「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(60ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a cutting tool according to a method of depositing a crystalline α-Al_2O_3 layer on a cutting tool insert by means of chemical vapor deposition at a temperature of 625-800°C.例文帳に追加

本発明は、625〜800℃の温度で化学蒸着によって切削工具インサート上に結晶質α−Al_2O_3層を堆積する方法による切削工具に関する。 - 特許庁

To prevent displacement in a vapor deposition pattern by bringing an expansion amount of a metal mask close to that of a substrate when one metal mask is used for one substrate.例文帳に追加

１枚の基板に１枚のメタルマスクを用いる場合のメタルマスクの膨張量を基板の膨張量に近づけて蒸着パターンの位置ズレを防止する。 - 特許庁

To provide a water repellent release film for manufacturing flexible flat cable (FFC), which has a water repellent continuous vapor deposition film of an organic silicon oxide containing an organic component.例文帳に追加

有機成分を含有する有機珪素酸合物の撥水性連続蒸着膜を有するＦＦＣ製造用撥水性離型フィルムを提供する。 - 特許庁

The method for producing the silicon film includes setting the distance (D) between the vapor deposition source and the substrate so as to be smaller than the minimum diameter (P) of the substrate, when viewed from the vertical direction of the substrate.例文帳に追加

蒸着源−基板間距離（Ｄ）が、基板の垂直方向からみた基板の最小径（Ｐ）よりも小さい前記のシリコン膜の製造方法。 - 特許庁

To provide a vapor deposition material suitable for forming a thin film excellent in transparency and gas-barrier property, and to provide a thin film sheet having the thin film, and a laminated sheet.例文帳に追加

透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。 - 特許庁

The polyester resin container 10 is put in a plasma chemical vapor deposition (CVD) device 1 using microwaves, and the inside of the device 1 is kept at a degree of vacuum of 1 to 50 Pa.例文帳に追加

マイクロ波を用いるプラズマＣＶＤ装置１にポリエステル樹脂製容器１０を収容し、装置１内を１〜５０Ｐａの真空度に保持する。 - 特許庁

PRETREATMENT METHOD OF FILM FORMING BASE MATERIAL, METHOD OF FORMING THIN FILM TO FILM FORMING BASE MATERIAL, PLASMA CVD DEVICE, VAPOR DEPOSITION DEVICE, SPUTTERING DEVICE, AND PLASTIC BASE MATERIAL例文帳に追加

被成膜基材の前処理方法、被成膜基材への薄膜の成膜方法、プラズマＣＶＤ装置、蒸着装置、スパッタ装置及びプラスチック基材 - 特許庁

To provide a CVD apparatus (a chemical vapor deposition apparatus) capable of depositing a film of uniform film thickness and film quality on a substrate.例文帳に追加

基板上に、膜厚および膜質が均一な膜を堆積させることが出来るＣＶＤ装置（化学気相堆積装置）を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electroluminescent device in which an electrode layer is formed without applying a vapor deposition method or a sputtering method to an organic layer.例文帳に追加

有機層に対して蒸着法やスパッタ法を施すことなく電極層を形成するようにしたエレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition system capable of correctly measuring the evaporation rate of a film-forming material, highly precisely performing composition control and stably depositing even a thick film.例文帳に追加

成膜材料の蒸発量を正確に測定し、高精度に組成制御を行い、膜厚の厚い成膜においても安定蒸着を可能とする。 - 特許庁

To provide a paper laminated material excellent in beautifulness by forming a metal vapor deposition layer having soft metal gloss on the surface of a paper base material.例文帳に追加

紙基材の表面に柔らかい金属光沢を有する金属蒸着層を形成し、美粧性に優れた紙積層材を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an anthracene derivative which is useful as a material for an organic EL element, can be formed into a film by vapor deposition and by coating, and exhibits a high glass transition temperature.例文帳に追加

有機ＥＬ素子用材料に有用で、蒸着および塗布により製膜が可能であり、高いガラス転移温度を示すアントラセン誘導体の提供。 - 特許庁

The SiOx molded body preferably has at least a plane when the SiOx molded body is used as a vacuum vapor deposition material by an electron beam system.例文帳に追加

特に、ＳｉＯｘ成形体を電子ビーム方式による真空蒸着用材料として用いる場合、少なくとも平面を有することが好ましい。 - 特許庁

To provide ceramics capable of reducing the warpage of a two component boat in a vapor deposition, and to provide its manufacturing method, and a boat composed of the ceramics.例文帳に追加

２成分ボートの蒸着時における反りを軽減することができるセラミックス、その製造方法、及びこのセラミックスで構成されたボートを提供する。 - 特許庁

To improve reproducibility of a film property of a CVD film by increasing the controllability of a water addition amount for a copper raw material solution for MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) treatment.例文帳に追加

ＭＯＣＶＤ処理用の銅原料液に対する水の添加量の制御性を高めることにより、ＣＶＤ膜の膜質の再現性を向上させる。 - 特許庁

A horizontal-direction difference and a vertical-direction difference are calculated on the basis of video signals Din(n-1) and Din(n) and a vapor deposition direction information 30A.例文帳に追加

映像信号Ｄｉｎ（ｎ−１），Ｄｉｎ（ｎ）と、蒸着方向情報３０Ａとに基づいて、水平方向差分および垂直方向差分が算出される。 - 特許庁

The Si film is deposited by supplying oxygen gas, or it is deposited by depositing with a material containing oxygen in advance as a vapor-deposition source.例文帳に追加

Ｓｉ膜は酸素ガスを供給しながらＳｉを成膜、または予め酸素を含有させた材料を蒸着源として成膜することにより形成する。 - 特許庁

The second barrier layer 14, which is formed on the first barrier layer 13 by an atomic layer deposition method, is made of a second inorganic material having water vapor barrier properties.例文帳に追加

第２のバリア層１４は、第１のバリア層１３の上に原子層堆積法によって形成され、水蒸気バリア性を有する第２の無機材料からなる。 - 特許庁

A double refracting film 3 is installed on a transparent substrate 1 through an adhesive layer 2 (a) to form a metallic film (A1)6 by vapor deposition of a metallic material (b).例文帳に追加

透明基板１上に接着層２を介して複屈折膜３を装荷し（ａ）、金属材料を蒸着して金属膜（Ａｌ）６を形成する（ｂ）。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING HIGHLY PURE β-DIKETONATE COMPLEX OF ALKALINE-EARTH METAL AND HIGHLY PURE β-DIKETONATE COMPLEX FOR FORMING THIN FILM BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

アルカリ土類金属の高純度β−ジケトネート錯体の製法および化学気相析出法による薄膜形成用高純度β−ジケトネート錯体 - 特許庁

For example, the first film formation method is a film formation method based on a sputtering method, and the second film formation method is a film formation method based on a vacuum vapor deposition method.例文帳に追加

例えば第１成膜方法はスパッタリング法による成膜方法であり、第２成膜方法は真空蒸着法による成膜方法である。 - 特許庁

The photostimulable phosphor layer comprises columnar crystals formed by the vapor-phase deposition method, and is in a state where the columnar crystals of different column diameters are mixed.例文帳に追加

輝尽性蛍光体層は、気相堆積法で形成される柱状結晶からなり、柱径が異なる柱状結晶が混在した状態とする。 - 特許庁

To provide a laminate structure manufacturing method in which a powder spray coating method or a vapor deposition method is used, for improving dielectric characteristics of a dielectric layer.例文帳に追加

粉末噴射コーティング法又は蒸着法が用いられる積層構造体の製造方法において、誘電体層の誘電特性を向上させる。 - 特許庁

To form a hard film on a substrate employing physical vapor deposition, which shows an oxidation resistance at ≥1,000°C and a good wear resistance.例文帳に追加

物理蒸着法を用いて、基材上に、耐酸化性を１０００℃以上有するとともに、耐摩耗性が良好な硬質皮膜を形成すること。 - 特許庁

To solve the problem that plasma can not be effectively generated except for the case where pressure is the one higher than the pressure with which the condition is made optimum in a vapor deposition process.例文帳に追加

蒸着プロセスでの最適な条件となる圧力よりも高い圧力でないと有効にプラズマを発生できない問題を解決する。 - 特許庁

As thermal noise is reduced to improve the S/N, a deposition amount of a film forming material with a small vapor emission amount can be accurately measured.例文帳に追加

熱雑音が低減され、Ｓ／Ｎが向上する為蒸気放出量が少ない成膜材料の付着量も正確に測定することができる。 - 特許庁

In this case, the plate structure is formed, without containing hydrogen by using dimethyl hydrazine as a nitrogen source through organic metal chemical vapor phase deposition.例文帳に追加

ここで、板状構造は、有機金属化学気相成長方法において、ジメチルヒドラジンを窒素源に用いることによって水素を含有せずに形成されている。 - 特許庁

To produce a highly pure β-diketonate complex of an alkaline-earth metal useful as a raw material for forming thin layers by CVD (chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

ＣＶＤ法によって薄層を形成するための原料として有用な、高純度なアルカリ土類金属のβ−ジケトネート錯体を製造する。 - 特許庁

The metallic composition is made applicable under industrial practical conditions by employing a metallic film forming process like a vapor deposition process.例文帳に追加

前期金属組成は、蒸着プロセスのような金属皮膜形成工程を採用することにより、工業的な実用条件においても適用可能となる。 - 特許庁

A radiation image conversion panel is provided with a support body 11, and a phosphor layer 12 formed on the support body 11 by a vapor deposition method.例文帳に追加

放射線画像変換パネルは、支持体１１と、該支持体１１上に気相堆積法により形成された蛍光体層１２とを備えている。 - 特許庁

To provide a metal film forming method by in-situ chemical vapor deposition, and to provide an apparatus therefor, which can reduce contact resistance of a metal film.例文帳に追加

金属膜のコンタクト抵抗を減少させることができるインサイチュー化学気相蒸着による金属膜形成方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus which can surely deposit vapor elements on a desired portion of a workpiece, and can enhance the quality.例文帳に追加

被加工物の所望の位置に確実に蒸着させることができ、品質の向上を図ることができる真空蒸着装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A vapor deposition apparatus comprises a holder 13 for holding a substrate 6, multiple containers 1, an energy generator 5, a moving mechanism 2 and a weight measuring mechanism 4.例文帳に追加

蒸着装置は、基板６を保持するホルダ１３と複数の容器１とエネルギー発生手段５と移動機構２と重量測定機構４とを備えている。 - 特許庁

To provide an ITiO sintered compact for vacuum vapor deposition which does not be broken even when irradiated with high-power electron beams and to provide its production method.例文帳に追加

高いパワーの電子ビームを照射しても、破損の起こらない真空蒸着用ＩＴｉＯ焼結体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The first barrier layer 141, which is formed on the first surface 111 by an atomic layer deposition method, is made of an inorganic material having water vapor barrier properties.例文帳に追加

第１のバリア層１４１は、第１の面１１１に原子層堆積法によって形成され、水蒸気バリア性を有する無機材料からなる。 - 特許庁

In a chemical vapor deposition process, a chemical precursor that enables thin films to be deposited in or near a limited conveyance area is utilized.例文帳に追加

化学気相成長プロセスにおいて、輸送量制限領域又はその近傍で、薄膜の堆積を行うことを可能にする化学前駆体を利用する。 - 特許庁

The control unit 16 controls the rotating mechanism and the tilting mechanism in order to adjust the incident position of the vapor deposition particle p1 with respect to the workpiece W.例文帳に追加

制御部１６は、ワークＷに対する蒸着粒子ｐ１の入射位置を調整するために、上記回転機構及び上記傾動機構を制御する。 - 特許庁

To provide a new Si-containing film-forming material, especially the Si-containing film-forming material containing an alkylsilane compound, suitable for a PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) device.例文帳に追加

新規なＳｉ含有膜形成材料、殊にＰＥＣＶＤ装置に適したアルキルシラン化合物を含んでなるＳｉ含有膜形成材料を提供する。 - 特許庁

To provide a light-emitting diode element which has high light extracting efficiency by the use of a conventional vacuum vapor deposition device, and to provide a method for manufacturing the element.例文帳に追加

従来の真空蒸着装置を用いて、光の取り出し効率の高い発光ダイオード素子とその製造方法を提供することである。 - 特許庁

A growing layer 30 consisting of silicon carbide and connecting the first and second rear surfaces B1, B2 mutually is formed by a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

炭化珪素からなり、かつ第１および第２の裏面Ｂ１、Ｂ２を互いにつなぐ成長層３０が化学気相成長法によって形成される。 - 特許庁

A permeation suppressing film 28 for suppressing permeation of the gas is formed at least on the bottom surface of the hole 21 by a vapor deposition method.例文帳に追加

そして、少なくとも前記穴部２１の底面に、気体の透過を抑制する透過抑制膜２８が、気相成長法によって形成されている。 - 特許庁

To provide a silicon material for vapor phase deposition, having a dialkylamino group, which is easy to handle and not easily subjected to oxidative thermal decomposition.例文帳に追加

本発明の課題は、取り扱いが容易で、且つ酸化的熱分解が起こり易いジアルキルアミノ基を有する気相成長シリコン原料を提供することにある。 - 特許庁

The pressure resistant container 2 is formed of a pressure resistant thermoplastic resin and has the vapor deposition layer 4 containing the metal oxide on the outer surface.例文帳に追加

耐圧性容器２は、耐圧性を有する熱可塑性樹脂からなるとともにその外表面に金属酸化物を含有する蒸着層４を有している。 - 特許庁

Openings 11 are formed on the vapor deposition mask 10 so that distances between their centers may become two times the distance between pixels 51a_1, 51a_2 of a substrate 50.例文帳に追加

蒸着マスク１０上で開口部１１をその中心間距離が基板５０のピクセル５１ａ_1、５１ａ_2の中心間距離の２倍になるように形成する。 - 特許庁

(d) An emitter electrode 8 is formed on the substrate 1 in the cavity 6 by vapor deposition of an emitter material 7 onto the substrate 1 vertically from above.例文帳に追加

（ｄ）基板１に対して垂直上方からエミッタ材料７を蒸着させ、空孔部６内の基板１上にエミッタ電極８を形成する。 - 特許庁