「deposition rate」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an electrolytic deposition apparatus and an electrolytic deposition method in which the deposition rate of a substance by electrolytic deposition is improved, and the consumption of gas used as a material for electrolytic deposition can be reduced.例文帳に追加

電解析出による物質の析出速度を向上させるとともに、電解析出の材料となる気体の消費量を削減できる電解析出装置および電解析出方法を提供する。 - 特許庁

To provide a deposition method and a deposition device capable of suppressing the fluctuation of a deposition rate between the process of continuous deposition and the process of spacing deposition, and capable of stably depositing a fixed film thickness.例文帳に追加

連続成膜時と間隔を空けた際の成膜時とで、成膜レートの変動を抑制することができ、安定して一定膜厚の膜を成膜することができる成膜方法および成膜装置を提供する。 - 特許庁

The film deposition rate in the first layer diamond film is high even if it is thick, and the second layer diamond film is thin even if the film deposition rate therein is low, so that the total film deposition time is shortened, and the film deposition for the diamond electrode is made possible at a low cost.例文帳に追加

第１層ダイアモンド膜は厚くても成膜速度が速く、第２層ダイアモンド膜は成膜速度は低くても膜が薄いので、全成膜時間は少くなり、低コストでダイアモンド電極の成膜が可能になる。 - 特許庁

To provide a film deposition method where, at the time of depositing a metal-containing thin film by an ALD (Atomic Layer Deposition) method, the film deposition rate can be increased.例文帳に追加

ＡＬＤ法によって金属を含む薄膜を形成する際に、成膜速度を上昇させることができる成膜方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus which can deposit a good quality thin film free from microparticles at a high film deposition rate by using an arc as a plasma source; and to provide a film deposition method.例文帳に追加

アークをプラズマ源とし、マクロパーティクルを含まない良質の薄膜を高い成膜レートで形成できる成膜装置及び成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition system which increases a film deposition rate, can perform film deposition to a film with a large area, and also, can obtain a dense deposited film.例文帳に追加

成膜速度を増大し、大面積のフィルムに成膜することができ、かつ、緻密な成膜を得ることができる成膜装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus capable of precisely controlling the vapor deposition rate of a film material, and to provide a vapor deposition method and a method of manufacturing an organic EL apparatus.例文帳に追加

膜材料の蒸着レートをより精密に制御可能な蒸着装置、蒸着方法、および有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a film deposition method and a film deposition apparatus, capable of depositing a thin film having excellent film thickness distribution and film quality while maintaining the film deposition rate.例文帳に追加

膜厚分布や膜質に優れた薄膜を、成膜速度を維持しつつ堆積することができる成膜方法及び成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a TiN film deposition method capable of enhancing the productivity by effectively increasing the film deposition rate when performing film deposition of TiN by a CVD method.例文帳に追加

ＣＶＤ法によってTiＮを成膜する場合に、成膜速度を効果的に高めて生産性を向上させたTiＮの成膜方法を提供する。 - 特許庁

To increase uniformity of a film deposition rate when a plurality of wafers is simultaneously subjected to batch treatment using a film deposition system where film deposition is performed by a supercritical process.例文帳に追加

超臨界プロセスによって成膜を行う成膜装置で、複数のウエハを同時にバッチ処理する際の成膜レートの均一性を高める。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method and a vapor deposition equipment where, in vapor deposition for an organic compound, bumping and the change of an evaporation rate are prevented, and evaporation is performed at a fixed evaporation rate stably for a long period of time.例文帳に追加

有機化合物の蒸着において、突沸や蒸発速度の変化を防止し、長時間安定的に一定蒸発速度で蒸発を行う蒸着方法および蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system capable of correctly performing the control of a vapor deposition rate to the body to be vapor-deposited.例文帳に追加

被蒸着体への蒸着速度の制御を正確に行なうことができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide an SiNxOyCz film improved in transparency and to provide a thin film deposition method in which a deposition rate is improved.例文帳に追加

透明性を向上させたＳｉＮxＯyＣz膜、および成膜速度を向上させた薄膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering thin film deposition system capable of depositing a thin film of high quality at high film deposition rate.例文帳に追加

製膜速度が高く、品質が高い薄膜を形成することができるスパッタリング薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁

As a result, a film deposition rate higher than that in the conventional case can be obtained, and in its turn, film deposition cost can be reduced.例文帳に追加

その結果、従来よりも高い成膜速度を得ることができ、ひいては成膜コストを低減することができる。 - 特許庁

To provide film deposition method and a system therefor capable of improving coverage characteristics while a high film deposition rate is held.例文帳に追加

高い成膜速度を維持したまま、カバレージ特性を向上させることができる成膜方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To improve a film deposition rate while the efficient use of gas is possible.例文帳に追加

ガスを効率的に使用できる中で、成膜速度が向上できるようにする。 - 特許庁

To improve a heat transfer rate, and to prevent deposition of PM in a gas cooler.例文帳に追加

ガスクーラにおいて、熱伝達率の向上及びＰＭの堆積防止を図る。 - 特許庁

1. Thickness and deposition rate of coating materials fixed to the substrate surface 例文帳に追加

（一）　基材の表面に定着したコーティング材料の厚さ及び成膜速度 - 日本法令外国語訳データベースシステム

An etching rate can be equalized in the deposition chamber 2 by the etching radicals R.例文帳に追加

エッチングラジカルＲによる成膜チャンバ２内でのエッチングレートを等しくできる。 - 特許庁

Then, the sum L+T of the deposition rate L (g/min) of the preceding electrode and the deposition rate T (g/min) of the succeeding electrode is 100-500 g/min, while the deposition rate F (g/min) of the filler wire is 0.03 (L+T) to 0.3 (L+T).例文帳に追加

このとき、先行電極の溶着速度Ｌ（ｇ／分）及び後行電極の溶着速度Ｔ（ｇ／分）の和Ｌ＋Ｔが１００乃至５００ｇ／分であり、フィラーワイヤの溶着速度Ｆ（ｇ／分）が０．０３（Ｌ＋Ｔ）乃至０．３（Ｌ＋Ｔ）である。 - 特許庁

and 0.01<θ≤0,7, where θ denotes (the film deposition rate in the case the additive is present)/(the film deposition rate in the case the additive is absent).例文帳に追加

０.００５×ｈ^2／ｗ＜Ｄ／κ＜０.５×ｈ^2／ｗ，０.０１＜Θ≦０.７ ここでΘは同一めっき電位での（添加剤有りの成膜速度）／（添加剤無しの成膜速度）とする。 - 特許庁

In succession, the substrate is heated to the temperature higher than the crystallization temperature and the deposition layer is deposited under the crystallization effected in the state of the crystallization rate R higher than the deposition rate S.例文帳に追加

続いて、結晶化温度より高い温度に基板を加熱し、結晶化速度Ｒが堆積速度Ｓより大きい状態で堆積層を折衝貸しながら成膜する。 - 特許庁

To provide a thin film deposition method using an atomic layer deposi tion method by which a thin film can be deposited at a high vapor deposition rate.例文帳に追加

高い蒸着速度で形成することができる原子層蒸着法を用いた薄膜製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition system where a film of high quality can be stably deposited at a high film deposition rate by plasma CVD.例文帳に追加

プラズマＣＶＤによって、高い成膜レートで高品質な膜を安定して成膜することができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To improve the adhesion of the film to be deposited, to efficiently control film deposition conditions, and to improve a film deposition rate in an aerosol gas deposition process.例文帳に追加

エアロゾルガスデポジション法において、形成される膜の密着力の向上、及び成膜条件の効率的な制御、及び成膜レートの向上を目的とする。 - 特許庁

To provide a thin film deposition apparatus offering an increased film deposition rate compared to those in conventional ones when depositing a thin film on a substrate using a plasma, and a thin film deposition method.例文帳に追加

プラズマを用いて基板に薄膜を形成するとき、従来に比べて成膜速度が向上する薄膜形成装置および薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition system by which the ionization rate of particles for film deposition can be efficiently increased by a simple method and also controllability at film deposition can be improved.例文帳に追加

成膜用の粒子のイオン化率を簡易な手法で効率よく高めることができ、成膜に際しての制御性に優れた成膜装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an epoch-making vapor deposition system which can stably control a vapor deposition rate for a long period of time and has extremely excellent practicality, and to provide a vapor deposition method.例文帳に追加

長時間安定して蒸着レート制御することができる極めて実用性に秀れた画期的な蒸着装置並びに蒸着方法を提供するものである。 - 特許庁

To reduce the number of macroparticles sticking on a substrate for film-deposition while maintaining a film deposition rate when a film is deposited by an FCA (Filtered Cathodic Arc) method, with respect to a film deposition apparatus and method.例文帳に追加

成膜装置及び成膜方法に関し、ＦＣＡ法により成膜する際に、成膜レートを維持しつつ、被成膜基板上に付着するマクロパーティクル数を低減する。 - 特許庁

To provide a method and a system for vacuum deposition by which the deposition rate of a vapor deposition material can be controlled with greater follow-up properties than heretofore.例文帳に追加

従来より蒸着物質の蒸着速度を追従性良く制御することができる真空蒸着方法及び真空蒸着装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a film deposition method having a high film deposition rate and sufficient coverage properties to a step on a base material, and a low-cost film deposition system with a simple system constitution.例文帳に追加

高い成膜速度と基材上の段差に対して十分なカバレッジ性を有する成膜方法及び装置構成が簡素で低コストな成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide an ECR sputtering system enhanced in sputtering efficiency and high in film deposition rate.例文帳に追加

スパッタ効率を高め、成膜レートが大きいＥＣＲスパッタリング装置を提供すること。 - 特許庁

To achieve short-term and long-term stability of film deposition rate while uniformizing film thickness.例文帳に追加

膜厚の均一化を図りつつも、成膜レートを短期的にも長期的にも安定させる。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus and a film deposition method capable of breaking the vacuum, reducing the cleaning frequency of a nozzle and a peripheral thereof, and achieving the film deposition of the high operation rate or the uniform film deposition.例文帳に追加

本発明は、前記真空を破壊し前記のノズル及び周辺のクリーニング頻度を少なくし、稼働率の高いまたは均一な成膜ができる成膜装置及び成膜方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a method for depositing a magnetic material film by which film deposition can be performed at a high film deposition rate by magnetron sputtering with a thick magnetic material target.例文帳に追加

厚い磁性材ターゲットでマグネトロンスパッタリングにより高い成膜速度で成膜できる磁性材膜の成膜方法の提供。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system where the control of a vapor deposition rate to the body to be vapor-deposited can be swiftly and correctly performed.例文帳に追加

被蒸着体への蒸着速度の制御を迅速に且つ正確に行なうことができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method where the thickness distribution of a thin film deposited on a substrate can be improved without reducing a film deposition rate.例文帳に追加

成膜レートを低下させることなく、基板上に形成される薄膜の厚み分布を改善できる成膜方法を提供する。 - 特許庁

To suppress mixture of water in an organic material in a crucible, and to improve the stability of a film deposition rate and pressure during the film deposition.例文帳に追加

ルツボの有機材料への水分の混入を抑えるとともに、成膜時の成膜レートや圧力等の安定性を向上させる。 - 特許庁

To provide a source gas feeding device where, upon thin film deposition by a chemical vapor deposition process, the flow rate of a source gas can be regulated.例文帳に追加

化学蒸着法による薄膜蒸着時に、ソースガスの流量を調節することができるソースガス供給装置を提供する。 - 特許庁

To stabilize a film deposition rate and to facilitate maintenance by providing raw material heating sections inside a chamber in a thin film deposition system.例文帳に追加

薄膜形成装置において原料加熱部をチャンバ内に設けることで、成膜レートを安定化させるとともにメンテナンスを容易にする。 - 特許庁

To provide a film deposition system where a film of high quality having no unevenness in film thickness can be deposited at a high film deposition rate by plasma CVD.例文帳に追加

プラズマＣＶＤによって、高い成膜レートで、かつ、膜厚ムラの無い、高品質な膜を成膜できる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target that has high electric power resistance and enables deposition at a high deposition rate, and provide a method for manufacturing optical media.例文帳に追加

耐電力特性が高く、高い成膜速度での成膜が可能なスパッタリングターゲット及び光メディアの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a carbon film deposition method capable of increasing the film deposition rate when depositing a carbon film by a plasma CVD process.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法による炭素膜の形成における成膜速度の向上を可能とする炭素膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition system, which enables a vapor deposition rate to be measured accurately and a film thickness to be controlled with higher accuracy.例文帳に追加

蒸着レートを正確に計測し、より高精度の膜厚制御を行うことを可能にする真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁