意味 | 例文 (664件) |
Thermal oxidationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 664件
An insulation film (a gate oxide film) is formed on the surface of a monosrystal layer of Si, Ge, or the like comprising not less than two kinds of semiconductor on the semiconductor wafer by thermal oxidation in an atmosphere including reducer and oxidizing agent as oxidation species to the monocrystal layer.例文帳に追加
また、半導体基板上の2種類以上の半導体からなるSiGeなどの単結晶層の表面上に前記単結晶層に対する酸化種として還元剤及び酸化剤を含む雰囲気による熱酸化によって絶縁膜(ゲート酸化膜)を形成する。 - 特許庁
When the grooves are completely buried by an oxide film grown on a base material surface by the thermal oxidation treatment [Fig.1(c)], an oxidation region 300 becomes a plate-like support structure having a sufficient width with respect to conductive regions 101, 102 to be connected, and has high strength against stress applied to the structure.例文帳に追加
熱酸化処理で母材表面に成長した酸化膜により溝が完全に埋められた場合(c)、酸化領域300は、接続する導電性領域101,102に対して十分な幅を持つ板状の支持構造になり、構造体にかかる応力に対して高い強度をもつ。 - 特許庁
To obtain a resin composition for sealing excellent in terms of preservation stability, thermal oxidation resistance of cured material and prevention of change in color of white sealing material without impairing characteristics such as thermal conductivity, etc., which have been solved and to provide an apparatus for sealing a semiconductor.例文帳に追加
熱伝導性など従来解決されていた特性を損なうことなく、保存安定性や硬化物の耐熱酸化、白色封止材の変色防止といった面でより優れた封止用樹脂組成物および半導体封止装置を提供する。 - 特許庁
A bottom silicon oxide film 2a is deposited on the upper surface of a silicon substrate 1 applied with annealing treatment under the atmosphere of ammonia gas by thermal oxidation method and, thereafter, a silicon nitride film 2b and a top silicon oxide film 2c are deposited sequentially by thermal CVD method to form the ONO film 2.例文帳に追加
アンモニアガス雰囲気下でアニール処理を施したシリコン基板1の上面に、ボトムシリコン酸化膜2aを熱酸化法により成膜した後、シリコン窒化膜2bとトップシリコン酸化膜2cとを熱CVD法により順次成膜することで、ONO膜2を形成する。 - 特許庁
To provide a new packaging material for a solid state device excellent in transmissivity in the wavelength region from near ultraviolet to visible wavelengths, long-term thermal stability, oxidation stability, UV stability, thermal compliance, moisture resistance, transparency, crack resistance, polishability, compatibility with other sealing materials, and reflectivity.例文帳に追加
近紫外〜可視波長域での透過性、長期熱安定性、酸化安定性、UV安定性、熱コンプライアンス、耐湿性、透明性、亀裂抵抗、ポリシング性、他の封止材料との相溶性、さらに反射率に優れる、固体素子用の新規パッケージング材料の提供。 - 特許庁
To provide a method capable of discriminating whether heat generation from a sample is heat generation by thermal decomposition or heat generation by an oxidation reaction, and evaluating heat stability of the sample with higher accuracy, in a heat stability evaluation method of the sample using thermal analysis.例文帳に追加
熱分析を用いた試料の熱安定性評価方法において、試料からの発熱が熱分解による発熱か、あるいは酸化反応による発熱かを区別することができ、より正確に試料の熱安定性を評価することができる手段を提供する。 - 特許庁
To provide a novel, solid element-packaging material which is excellent in the transmissivity in the range of from near ultraviolet to visible wave lengths, thermal stability for a long term, oxidation stability, UV stability, thermal compliance, humidity resistance, transparency, crack resistance, polishability, compatibility with other sealing material, and reflectivity.例文帳に追加
近紫外〜可視波長域での透過性、長期熱安定性、酸化安定性、UV安定性、熱コンプライアンス、耐湿性、透明性、亀裂抵抗、ポリシング性、他の封止材料との相溶性、さらに反射率に優れる、固体素子用の新規パッケージング材料の提供。 - 特許庁
A first cavity 102 is formed from one surface, to join a second cavity forming surface of a silicon base body 100 forming a second cavity 104 communicating with the first cavity from an opposite side surface, to a thermal oxidation vibrating plate surface of a vibrating plate base body 110 composed of a separate silicon support substrate 108 and a thermal oxidation film vibrating plate 106 formed on the surface.例文帳に追加
片面から第一の空洞102を形成し、反対側の面から前記第一の空洞と連通する第二の空洞104を形成したシリコン基体100の前記第二の空洞形成面と、別のシリコン支持基板108とその表面に形成した熱酸化膜振動板106からなる振動板基体110の熱酸化振動板面を接合する。 - 特許庁
To manufacture a thin thermal fuse of superior operability by suppressing oxidation of a low melting point fusible alloy piece surface, even though a flattened cross sectionally round low melting point fusible alloy wire is used for a low-melting point fusible alloy piece in manufacture of a thermal fuse.例文帳に追加
温度ヒューズの製造において、低融点可溶合金片に断面丸形の低融点可溶合金線材を扁平化したものを使用するにもかかわらず、低融点可溶合金片表面の酸化をよく抑えて優れた作動性の薄型温度ヒューズの製造を可能にする。 - 特許庁
This method for manufacturing a semiconductor device is provided with a process for forming a thermal oxide film on a substrate having a trench separation region, and characterized by covering a trench isolation region 2 with an anti-oxidation film 17 at the time of forming the thermal oxide film.例文帳に追加
本発明の半導体装置の製造方法は、トレンチ分離領域を有する基板上に熱酸化膜を形成する工程を備える半導体装置の製造方法であって、熱酸化膜の形成時に、トレンチ分離領域2を酸化防止膜17で覆うことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a composite oxide for oxidation catalysts containing no noble metal element such as Pt and the like which is capable of burning PM (the particulate material) of diesel engine exhaust gas and further which causes a reduced thermal deterioration due to exotherm at the particulate material combustion (that is, provided with high thermal resistance).例文帳に追加
Pt等の貴金属元素を含まずにディーゼルエンジン排ガスのPMを低温で燃焼させることができる酸化触媒に適した複合酸化物、さらにはPM燃焼時の発熱による熱劣化の少ない(すなわち高い耐熱性を備えた)複合酸化物を提供する。 - 特許庁
To provide a silicon carbide-based porous body which can be inexpensively produced at a relatively low firing temperature although it contains fire resistant particles such as silicon carbon particles and has high thermal conductivity and improved oxidation resistance, resistance to acids, resistance to particulate reactivity and resistance to thermal impact.例文帳に追加
炭化珪素粒子のごとき耐火性粒子を含みながらも比較的低い焼成温度で安価に製造できるとともに、熱伝導率が高く、耐酸化性、耐酸性、耐パティキュレート反応性、及び耐熱衝撃性の向上がなされた炭化珪素質多孔体を提供する。 - 特許庁
An annular thermal oxide film 17 is formed though the thermal oxidation process under the condition that the silicon nitride films 11, 11a are left and moreover a deep N well 3 is also formed at the lower entire surface of the silicon nitride film 11a like an island with the lateral diffusion of phosphorus through the annealing process (b).例文帳に追加
シリコン窒化膜11,11aを残した状態で熱酸化処理を施して環状の熱酸化膜17を形成し、さらにアニール処理を施してリンの横方向拡散によって島状のシリコン窒化膜11aの下部全面にもディープNウエル3を形成する(b)。 - 特許庁
The oxide film 106 is formed by thermal oxidation of the layers n-type 103, 104 and p-type 105, and its thickness gets thicker toward a lateral side with higher In composition.例文帳に追加
酸化膜106はn型クラッド層103、活性層104およびp型クラッド層105の熱酸化によって形成され、その膜厚は、In組成が高い層の側方部分ほど厚くなっている。 - 特許庁
To provide a rolled material for continuous casting which has excellent thermal fatigue resistance for continuous casting or a build-up welding material to a rolled substrate, and has sufficient oxidation and wear resistances.例文帳に追加
従来の連続鋳造用ロール材あるいはロール基体に被覆する肉盛材以上に耐熱疲労特性に優れ、かつ、十分な対酸化性、耐摩耗性を有する連続鋳造用ロール材を提供する。 - 特許庁
To provide a rubber composition for tire cord covering capable of sufficiently controlling the change of elasticity of a rubber by curing while fully keeping the fracture toughness of the rubber under a condition receiving thermal oxidation.例文帳に追加
タイヤコード被覆用ゴム組成物において、熱酸化を受ける条件で、ゴムの破壊靱性を充分に保持しつつ、ゴムの硬化による弾性率の変化を充分に抑制することができるものを提供する。 - 特許庁
Silicon oxide films 10a, 10b, 20a, 20b are formed at a thickness of ≥23 [nm] by thermal oxidation processing and an LP-CVD method along the internal surface of the element isolation grooves 9, 19.例文帳に追加
素子分離溝9、19の内面に沿って、それぞれ熱酸化処理、LP−CVD法によって23[nm]以上の膜厚でシリコン酸化膜10a、10b、20a、20bが形成されている。 - 特許庁
To provide a production process of recrystallized SiC, by which a high purity recrystallized SiC sintered body having good properties with respect to forming, excellent oxidation resistance, superior corrosion resistance and high thermal conductivity, can be produced.例文帳に追加
成形性が良く、耐酸化性、耐食性に優れるとともに高い熱伝導率を有する高純度の再結晶SiC焼結体が得られるような再結晶SiCの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a master batch composition which is superior in thermal oxidation stability, smell stability and color stability when an inorganic filler- compounded polyolefin-based resin is recycled, and to provide a compound improved in recycling property.例文帳に追加
無機充填剤を配合したポリオレフィン系樹脂をリサイクル使用する場合に、熱酸化安定性および臭気、色相安定性が良好であるマスターバッチ組成物およびコンパウンドを提供する。 - 特許庁
To provide a ferritic stainless steel having excellent thermal fatigue characteristics and oxidation resistance, without the addition of expensive elements such as Mo and W, and having toughness equivalent to or greater than that of Type 429.例文帳に追加
MoやW等の高価な元素を添加することなく、熱疲労特性と耐酸化性に優れると共に、Type429と同等以上の靭性を有するフェライト系ステンレス鋼を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display device high in transmittance by minimizing a stacking margin, having a structure for simplifying its manufacturing process and capable of preventing thermal oxidation of a black matrix, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
合着マージンを最小化して透過率を高め、また、工程単純化の構造を持ち、さらに、ブラックマトリックスの熱酸化を防止できる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To overcome a problem that the periphery of an element region becomes concave by repetition of thermal oxidation and etching processes in an integrated circuit device which includes flash memories and corresponds to multiple supply voltages.例文帳に追加
フラッシュメモリを含み、多電源電圧に対応した集積回路装置において、素子領域周辺が熱酸化処理工程とエッチング工程を繰り返すことによりくぼんでしまう問題を解決する。 - 特許庁
To prevent the thermal conductivity of a heating part from decreasing due to the oxidation of the surface, in an apparatus for manufacturing a thin film, which is used for the production of a long oxide superconductor or the like.例文帳に追加
本発明は、長尺な酸化物超電導体などを製造するための薄膜の製造装置において、加熱部表面の酸化による熱電導性の低下を防止するようにしたものである。 - 特許庁
In this case, the surfaces of the upstream side heater Rha, the downstream side heater Rhb, the lead parts L2, L5, the upstream side thermometer Rka and the downstream side thermometer Rkb are covered by a thermal oxidation film 31.例文帳に追加
ここで、上流側ヒータRha、下流側ヒータRhb、リード部L2、L5、上流側温度計Rka、下流側温度計Rkbの表面は、熱酸化膜31によって覆われている。 - 特許庁
Since sintering temperature is low, thermal deterioration (oxidation, allotropic modification) is fully prevented, and improvement of sharpness and elongation of the service life of tool are realized as the grinding wheel for machining or grinding.例文帳に追加
焼結温度が低温度であるため、砥粒ダイヤモンドの熱変質(酸化、同素変態)が完全に防止され、切削または研削用の砥石車として、切味の向上と工具寿命の長命化が実現した。 - 特許庁
To provide ferritic stainless steel having excellent thermal fatigue properties and oxidation resistance and further having shape-fixability equal to or above that of Type 429 without adding expensive elements such as Mo and W.例文帳に追加
MoやW等の高価な元素を添加することなく、熱疲労特性と耐酸化性に優れると共に、Type429と同等以上の形状凍結性を有するフェライト系ステンレス鋼を提供する。 - 特許庁
A semiconductor substrate 100, wherein a natural oxide layer 102 is naturally generated is put in a furnace or an RTO chamber (rapid thermal oxidation chamber) and a hot hydrogen gas is introduced into the chamber so that the natural oxide layer 102 is deoxidized.例文帳に追加
自然酸化物層が自然生成された半導体基板を、炉内またはRTO室(急速熱酸化室)に入れ、高温水素ガスを室内に導入して自然酸化物層を脱酸する。 - 特許庁
A single-layered silicon oxide film 102a is formed by the thermal oxidation on the surface of a silicon substrate 101, its film thickness is measured, and openings 143a are formed in the silicon oxide film 102a.例文帳に追加
シリコン基板101の表面に熱酸化による単一層からなる酸化シリコン膜102aを形成し、この膜厚を測定し、酸化シリコン膜102aに開口部143aを形成する。 - 特許庁
To provide a separator for a battery, having superior hydrophilic properties, alkali resistance properties, anti-oxidation properties, superior thermal resistance properties, having high capacity, superior output characteristics and life time characteristics, with which the yield of battery manufacturing becomes high.例文帳に追加
親水性、耐アルカリ性、耐酸化劣化性、耐熱性に優れ、電池製造時の歩留まりが高く、高容量で出力特性と寿命特性に優れた電池用セパレータを提供することを課題とする。 - 特許庁
An insulating layer and a conductive layer are successively formed on the rear of a substrate 301, a plurality of pairs of facing grooves are formed on the substrate 301, and the insulating layer 305 is formed on the side of the groove through thermal oxidation.例文帳に追加
基板301の裏面に絶縁層及び導電層を順に形成した後、基板301に複数対の対向する溝を形成し、熱酸化により溝の側面に絶縁層305を形成する。 - 特許庁
To provide a large size silicon nitride-combined SiC refractory which has heat resistance, thermal shock resistance and oxidation resistance and is excellent in creep resistance and grindability; and to provide a method for producing the same.例文帳に追加
大型で耐熱性、耐熱衝撃性及び耐酸化性を有するとともに、耐クリープ性と研削加工性に優れた窒化珪素結合SiC耐火物及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an additive for lubricants, which is useful for improving BN retention, corrosion performance, bulk oxidation, high temperature deposit control, black sludge control, thermal stability, and other properties of a lubricant.例文帳に追加
BN保持、腐食性能、内部酸化、高温堆積物抑制、黒色スラッジ生成の抑制、熱安定性および潤滑油の他の清浄を改善するのに有用な潤滑油添加剤を提供する。 - 特許庁
The direct exposure of the inner face of the tube to the combustion flame injected from the burner is interrupted by the sleeve 2, and the partial heating of the tube, the thermal deformation caused by it, and thinning due to oxidation is suppressed and prevented.例文帳に追加
スリーブ(2)により、バーナーから噴射される燃焼火炎のチューブ内面への直接被爆が遮断され、チューブの局部加熱とそれに起因する熱変形,酸化減肉が抑制防止される。 - 特許庁
To mount an electronic component on a printed wiring board in higher reliability by effectively controlling displacement due to thermal damage of electronic component and heat of printed wiring board and also oxidation of land of the printed wiring board.例文帳に追加
電子部品の熱損傷やプリント基板の熱による変位、プリント基板のランド部の酸化等を有効に抑制して、高い信頼性をもって電子部品をプリント基板に実装できるようにする。 - 特許庁
To provide a rubber composition for tire cord covering capable of sufficiently controlling the change of elasticity of rubber by curing while fully keeping the fracture toughness of the rubber under a condition receiving thermal oxidation.例文帳に追加
タイヤコード被覆用ゴム組成物において、熱酸化を受ける条件で、ゴムの破壊靱性を充分に保持しつつ、ゴムの硬化による弾性率の変化を充分に抑制することができるものを提供する。 - 特許庁
To provide a protective tube for a thermocouple which can be used in a high temperature oxidizing atmosphere in a gas turbine, and exhibits good oxidation resistance, high creep fracture strength and high thermal shock resistance.例文帳に追加
ガスタービン中、高温の酸化雰囲気で使用することができ、高い酸化抵抗性ならびに高いクリープ破壊強さおよび高い熱衝撃抵抗性を有する熱電素子のための保護管を提供する。 - 特許庁
To provide a polypropylene composition superior in any evaluation on a stability against heat oxidation, a hue, a thermal deformation temperature, a flexural modulus, the resistance to NOx, a processing stability and a surface smoothness.例文帳に追加
熱酸化に対する安定性、色相、熱変形温度、曲げ弾性率、耐NOx性、加工安定性及び表面平滑性のいずれの評価についても優れるポリプロピレン組成物を提供する。 - 特許庁
Between the abradable coating layer made of ceramics having the bubble structure and a base member, a bed layer made of an anticorrosion and oxidation resistant alloy and a thermal insulation layer made of a porous ceramic layer are provided from the base member side.例文帳に追加
また、気泡構造を有するセラミックスからなるアブレイダブルコーティング層と基体の間に、基体側から、耐食耐酸化合金からなる下地層、および、多孔質セラミック層からなる遮熱層を設ける。 - 特許庁
To provide a carbon-containing refractory having excellent oxidation resistance, corrosion resistance and thermal shock resistance and suitable as a refractory brick for the lining of a molten metal vessel or a refractory for a molten metal flow passage.例文帳に追加
耐酸化性、耐食性及び耐熱衝撃性に優れた、溶融金属容器の内張り用耐火れんが又は溶融金属流路用耐火物として好適な炭素含有耐火物を提供すること。 - 特許庁
To provide ferritic stainless steel having excellent thermal fatigue properties and oxidation resistance and having workability equal to that of Type429 without adding expensive elements such as Mo and W.例文帳に追加
MoやW等の高価な元素を添加することなく、熱疲労特性と耐酸化性に優れると共に、Type429と同等以上の加工性を有するフェライト系ステンレス鋼を提供する。 - 特許庁
To provide a method for preserving safety and flavor as a food by preventing oxidation deterioration of mushroom by oxygen from thermal processing to storage and by maintaining mushrooms as a desired favorable food.例文帳に追加
キノコを熱加工から保管まで、酸素による酸化劣化を防止し、かつ、所望する好ましい食品として維持させることによって、安全かつ食品としての風味を保持する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming inter-element isolating insulation film by which the occurrence of the projections on a silicon substrate and acute- angle portions on a silicon oxide film formed through thermal oxidation can be avoided by making the thickness of the silicon oxide film uniform.例文帳に追加
熱酸化によって形成するシリコン酸化膜の膜厚を均一にし、シリコン基板の突起やシリコン酸化膜の鋭角部の発生を回避し得る素子間分離絶縁膜の形成方法を得る。 - 特許庁
To provide an exhaust pipe for an internal combustion engine requiring satisfactory appearance and capable of preventing the discoloration on an outer face of the exhaust pipe due to the influence of a temperature of exhaust gas and the occurrence of thermal oxidation.例文帳に追加
良好な外観性が必要である内燃機関の排気管について、排気ガスの温度の影響による排気管外面での変色や熱酸化の発生を防止できるようにする。 - 特許庁
In a plasma treatment method for applying an oxidation treatment to a wafer W provided with trenches 61 after provided with a thermal oxide film 60 with plasma, the wafer W is mounted on a susceptor to which a high-frequency voltage for pulling ions is applied, and the plasma oxidation treatment is performed while applying a high-frequency voltage for pulling ions to the wafer W.例文帳に追加
熱酸化膜60形成後にトレンチ61が形成されたウェハWをプラズマによって酸化処理するプラズマ処理方法であって、ウェハWはイオン引き込み用の高周波電圧が印加されるサセプタに載置され、プラズマによる酸化処理は、イオン引き込み用の高周波電圧をウェハWに印加しながら行われる。 - 特許庁
To prevent discoloration or generation of thermal oxidation on an outer face of an exhaust pipe due to the temperature of exhaust gas, to prevent appearance of the exhaust pipe from deteriorating and to protect an inner pipe from fracture due to high-temperature oxidation, in the case of a multi-pipe exhaust pipe concerning the exhaust pipe of an internal combustion engine requiring proper appearance.例文帳に追加
良好な外観性が必要である内燃機関の排気管について、排気ガスの温度の影響による排気管外面での変色や熱酸化の発生を防止して、排気管の外観を悪化させないようにし、更に、多重管による排気管の場合には、高温酸化によって内管が破損しないようにする。 - 特許庁
In the manufacture of a semiconductor device, a polysilicon film is made on a thermal oxide film formed on a silicon substrate 31, and a gate electrode 35 and a gate oxide film 32a are formed through etching, and after removal of a photoresist film, a peripheral oxide film 38 united with the gate oxide film 32a and the thermal oxide film is made through thermal oxidation method around the gate electrode 35.例文帳に追加
半導体装置の製造方法は、シリコン基板31上に形成した熱酸化膜32上にポリシリコン膜33を形成し、エッチングを行ってゲート電極35及びゲート酸化膜32aを形成し、フォトレジスト膜34を除去してから、ゲート電極35の周囲に、ゲート酸化膜32a及び熱酸化膜32と一体化した周囲酸化膜38を熱酸化法で形成する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an emitter for a field emission element manufacturable in a low-temperature process, and yet capable of providing an emitter sharpening effect equivalent to the case by a thermal oxidation process, and following a new principle process.例文帳に追加
低温工程で作製することができ、それでいて熱酸化工程による場合に匹敵するエミッタ先鋭化効果が得られる、新たなる原理工程に従う電界放出素子用エミッタ作製方法を提供する。 - 特許庁
Next, after a sacrificial oxide film is formed in this exposure region and in the interior of the trench 8 by thermal oxidation, n+ impurities are implanted as ions at an angle of 0 degree toward the front layer of the p-base 2 and a bottom part of the trench 8.例文帳に追加
つぎに、熱酸化によりこの露出領域およびトレンチ8内部に犠牲酸化膜を形成した後、 pベース2表層およびトレンチ8底部に向けてn+不純物を0度の角度でイオン注入する。 - 特許庁
The difference in oxidizing speed of an oxide film by thermal oxidation between a polysilicon of a gate electrode 13 and a semiconductor substrate is utilized to form an inter-layer insulating film 17 embedded in the opening part of a trench 7 at the upper part of the gate electrode 13.例文帳に追加
ゲート電極13のポリシリコンと半導体基板の熱酸化による酸化膜の酸化速度の違いを利用し、ゲート電極13上部のトレンチ7開口部に埋め込まれた層間絶縁膜17を形成する。 - 特許庁
A phosphorous-doped film is laminated on the silicon layer of the rear surface side of a wafer having a device layer formed on its front surface side in a non-oxidation atmosphere, and a phosphate (P) is directly supplied to a silicon substrate from the phosphorous-doped film by thermal annealing.例文帳に追加
非酸化雰囲気下で、表面側にデバイス層が形成されたウエーハ裏面側のシリコン層に、リンドープ膜を積層させ、熱アニールでリンドープ膜より直接的にシリコン基板に対しリン(P)を供給する。 - 特許庁
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