁

The metallic member for an image display device having a high aperture ratio and high reliability, without thermal damage (deformation, oxidation) can be obtained at low cost.例文帳に追加

開口率が高く、熱損傷(変形、酸化)が無く、絶縁信頼性の高い画像表示装置用金属部材が安価に得られる。 - 特許庁

To restrain bump of a semiconductor element without making a thermal oxidation film thick which is formed in the side wall of a trench where an element isolation film is embedded.例文帳に追加

素子分離膜が埋め込まれる溝の側壁に形成される熱酸化膜を厚くすることなく、半導体素子のハンプを抑制する。 - 特許庁

When the temperature is raised from the temperature of the first heat treatment to the temperature of the thermal oxidation, the temperature begins to rise at a temperature rising rate of ≤4°C/minute.例文帳に追加

第１の熱処理の温度から熱酸化の温度に昇温する際に、４℃／分以下の昇温速度で昇温を開始する。 - 特許庁

A thermal oxidation film is formed as an underlying insulating film 103 on a substrate 100 and irregularities 105a-105d on the surface are smoothed.例文帳に追加

基板１００上に、下地絶縁膜１０３として熱酸化膜を形成し、表面の凹凸１０５ａ〜１０５ｄを平滑化する。 - 特許庁

The base body 31 is provided with a silicon oxide film formed by thermal oxidation treatment on the surface of a silicon substrate with the penetration holes 32 formed.例文帳に追加

基体部３１は、貫通孔３２を形成したシリコン基板の表面に、熱酸化処理によりシリコン酸化膜を形成して作製する。 - 特許庁

To provide a heat resistant member which drastically suppresses an oxidation deterioration, thermal deterioration, and carburization deterioration and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

酸化劣化および熱劣化の抑制に優れ、且つ浸炭劣化の抑制にも優れた耐熱部材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁