「deposition rate」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

Sputtering particles are made to fly from a helicon sputtering source 52 by setting a film deposition rate of a gold thin film 12 to the range from 0.01 nm/s to 0.6 nm/s.例文帳に追加

金薄膜１２の成膜速度を０．０１ｎｍ／ｓ以上、０．６ｎｍ／ｓ以下の範囲に設定し、ヘリコンスパッタ源５２からスパッタ粒子を飛翔させる。 - 特許庁

Aluminum is vacuum-deposited on the surface of a resin base material at a deposition rate of 300 μm/h to 500 μm/h, thereby forming the decorative coating thereon.例文帳に追加

樹脂基材の表面に、３００μｍ／ｈ〜５００μｍ／ｈの蒸着速度でアルミニウムを真空蒸着することにより、装飾皮膜を形成する。 - 特許庁

Preferably, the gas flow rate of hexamethyl-disiloxane acid to be introduced in a chamber of a vacuum vapor deposition apparatus is changed according to the gradation of the requested smoke color.例文帳に追加

好ましくは、要求されるスモーク色の濃淡に応じて、真空蒸着装置のチャンバー内に導入されるヘキサメチルジシロキ酸のガス流量を変化させる。 - 特許庁

To provide a method of depositing a SiNx layer and an a-Si layer on a thin film transistor(TFT) substrate at a sufficient deposition rate keeping high film quality.例文帳に追加

ＴＦＴ基板上にＳｉＮ_Ｘ層及びａ−Ｓｉ層を充分な堆積速度で堆積し、膜品質を極高く維持する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a CVD apparatus which reduces a cleaning frequency of the inside of a chamber necessary for maintaining high quality deposition thereby improving an operation rate.例文帳に追加

高品質な成膜を維持するために必要となるチャンバー内の清掃の頻度を低減し、稼動率を向上したＣＶＤ装置を提供すること。 - 特許庁

The metal layer increases the deposition rate of a protective film 4 to be formed on the outside of the metal magnetic layer and to improve the productivity of the recording medium.例文帳に追加

この金属層は金属磁性層の外側に形成される保護膜４の成膜速度を増大させて記録媒体の生産性を向上させる。 - 特許庁

In this way, it is possible to stabilize the blowout flow rate, blowout speed and blowout direction of a vapor deposition substance 118 vaporized at random inside the crucible.例文帳に追加

これにより、坩堝内部にてランダムに蒸発した蒸着物質１１８の噴出流量、噴出速度及び噴出方向を安定させることができる。 - 特許庁

To prevent generation of processing defect in a substrate due to an increase of leak flow rate of He gas in a processing device for carrying out dry etching and plasma CVD film deposition.例文帳に追加

ドライエッチングやプラズマＣＶＤ膜堆積する処理装置において、Ｈｅガスのリーク流量増大による基板の処理不良が発生するのを防止する。 - 特許庁

To provide a method for providing films having improved characteristics such as an etching rate, the concentration of hydrogen, and stress as compared to the films by thermal chemical vapor deposition.例文帳に追加

熱化学気相堆積の膜に比較してエッチング速度、水素濃度、およびストレスなどの改善された特性を有する膜を与える方法の提供。 - 特許庁

Another method for forming layers having tapered edges includes the deposition of a layer in which the upper portion is etchable at a faster rate than the lower portion.例文帳に追加

テーパ縁を有する層を形成するための別の一方法は、上方部分が下方部分よりも速い速度でエッチング可能な層を堆積することを含む。 - 特許庁

A synthetic volume representing the volume formed between the driving electrodes (2-1 to 2-n) and the grounded electrode (3) is decided so as to control the film deposition rate.例文帳に追加

成膜速度を制御するように、駆動電極（２−１〜２−ｎ）と接地電極（３）との間に生じる容量を表す合成容量が決定される。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for manufacturing a cold mirror having excellent illuminance, heat resistance and durability and facilitating the control of vapor deposition rate and film thickness.例文帳に追加

照度、耐熱性及び耐久性に優れ、蒸着レート及び膜厚の制御が容易なコールドミラー製造方法及びその製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a hard carbon film, which method can improve the hardness and adhesion properties of the film and can make a deposition rate higher.例文帳に追加

膜の硬度と密着性を向上させた上に、成膜速度を速くすることが可能な硬質炭素膜の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

As the CVD method is used, a deposition rate of the viscoelastic buffer layer 2 is fast, and consequently the film with a practicable thickness is efficiently formed.例文帳に追加

ＣＶＤ法を用いているので、粘弾性緩衝層２の成膜速度が速く、実用的な厚さの膜を効率よく作成することができる。 - 特許庁

To perform deposition without entailing the degradation in a working rate by exchanging evaporation materials and film forming substrates even in a process in which the amount of formed films is great.例文帳に追加

形成膜量が多いプロセスにおいても、また、蒸発材料および被膜形成基板の交換による稼働率低下を来さず成膜を行う。 - 特許庁

To provide a film deposition method for hyperfine particles by which a uniform film having reduced defective parts can be deposited at a high film growing rate, and to provide a system therefor.例文帳に追加

膜の成長速度の速く、欠陥部分の少ない均一な膜を形成できる超微粒子の成膜方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

In the process of forming the concave portions, etching is conducted, in such a manner that deposition is suppressed by making the etch rate of the substrate from half to twice the etching rate of the mask in a final stage of etching and then etching is finished.例文帳に追加

凹部を形成する工程においては、少なくとも最後に基板のエッチング速度をマスクのエッチング速度の半分〜２倍とすることによりデポジションを抑制しながらエッチングを行ったところでエッチングを終了する。 - 特許庁

To provides a method for manufacturing a dielectric film, which reduces a leak current value while suppressing the reduction in a relative permittivity, suppresses the reduction in a deposition rate caused by the reduction in a sputtering rate, and also provides excellent planar uniformity.例文帳に追加

比誘電率の低下を軽減しつつリーク電流値を低減し、スパッタ率の低下による堆積速度の減少を抑制し、かつ、面内均一性に優れた誘電体膜の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an apparatus for inhibiting the deposition of scale by injecting a scale inhibitor based on the decrease rate of the dissolved component concentration of a fluid to control the decrease rate of the dissolved component concentration to be a predetermined value.例文帳に追加

流体の溶存成分濃度の減少速度に基づいてスケール抑制剤を注入し、溶存成分濃度の減少速度を予め定めた値に制御することで、スケールの析出を抑制する装置を提供する。 - 特許庁

In the process of forming the concave portions, etching is conducted, in such a manner that deposition is suppressed by making the etch rate of the substrate from half to twice the etching rate of the mask in a final stage of etching and then etching is finished.例文帳に追加

凹部を形成する工程においては、少なくとも最後に基板のエッチング速度をマスクのエッチング速度の半分〜２倍とすることによりデポジションを抑制しながらエッチングを行ったところでエッチングを終了する。 - 特許庁

To obtain a solid soap composition sufficiently affording both the amount and projection rate of fine projections as a result of deposition thereof, and also enabling both the amount and projection rate of such fine projections to be controlled.例文帳に追加

石鹸組成物が析出して突出する細毛の量や、突出速度を十分に得ることができ、また細毛の量や突出速度を制御することが可能になる固形石鹸組成物を提供する。 - 特許庁

Also, 0.5≤(v/vb)×(D/Db)^1/2≤2.0 is obeyed (wherein Db is the outside diameter of the starting member 21 at the start of deposition, vb is the flow rate of the mixed gas, D is the outside diameter of the porous optical fiber preform during the deposition).例文帳に追加

堆積開始時の出発部材２１の外径をＤｂ、混合ガスの流速をｖｂ、堆積中の光ファイバ用多孔質母材２２の外径をＤ、混合ガスの流速をｖとすると、０．５≦（ｖ／ｖｂ）×（Ｄ／Ｄｂ）^1/2≦２．０とする。 - 特許庁

By performing film deposition in a state where the pressure in the discharge space is made higher than that in ordinary sputtering, while retaining a suitable film deposition rate, a porous film of high quality with the low refractive index which has been sufficiently reacted can be stably deposited.例文帳に追加

放電空間を通常のスパッタリングよりも高圧にして成膜を行うことで、適度な成膜レートを保ちながら、充分な反応を得た良質で屈折率の低い多孔質膜を安定して成膜することができる。 - 特許庁

To provide a device for fabricating an electrode by a roll-to-roll process and a method for fabricating an electrode, by which the process is made simple and the deposition rate and the deposition uniformity of lithium can be improved since lithium is vapor-deposited in a vacuum atmosphere.例文帳に追加

リチウムを真空雰囲気で蒸着するので工程が簡単になり、蒸着速度と蒸着の均一性を改善することのできる、ロールツーロール工程を用いた電極製造装置及び電極製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target capable of providing high moisture barrier properties and high flexibility to a sputtering film, ensuring the high film deposition rate in the sputtering, and reducing damages on an object for film deposition as much as possible.例文帳に追加

スパッタリング膜に高い水分バリア性と高い柔軟性を付与でき、合わせて、スパッタリングにおいて高い成膜レートを確保できると共に、成膜対象物へのダメージを可及的に軽減できるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To continuously form a fluoride thin film of magnesium fluoride or the like having reduced optical absorption of visible light and having satisfactory adhesion on a plastic base material by a vacuum deposition process at a high speed and also at an extremely stable film deposition rate.例文帳に追加

可視光の光学吸収が少なく密着性の良好なフッ化マグネシウム等のフッ化物薄膜をプラスチック基材上に真空蒸着法により高速で、且つ極めて安定した成膜速度で連続的に形成する。 - 特許庁

By co-injecting or premixing the deposition or etch precursor gas and film purification compound prior to injection, the deposition or etch process may be optimized with respect to growth/etch rate and achievable material purity.例文帳に追加

付着前駆体ガスまたはエッチング前駆体ガスと膜純化化合物との同時注入または噴射前の予混合によって、成長／エッチング速度および達成可能な材料純度に関して、付着プロセスまたはエッチング・プロセスを最適化する。 - 特許庁

The method for depositing glass particulates on the peripheral surface of a glass rod 6 for a core by the OVD method and by moving a plurality of burners 4 arranged along the peripheral surface back and forth comprises performing the deposition of the glass particulate by evading the distance (Lmax) between the deposition surface at which the deposition rate of the glass particulate on the deposition surface is maximized and the front ends of the burners.例文帳に追加

外付け法（ＯＶＤ法）によりコア用ガラス棒６の周面に、これに沿って配置した複数のバーナ４を往復移動させてガラス微粒子を堆積させる方法であって、堆積面におけるガラス微粒子の付着率が最大となる堆積表面とバーナ先端との距離（Ｌｍａｘ）を避けて、ガラス微粒子の堆積を行うことを特徴としている。 - 特許庁

A metal oxide and ceramic as a substance having higher thermal conductivity than that of the metal oxide are packed into a cover-fitted crucible having an opening part, and vapor deposition is performed, so as to suppress the intrusion of garbage causing a black point defect during film deposition, and further, the reduction of a vapor deposition rate can be prevented.例文帳に追加

開口部を有する蓋付きの坩堝内に金属酸化物と金属酸化物よりも熱伝導率の高い物質であるセラミックスとを充填して蒸着を行うことで、成膜中に暗点欠陥の原因となるゴミが混入することを抑制し、さらに蒸着レートの低下を防ぐことができる。 - 特許庁

To provide a method for forming a vapor-deposited film at a superior deposition rate, by applying an electron beam onto a vaporizing point of a vapor deposition material at a high incidence angle and optimizing a beam profile, when forming the vapor-deposited film on the surface of a substrate by using an electron-beam vapor deposition apparatus with the use of a piercing type electron gun.例文帳に追加

ピアス式電子銃を用いた電子ビーム蒸着装置を使用して基板の表面に蒸着被膜を形成するに際し、電子ビームを蒸着材料の蒸発ポイントに高い入射角で照射してビーム形状を最適化し、蒸着被膜を優れた成膜速度で形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To form a high quality copper thin film having a low impurity concentration by chemical-vapor deposition in a little latency time and at high deposition rate, uniformly over the whole area in the surface for a large-diameter substrate with a high efficiency of using material.例文帳に追加

化学気相成長法によって、不純物濃度の低い良質な銅薄膜を、潜伏時間が少なく、かつ高い成膜速度で、大口径の基板に対しても面内全域にわたって均一に、高い原料使用効率で成膜を行なう。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system where the moving amount of a vaporizing material from an evaporation source to the body to be vapor-deposited can be correctly controlled, and the control of a vapor deposition rate can be easily performed without depending on radiation heat from a cylindrical body.例文帳に追加

蒸発源から被蒸着体への気化物質の移動量を正確に制御することができ、筒状体からの輻射熱に左右されることなく、蒸着速度の制御を容易に行なうことができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To suppress variability in film thickness in a process of depositing e.g. an antireflection coating by stabilizing film deposition rate from the initial stage of the use of a target to the end of its life in a sputtering deposition process using an Nb sputtering target.例文帳に追加

Ｎｂスパッタリングターゲットを用いたスパッタ成膜工程において、ターゲットの使用初期からライフエンドまで成膜速度を安定化させることによって、例えば反射防止膜の形成工程における膜厚のばらつきの発生を抑制する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a porous glass preform by which the deposition rate of a glass fine particle on a deposition surface is increased, soot suspended in a reaction vessel is reduced and the occurrence of bubbles produced in a product is prevented and the glass preform.例文帳に追加

堆積面でのガラス微粒子の付着率を高め、反応容器内を浮遊するスートを低減させ、製品中に生じる気泡の発生を防止することのできる多孔質ガラス母材の製造方法及びガラス母材を提供する。 - 特許庁

In the second step, the CIF_3 gas, whose flow rate is larger than that upon the first cleaning step, is supplied from a CIF_3 nozzle (cleaning gas nozzle) 46 different from the deposition gas nozzle 40 while supplying N_2 gas (inert gas) from a second deposition gas nozzle 40.例文帳に追加

第２段階では、第２の成膜ガスノズル４０よりＮ_2ガス（不活性ガス）を供給しつつ、第１のクリーニングステップのときよりも大きな流量のＣｌＦ_3ガスを、成膜ガスノズル４０とは異なるＣｌＦ_3ノズル（クリーニングガスノズル）４６より供給する。 - 特許庁

The second chemically reactive precursor dose amount may likewise be insufficient to result in a maximum saturated ALD deposition rate on the wafer or, alternatively, sufficient to result in a starved saturating deposition on the wafer.例文帳に追加

第２の化学的に反応する前駆体ドーズ量は、同様に、ウェハ上で最大飽和ＡＬＤ堆積レートをもたらすのに充分に至らない量の、または、別法として、ウェハ上で不足状態の飽和堆積をもたらすのに充分であってもよい。 - 特許庁

To provide a thin film production apparatus and a production method therefor excellent in productivity and mass-productivity which enable continuous film deposition to be stably performed over a long period causing the reduced number of particles while reproducing satisfactory film thickness distribution, compositional distribution and film deposition rate.例文帳に追加

良好な膜厚分布、組成分布、成膜レートを再現しつつ、パーティクル数が少なく、長期にわたって連続成膜を安定して行えることが可能な生産性、量産性に優れた薄膜製造装置及び製造方法の提供。 - 特許庁

By thus detecting an end point based on the current integration value of the target, that is in proportion with the film thickness, the film thickness can be controlled in a high precision even when the deposition rate is varied during film deposition and the fluctuation of the film thickness between batches can be reduced.例文帳に追加

このように膜厚と比例関係にあるターゲット電流積算値により終点検知をすることにより、成膜中に成膜レートが変動しても高精度に膜厚を管理することができ、バッチ毎の膜厚バラツキを低減することができる。 - 特許庁

To provide a thermal flow rate detector element capable of obtaining stable flow rate detection characteristics while reducing the disturbance of a flow caused by the unevenness of the surface of a substrate or reducing deposition of dust on the substrate, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

この発明は、基材の表面の凹凸に起因する流体の流れの乱れやダストの堆積の発生を抑え、安定した流量検出特性が得られる感熱式流量検出素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In one or more embodiments, the first zone denotes a radially inner zone and the second zone denotes a radially outer zone wherein a ratio of inner zone gas flow rate to an outer zone gas flow rate during the deposition is smaller than that during the etching.例文帳に追加

一つ以上の実施形態において、第１ゾーンは内部半径方向ゾーンであり、第２ゾーンは外部半径方向ゾーンであり、内部ゾーンガス流と外部ゾーンガス流との比はエッチングの間より堆積の間の方が小さい。 - 特許庁

In the assembled layer of the nano structures 13, the vapor deposition material and air are mixed at a fixed rate as the whole thin film 11 and the refractive index of the whole thin film 11 is determined by the rate (film packing density of the thin film).例文帳に追加

また、ナノ構造体１３の集合層は、薄膜１１全体として、蒸着材料と空気とが一定割合で混合しており、この割合（薄膜の膜充填密度）により、薄膜１１全体の屈折率が決定される。 - 特許庁

To provide a non-aqueous electrolytic solution secondary battery which has superior safety, and in which deposition of lithium metal can be suppressed even under worrisome environments for high rate specifications such as high rate charging and discharging or high output discharging under a low temperature environment.例文帳に追加

低温環境下での高率充放電や高出力放電というハイレート仕様にとって憂慮すべき環境においてもリチウム金属析出を抑制できる、安全性に優れた非水電解液二次電池を提供する。 - 特許庁

Methods for forming graded dielectric layers include supplying a nitrogen-containing source gas at a declining flow rate or concentration, while supplying an oxygen-containing source gas at rising flow rate or concentration, to a deposition chamber.例文帳に追加

傾斜誘電体層を形成する方法は堆積室に、下降流量または濃度で窒素含有原料ガスを供給する一方で、上昇流量または濃度で酸素含有原料ガスを供給するステップを含む。 - 特許庁

To provide an atomic layer growth apparatus capable of reducing damage of a to-be-formed film caused by plasma, improving a deposition rate, and suppressing generation of particles.例文帳に追加

形成される膜のプラズマによるダメージを低減するとともに、成膜レートを向上し、かつ、パーティクルの発生を抑制することができる原子層成長装置を提供する。 - 特許庁

To provide a system and a method for CVD film deposition in which the flow rate of a source gas can be controlled quickly to a prescribed value when introducing the source gas into a container.例文帳に追加

容器内に原料ガスを導入する際に短時間で原料ガスの流量を一定に制御できるＣＶＤ成膜装置及びＣＶＤ成膜方法を提供する。 - 特許庁