「deposition rate」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a film deposition method in which the film deposition rate by the sputtering is reduced, a metal thin film with excellent coatability is formed on an inner wall surface and an inner bottom surface of a hole or a groove with the aspect ratio being ≥3 formed in a surface of a workpiece, and the self-hold discharge in a target is generated even with small power.例文帳に追加

スパッタリングによる成膜レートを低くし、被処理体の表面に形成されたアスペクト比が３以上の孔または溝の内壁面および内底面に被覆性が良好な金属薄膜を形成し、少ない電力でも、ターゲットにおける自己保持放電を発生させる成膜方法を提供する。 - 特許庁

This application provides a process in which a wafer is coated with a first chemically reactive precursor dose amount insufficient to result in a maximum saturated ALD deposition rate on the wafer, and then coated with a second chemically reactive precursor dose, the precursors being distributed in a manner to provide substantially uniform film deposition.例文帳に追加

ウェハを、ウェハ上で最大飽和ＡＬＤ堆積レートをもたらすのに充分に至らない量の、第１の化学的に反応する前駆体ドーズ量で被覆し、次に、第２の化学的に反応する前駆体ドーズ量で被覆され、前駆体は、ほぼ均一な膜堆積を実現するように分散されるプロセス。 - 特許庁

For example, the stress distribution is uniformed using that internal stresses of films are changed when the mixing ratio of water or hydrogen gas is changed, since internal stress values of the films are changed by that a deposition rate on the rotating substrate is changed according to the scanning position of the substrate, during deposition of respective layers of Mo/Si multilayer films.例文帳に追加

例えば、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜の各層を成膜中に、回転する基板上の成膜速度が基板の走査位置によって変化することで膜の内部応力値が変わるため、水又は水素ガスの混合比を変化させると膜の内部応力が変化することを利用して応力分布を均一にする。 - 特許庁

To provide an interest rate linked type credit server that activates an electronic commerce by allocating a calculated interest rate in the new balance, on the basis of an interest rate to preset transaction balance and credit balance or average credit balance at the same time with deposition of a transaction amount, in a credit server of a store side in the electronic commerce and giving incentive to a transaction activation to the store side.例文帳に追加

電子商取引における店舗側の預金サーバーに取引金額が入金されると同時に、事前に設定された取引高や預金残高又は預金平均残高に対する金利の利率にもとづき、新残高に算定した金利の計上を行い、取引発生に関するインセンティブを、店舗側に与え電子商取引の活性化を促せる金利連動型預金サーバーである。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering device high in a vapor deposition rate, film-forming a multi-element thin film at a high speed, flexible in the compositional control of the film, easily covering a dense multi-element thin film at a high speed and furthermore easily capable of the maintenance.例文帳に追加

蒸着速度が早く、多元素薄膜を高速で成膜し、膜の組成制御がフレキシブルで、緻密な多元素薄膜を高速で容易に被覆し、さらにはメンテナンスの容易なマグネトロンスパッタ装置を提供。 - 特許庁

To provide a flow rate measuring apparatus which maintains a high measuring accuracy and determines adequate maintenance timing by detecting the performance deterioration due to troubles or foreign substance deposition.例文帳に追加

故障や異物の付着による性能低下を検出することにより、高い測定精度を維持すると共に適切なメンテナンス時期を判定することができる流量測定装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for forming a thin film, which can lower voltage of a plasma display panel and enhance the luminous efficiency, by forming a protective coating of high quality with a high deposition rate in low cost.例文帳に追加

成膜速度が速く低コストで良質の保護膜を形成することによって、プラズマディスプレイパネルの低電圧化と発光効率向上を図ることができる薄膜形成方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electrolytic hard gold-plating liquid having a high deposition rate, for forming a gold-plated film of which the contact resistance is not reduced even after a heat treatment such as a reflow treatment, and to provide a plating method.例文帳に追加

析出速度が速く、リフロー処理等の加熱処理を行ってもめっき皮膜の接触抵抗が低下しない金めっき皮膜を形成することができる電解硬質金めっき液及びめっき方法を提供する。 - 特許庁

In depositing the fine glass particles, the flow rate of hydrogen is controlled so that the surface temperature of a fine glass particle deposition part 6a is in a specified range in relation with a target value over the whole length of effective part of the preform.例文帳に追加

ガラス微粒子を堆積させる際に、ガラス微粒子堆積部６ａの表面の温度が母材の有効部全長にわたり目標値に対して所定範囲内となるように、水素の流量を制御する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the metal film, a metal vapor-deposited film is deposited on the surface of the base material formed of iron or its alloy at an atmospheric pressure of 0.1-3.0 Pa, and at an average film deposition rate of 0.01-10 μm/min.例文帳に追加

またその製造方法は、鉄またはその合金によって形成された母材の表面に、雰囲気圧力０．１〜３．０Ｐａ、平均成膜速度０．０１〜１０μｍ／分で、金属蒸着被膜を形成する。 - 特許庁

To provide a plating device where the passivation of an anode electrode can be prevented, and the reduction of current efficiency and the reduction of the film deposition rate in a plating film can be prevented; and to provide a method for producing a semiconductor device.例文帳に追加

アノード電極の不動態化を防止することができ、電流効率の低下およびめっき皮膜の成膜速度の低下を防止することができるめっき装置および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma chemical vapor deposition apparatus, having rod-like electrodes capable of forming a film of superior film thickness uniformity at a high rate on a large area substrate, using of a large frequency value of superhigh frequency.例文帳に追加

大面積基板に対して周波数の大きい超高周波を用いて高速かつ膜厚均一性に優れた製膜を行なうことができる棒状電極を有するプラズマ化学蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film formation method which can make an etching rate in cleaning to be relatively small by increasing concentration of a carbon contained even in deposition at a relatively low temperature thereby improving controllability of a film thickness in cleaning.例文帳に追加

比較的低温で成膜しても含有する炭素濃度を多くさせてクリーニング時のエッチングレートを比較的小さくでき、もってクリーニング時の膜厚の制御性を向上させることができる成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering system in which a vapor deposition rate is high, a multi-element thin film is deposited at a high speed, the composition control of the film is flexible, a denser multi-element thin film is easily covered at a high speed, and, moreover, maintenance is easy.例文帳に追加

蒸着速度が早く、多元素薄膜を高速で成膜し、膜の組成制御がフレキシブルで、より緻密な多元素薄膜を高速で容易に被覆し、さらにはメンテナンスの容易なマグネトロンスパツタ装置を提供。 - 特許庁

Thus, the deposition and accumulation of impurities in the outlet part of the gas bypass capillary 10 are suppressed and decrease in flow rate or the clogging of the gas bypass capillary 10 can be prevented to improve the reliability of a system.例文帳に追加

これにより、ガスバイパスキャピラリ１０の出口部分における不純物の析出・堆積を抑制し、ガスバイパスキャピラリ１０の流量低下あるいは詰まりを防止することができ、システムの信頼性を向上できる。 - 特許庁

To provide a treatment gas supply system where the supply amount and supply rate of a metal-containing raw material gas are risen, and film deposition treatment is efficiently and swiftly performed so as to improve throughput.例文帳に追加

金属を含む原料ガスの供給量及び供給速度を向上させて効率的に且つ迅速に成膜処理を行ってスループットを向上させることが可能な処理ガス供給系を提供する。 - 特許庁

To provide a metal-organic vaporizing and feeding apparatus which can be simplified, metal-organic chemical vapor deposition apparatus, gas flow rate regulator, semiconductor manufacturing apparatus, and semiconductor manufacturing method.例文帳に追加

装置の簡素化を図ることのできる有機金属気化供給装置、有機金属気相成長装置、有機金属気相成長方法、ガス流量調節器、半導体製造装置、および半導体製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a target material for Ru sputtering realizing a high film deposition rate required upon sputtering and simultaneously capable of uniformly forming a film thickness distribution in the thin film to be deposited.例文帳に追加

スパッタリングの際に要求される、高い成膜速度を実現すると同時に、形成される薄膜の膜厚分布をも均質に形成することができるＲｕスパッタリング用ターゲット材を提供することを課題とする。 - 特許庁

To prevent the evaporation of an evaporation material on a substrate until a stable evaporation rate is reached, and prevent the deposition of a bumping foreign substance of the evaporation material on the substrate when the evaporation power is excessive.例文帳に追加

安定した蒸着レートに到達するまでの間、基板への蒸着材料の蒸着を防止し、また、蒸着パワーが過剰になった場合に、基板への蒸着材料の突沸異物付着を防止する。 - 特許庁

In the fixing device 25, the deposition rate of the toner depositing on the cleaning roller 256 or 257 in the figure is made ≤20%, or 30 mg per 1000 pieces of image charts in an image area ratio.例文帳に追加

本発明の定着装置２５では、図１のクリーニングローラ２５６または２５７に付着するトナーの付着速度を２０％画像面積率の画像チャート１０００枚あたり３０ｍｇ以下とするものである。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus capable of preventing degradation of the film deposition rate even when a target is continuously used, a PDP (plasma display panel) manufacturing device using the sputtering apparatus, a sputtering method, and a method for manufacturing a plasma display panel.例文帳に追加

ターゲットを継続して使用しても、成膜速度が低下することがないスパッタリング装置、このスパッタリング装置を利用したＰＤＰの製造装置、スパッタリング方法及びＰＤＰの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the outside vapor deposition (OVD) method performed by supplying a glass gaseous starting material, gaseous hydrogen and gaseous oxygen to a large number of the burners, the gas flow rate to each burner is uniformized by a pressure equalizer provided at the tip of a gas supply source.例文帳に追加

ガラス原料ガス、Ｈ_２ガス、Ｏ_２ガスを多本数バーナーに供給するＯＶＤ法において、ガス供給源の先に設けた圧力平均化装置によって、各バーナーへのガス流量が均一になるようにする。 - 特許庁

To provide a detergent composition having excellent detergency, which has a fast deposition rate of a polymer in the composition, does not cause a scratch to a hard surface, and does not give skin a feeling of stimulation.例文帳に追加

洗浄剤組成物中の高分子の析出速度が早く、硬表面に対しては傷をつけることがなく、また、肌に対しては刺激感がない優れた洗浄力を有する洗浄剤組成物を提供する。 - 特許庁

To stabilize the channel and the flow rate of process gas by reducing the quantity of process gas flowing into a gap between the lower surface of a housing and the back surface of an injector shield section thereby preventing deposition of undesired productions.例文帳に追加

本発明の目的は、筐体の下面とインジェクタシールド部の背面との間の隙間に流れ込むプロセスガスを低減し、不所望な生成物が堆積することを防止しプロセスガスの流路及び流量を安定させる。 - 特許庁

A pressure loss factor k indicating an increase rate when the effective capacity of the filter is reduced due to the deposition of ash and accordingly a pressure difference across the filter is increased is set on the basis of the estimated value of the deposited amount of ash.例文帳に追加

アッシュの堆積によってフィルタ有効容量が減少し、これによってフィルタ前後差圧が増大するときの増大率を示す圧損倍率ｋを、アッシュ堆積量の推定値に基づいて設定する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system where sufficient degassing can be performed, the perfect stop of the feed in the vapor of an evaporation material can be performed, and the evaporation material can be controlled to a desired vapor flow rate at high precision.例文帳に追加

十分な脱ガスができ、蒸発材料の蒸気の供給の完全停止を行うことができ、蒸発材料を所望の蒸気流量に高精度で制御できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

Refractive index distribution is changed by burying the lens part in the through hole by CVD film deposition work, for example, and then varying the kind or flow rate of reaction gas in CVD.例文帳に追加

例えばＣＶＤ法による成膜作業によって貫通孔内に埋め込み形成し、ＣＶＤの反応ガスの種類を変化させたり、反応ガスの流量を変化させることによって屈折率分布を変化させる。 - 特許庁

To provide the viewport of a chemical vapor deposition device for manufacturing semiconductors that can prevent heat loss in a chamber, can minimize polymer adhesion to a silhouette window for facilitating the management, and can reduce the fail rate of products.例文帳に追加

チャンバー内の熱損失を防止し、透視窓へのポリマー凝着を極小化させてその管理を容易にし、製品不良率を低減することができる半導体製造用化学蒸着装置のビューポートを提供する。 - 特許庁

Thus, even bringing a substrate W close to the shield plates 18, the etching on the surface of the substrate by ions can be prevented, and the film deposition rate can be enhanced by increasing the amount of radicals reaching the substrate W.例文帳に追加

これにより、基板Ｗを遮蔽板１８に近づけてもイオンによる基板表面のエッチングを防ぐことができ、基板Ｗへ到達するラジカル量を増加させて成膜レートの向上を図ることが可能となる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a solid electrolyte thin film and a parallel flat-plate type magnetron sputtering device, which can improve a deposition rate and is free from damage caused by energy of plasma, and to provide a manufacturing method for a thin-film solid lithium ion secondary battery.例文帳に追加

成膜速度が向上し、プラズマのエネルギによるダメージがない固体電解質薄膜の製造方法、平行平板型マグネトロンスパッタスパッタ装置、及び薄膜固体リチウムイオン２次電池の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method, an apparatus and a program for manufacturing an optical fiber preform by which the optical fiber preform small in the change of deposition in the longitudinal direction is manufactured only by the rate control of a heating source.例文帳に追加

熱源の速度制御のみにより長手方向における堆積量の変動が少ない光ファイバー母材を製造することができる光ファイバー母材の製造方法、製造装置および製造プログラムを提供する。 - 特許庁

To avoid erroneous determination as a failure of a thermal suction air flow rate detection device by the deposition of water on a heat regeneration resistance body and a temperature-sensing resistance body of the thermal suction air flow rate detection device, and to accurately detect an air amount sucked to an internal combustion engine even if suction pulsation is generated.例文帳に追加

熱式吸入空気流量検出装置の発熱抵抗体や感温抵抗体への水の付着により、熱式吸入空気流量検出装置の故障と誤判定してしまうことを回避し、且つ吸気脈動が発生している場合でも内燃機関に吸入される空気量を精度よく検出すること。 - 特許庁

A setting of an optical system as an optimum way of scanning charged particle beam, a beam staying period, and a scanning distance are found against an intended irradiation area for film formation and selective etching, depending on a deposition rate stored in advance or a scanning cycle dependent etching rate, and the result of judgment is displayed.例文帳に追加

成膜又は選択エッチングをするための所望の照射領域に対して，あらかじめ記憶したデポレート又はエッチングレートの走査周期依存性から，荷電粒子線の最適走査方法となる光学系の設定とビーム滞在時間と走査間隔を見つけ出し，その判断結果を表示する。 - 特許庁

The method for producing the silver-histidine polynuclear complex comprises dissolving the silver compound and histidine in water in a rate of 1 to 5 pts.mol of the histidine per pt.mol of the silver ions, heating the aqueous solution at 30 to 70°C to obtain the deposition mixture solution, separating the deposition mixture solution into the solid phase and the liquid phase, and then drying the solid phase.例文帳に追加

銀化合物とヒスチジンとを、銀イオン１モル部に対してヒスチジン１〜５モル部の割合で、水に溶解させて水溶液を得、 該水溶液を３０℃〜７０℃に加熱して析出混合液を得、 該析出混合液を固相と液相とに分離し、 次いで該固相を乾燥させることを含む製造方法によって銀−ヒスチジン多核錯体を得る。 - 特許庁

In the heating vessel of an organic thin film deposition device including a body in which a space part stored with an organic material is formed at the inside, and at least one or more discharge holes are formed at a closed upper part, and a heater provided to the outer circumferential face of the body, the size of the discharge hole is set by the volume of the body and a vapor deposition rate.例文帳に追加

内部に有機材料が収容される空間部が形成されて密閉された上部に少なくとも一つ以上の吐出孔が形成される本体と、上記本体の外周面に設けられるヒータを含む有機薄膜形成装置の加熱容器において、吐出孔の大きさが本体の容積、蒸着レートによって設定される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a thin film semiconductor device maintaining a deposition rate even at a low substrate temperature to deposit a crystalline silicon thin film on a substrate, thereby industrially putting the direct deposition of the crystalline silicon thin film onto the substrate into practical use and contriving high performance by using this silicon thin film.例文帳に追加

低い基板温度であっても成膜速度を維持して結晶性のシリコン薄膜を基板上に成膜可能で、これにより基板上への結晶性のシリコン薄膜の直接成膜を産業上において実用化すると共に、このシリコン薄膜を用いることで高性能化が図られた薄膜半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method capable of feeding a large amount of raw material gas in a processing vessel while maintaining the safety when intermittently feeding the raw material gas, not only enhancing the film deposition rate but also controlling the concentration of the element contained in the raw material gas in a film as a result, and increasing, for example, the concentration of the element.例文帳に追加

原料ガスを間欠的に供給する際に、安全性を維持しつつ多量の原料ガスを処理容器内へ供給することができ、この結果、成膜レートを向上できるのみならず、膜中における原料ガスに含まれる元素の濃度をコントロールして、例えばこの元素濃度を高くすることが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target, when a thin film essentially consisting of titanium dioxide and having a high index of reflection is formed by DC (Direct Current) sputtering process, which solves the conventional defect that a film deposition rate is extremely slow and productivity is extremely inferior.例文帳に追加

二酸化チタンを主成分とした高屈折率の薄膜をＤＣスパッタリング法で形成する際に、従来有していた成膜速度が極めて遅く生産性が非常に悪いという欠点を解消しようとするスパッタリングターゲット。 - 特許庁

To provide a waste straws-binding apparatus of a combine harvester capable of carrying out good binding by exhibiting sure and smooth conveying function without deposition stay and entrainment to a packer driving part in conveyance of waste straws at high flow rate.例文帳に追加

高流量の排ワラ搬送においてもパッカー駆動部への付着滞留や巻き込みなく確実かつ円滑な搬送機能を発揮して良好な結束を行うことができるコンバインの排ワラ結束装置を提供する。 - 特許庁

To overcome the problem of melting-out by providing a fixing device and an image forming apparatus of not more than a specified performance having a minute offset deposition rate of toner to a cleaning roller, which is used for the fixing rotor of the image forming apparatus.例文帳に追加

画像形成装置の定着回転体に用いられるクリーニングローラへのトナーの微量オフセット付着速度が規定値以下の定着装置および画像形成装置を提供し、溶け出しの問題を解決することを課題とする。 - 特許庁

The device for manufacturing multilayered film optical filters which vapor-deposits a plurality of dielectric multilayered films is so constituted that the evaporation rate profile of a raw material is fed back to control an electron gun of a vapor-deposition source.例文帳に追加

複数の誘電体多層膜を蒸着する多層膜光学フィルターの形成装置であって、原料の蒸着速度分布をフィードバックし、蒸着源の電子銃を制御するように、多層膜光学フィルター形成装置を構成する。 - 特許庁

In the repair method in which cladding by welding is applied on a rotor material to form a repair part, this cladding by welding is thin build-up welding with a high deposition rate, forming the repair part by laminating beads of the thin build-up welding.例文帳に追加

ロータ材に肉盛溶接を施し、補修部を形成する補修方法において、前記肉盛溶接は溶着速度の速い薄盛溶接であり、その薄盛溶接のビードを積層することにより前記補修部を形成する。 - 特許庁

To provide a sputtering method and system with which occurrence of arc discharge on a target can be suppressed over a long period of time, and also, an extremely thin film can be secured at a high film deposition rate with high in-plane uniformity.例文帳に追加

本発明は、ターゲット上でのアーク放電の発生を長期的に抑制でき、かつ、速い成膜速度にて非常に薄い膜を高い面内均一性で確保できるスパッタリング方法及び装置を提供するものである。 - 特許庁

To provide a comfortable health product thanks to e.g. improvement in the touch feeling and UY-cutting rate of textiles and woven fabrics utilizing the resultant bulkiness by changing the structure of silk ( e.g. cocoon, silk threads) by vacuum deposition blasting technique.例文帳に追加

蒸着爆砕法によりシルク（繭及び繭糸など）に構造的な変化を与え、生じた嵩高性を利用した繊維及び織物の風合い、感触、ＵＶカット率の向上などによる、快適な健康商品を得ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus which uses a high-frequency power source or a direct-current power source superimposed by the high-frequency power, and has an improved use efficiency for a target material by promoting erosion in the peripheral part of the target without decreasing a film-deposition rate.例文帳に追加

高周波あるいは高周波と直流が重畳された電源を用いたスパッタリングにおいて成膜レートを低下させることなく、ターゲット外周端部の侵食を促進しターゲット材料利用効率を向上させる。 - 特許庁