「deposition rate」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The film thickness of the thin-film structure to be deposited can be precisely controlled and the desired light reflectivity can be obtained by controlling the evaporation rate from the stage of the pretreatment step prior to the deposition operation.例文帳に追加

成膜動作前の前処理工程時から蒸発レートの制御を行うことで、成膜する薄膜構造の膜厚を精密に制御して所望の光反射率を得ることができる。 - 特許庁

To provide a polyacetal resin composition excellent in suppression of a formaldehyde generation amount after sliding, in suppression of crack under aging, and in mold deposition resistance in a low die filling rate condition.例文帳に追加

摺動後のホルムアルデヒド発生量の抑制、エージング下でのクラックの抑制、金型への充填率が低い条件下での耐モールドデポジット性に優れたポリアセタール樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a rotary target holder capable of performing sputtering by selectively applying a high bias voltage to an objective target, and enhancing the film deposition rate.例文帳に追加

目標とするターゲットに対して選択的に高バイアス電圧を印加してスパッタリングを行えると共に、成膜レートを向上させることができる回転式ターゲットホルダを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a silicon (oxy) nitride film by CVD at a sufficient deposition rate even under a low temperature without producing a large quantity of ammonium chloride.例文帳に追加

多量の塩化アンモニウムの生成を伴うことなく、低温化でも十分な成膜速度をもってシリコン（オキシ）窒化物膜をＣＶＤ法により製造し得る方法を提供する。 - 特許庁

To improve a sedimentation rate and to provide rotational symmetry in a method for manufacturing an optical fiber by carrying out one or more kinds of chemical vapor deposition reactions in a base material tube.例文帳に追加

１種以上の化学蒸着反応を基材チューブ内で行うことによって光ファイバーを製造する方法において、堆積速度を高めならびに回転対称性を得る。 - 特許庁

In the case the particles of a metallic material are generated, the quantity of the particles to be released in the arc evaporation source is large, thus a film deposition rate is high, and inexpensive thin film pigment can be formed.例文帳に追加

金属材料の粒子を発生させる場合、アーク蒸発源の粒子放出量が多いので、成膜速度が速く、安価な薄膜顔料を形成することができる。 - 特許庁

To provide a sputtering target for depositing an oxide film capable of enhancing the production efficiency of a metal oxide film and thus an optical thin film or the like by suppressing reduction of the film deposition rate of the metal oxide film when performing the sputtering film deposition of the metal oxide film suitable for the optical thin film.例文帳に追加

光学薄膜に好適な金属酸化膜をスパッタ成膜するにあたって、金属酸化膜の成膜速度の低下を抑制することによって、金属酸化膜ひいては光学薄膜等の生産効率を高めることを可能にした酸化膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a crucible for evaporation and a method of evaporation which deposit a sublimable material with a uniform film thickness by stabilizing the distribution of steam flow generated without accompanying fluctuation of deposition conditions such as a film-forming rate, in deposition of the sublimate material.例文帳に追加

本発明は、昇華性材料の蒸着において、成膜レートのような蒸着条件の変動を伴わず、発生された蒸気の蒸気流分布を安定化させ、昇華性材料を均一な膜厚で堆積できる蒸着用ルツボおよび方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a film deposition system in which the diffusion of a magnetic field in the vicinity of the surface of the object to be film-deposited is suppressed to secure a prescribed magnetic field in the vicinity of the surface of the object to be film-deposited, and the amount of plasma particles arrived at the vicinity of the surface is increased to improve a film deposition rate.例文帳に追加

被成膜物の表面近傍での磁場の拡散を抑制し被成膜物の表面近傍に所定の磁場を確保し、表面近傍に到達するプラズマ粒子量を増加させることによって成膜速度を向上させる成膜装置を提供する。 - 特許庁

When it is determined that the total amount of deposition of the printing agent (depositing rate on one face DO) from the image data to be printed exceeds a specified threshold value (25%) in S103, the processing of decreasing the total amount of the deposition of the printing agent is executed by a controlling means in S106.例文帳に追加

印刷される画像データに基づく印刷剤の全体付着量（片面付着率ＤＯ）が、Ｓ１０３において、所定の閾値（２５％）を超えると判断される場合に、Ｓ１０６において、制御手段によって印刷剤の全体付着量を低減させる処理が実行される。 - 特許庁

To provide a polyalkylene naphthalate film from which a vapor-deposition type magnetic recording medium can be obtained, free from the aggravation of surface flatness caused by the deposition of a degradation object and a metal component and having a small thickness difference in a longitudinal direction and an excellent output and dropout characteristics and error rate characteristics, and to provide the magnetic recording medium using the same.例文帳に追加

劣化物や金属成分の析出に起因した表面平坦性の悪化がなく、長手方向の厚み斑の小さい、出力、ドロップアウト特性、エラーレート特性に優れた蒸着型磁気記録媒体が得られるポリアルキレンナフタレートフィルムおよびそれを用いた磁気記録媒体の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical fiber preform which is uniform in a longitudinal direction and is free of fluctuation in its external diameter by improving the deposition rate of soot without lowering the manufacturing speed over the entire part in manufacturing a large size preform for the optical fiber by an OVD (outside vapor phase deposition) soot method.例文帳に追加

外付けスート法によって、光ファイバ用母材となる大型のプリフォームを製造するにあたり、全体の製造速度を低下させることなくスートの堆積速度を向上させ、長さ方向に均一で外径変動のない光ファイバ母材用のプリフォームの製法を提供するものである。 - 特許庁

To consistently manufacture an optical element for which the severe specification is requested by controlling the refractive index to the high accuracy while controlling the optical film thickness without using any iterative calculation to make the control complicated, and without being affected by the fluctuation or the like in the film deposition rate which is possible with the vacuum vapor deposition.例文帳に追加

制御が複雑となる反復計算を用いることなく、また、真空蒸着にありがちな成膜速度変動等の影響を受けることなく、光学膜厚を制御しながら屈折率を高精度に制御し、厳しい仕様が求められる光学素子を安定して製造する。 - 特許庁

The manufacturing of a channel layer comprises following steps of forming a first amorphous silicon layer by using a low deposing rate(LDR)(chemistry vapor deposition(CVD)), and forming a second amorphous silicon layer by using a high deposing rate(HDR) to form an N + mixed amorphous silicon layer.例文帳に追加

チャンネル層の製作は次のステップを含む：低蒸着率（ＬＤＲ）を用いて第一のアモルファス・シリコン層を形成し（化学蒸着、ＣＶＤ）；高蒸着率（ＨＤＲ）を用いて第二のアモルファス・シリコン層を形成し；Ｎ＋ミクスト・アモルファス・シリコン層を形成する。 - 特許庁

Then, while reducing the flow rate of the inert gas to be supplied to the reaction chamber 2, a raw material gas is supplied into the reaction chamber 2 while increasing the flow rate, and the film is formed on the substrate 10 to be processed while maintaining the pressure inside the reaction chamber 2 at the deposition pressure.例文帳に追加

次に、反応室２に供給される不活性ガスの流量を減少させつつ、反応室２内に流量を増加させながら原料ガスを供給して、反応室２内の圧力を成膜圧力に維持しつつ被処理基板１０に膜を形成する。 - 特許庁

On the other hand, during an OT increase where a target air-fuel ratio different from that in the base operation is set, a residual rate P_ot and a deposition rate R_ot in the OT increase are calculated with reference to another map than the map in the Step 104 (Step 108).例文帳に追加

一方、ベース運転時とは異なる目標空燃比が設定されるＯＴ増量中である場合には、ステップ１０４で参照されたマップとは異なるマップを参照して、ＯＴ増量時の残留率P_ot及び付着率R_otを算出する（ステップ１０８）。 - 特許庁

When depositing the colossal magneto-resistive material thin film which has epitaxially grown after crystal orientation on a base electrode by sputtering using facing targets, a sputtering process having at least two steps are used, a deposition rate is relatively slowed down in the sputtering process in a first step, and the deposition rate is relatively accelerated in the sputtering process in later steps to form the thin film.例文帳に追加

対向ターゲットを用いたスパタッリングによって下地電極上の結晶方位に倣ってエピタキシャル成長した巨大磁気抵抗材料薄膜を成膜する際に、少なくとも２段階のスパッタリング工程を用い、第１段階のスパッタリング工程で成膜速度を相対的に遅くし、その後の段階のスパッタリング工程で成膜速度を相対的に速くして薄膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device including a plating step of depositing metal along a sidewall of a deep recess having a narrow opening and made in a substrate, which can make small the step difference of the metal deposited on the substrate, by making the deposition rate on the substrate nearly equal to the deposition rate on the sidewall and the bottom of the recess.例文帳に追加

開口部が狭く、深い窪みを有する基板において、該窪みの側壁にそって、金属を析出させるメッキ工程において、基板の表面に析出する析出速度と、窪みの側壁及び底部に析出する析出速度とを、ほぼ同等とすることにより、基板表面に析出される金属段差を、小さくすることが可能とする半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the two-stage cleaning steps, the etching rate of the first-stage cleaning step is made higher than the etching rate of the second-stage cleaning step, and the step is changed from the first-stage cleaning step to the second-stage cleaning step while a deposition film deposited in the vacuum chamber remains.例文帳に追加

二段階のクリーニング工程において、第１段階のクリーニング工程のエッチングレートを第２段階のクリーニング工程のエッチングレートよりも高速とし、真空チャンバ内に堆積する堆積膜が残存する間に第１段階のクリーニング工程から第２段階のクリーニング工程に変更する。 - 特許庁

To provide a fuel cell system in which the efficiency of an entire system can be enhanced by increasing the boost pressure of an ejector while suppressing deterioration in carbon deposition or lowering of reform rate of a reformer.例文帳に追加

改質器の炭素析出劣化や改質率の低下を抑制しつつ、エゼクタの昇圧圧力を高めてシステム全体の効率を向上させることが可能な燃料電池システムを提供する。 - 特許庁

To provide chemical vapor deposition equipment which is capable of stabilizing the flow rate of a treatment gas supplied to a reaction chamber, and to provide a semiconductor device manufactured by the equipment.例文帳に追加

反応室内に供給される処理用ガスの流量を安定させることのできる化学気相成長装置、および、それにより製造される半導体装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a stock for vapor deposition from which a vapor-deposited tape of high quality which has the low number of splashes and a low scum rate, and is also utilizable as a medium for recording information such as the data of a computer, can be obtained.例文帳に追加

スプラッシュ数やスカム率が低く、コンピュータのデータ等の情報を記録する媒体としても利用可能な高品質の蒸着テープを得ることができる蒸着用 素材を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a CeO_2 thin film, capable of securing excellent orientation and surface smoothness and increasing deposition rate, the CeO_2 thin film, and an apparatus for forming the CeO_2 thin film.例文帳に追加

優れた配向性および表面平坦性を確保しつつ、成膜速度を上昇させることが可能なＣｅＯ_２薄膜の製造方法、ＣｅＯ_２薄膜およびＣｅＯ_２薄膜の製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition system where an EL material can be efficiently vaporized and evaporated, and can be fed in high quality and also at a high rate, to provide an evaporation source device therefor, and further, to provide an evaporation source container therefor.例文帳に追加

効率的にEL材料を気化・蒸発することが可能であり、高品質でかつ高レートで供給することが可能な、成膜装置と蒸発源装置、更には、蒸発源容器を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target which is used for depositing a high refractive index film based on titanium oxide, exhibits a high deposition rate and is capable of suppressing the temperature rise of the surface of a substrate when the high refractive index film is deposited on the substrate.例文帳に追加

酸化チタンを主体とする高屈折率膜の形成に用いる、成膜速度が高く、成膜時の基体表面の温度上昇を抑制することができるスパッタリングターゲットの提供。 - 特許庁

To prevent the generation of the scattering of an electrode binder manufacturing a non-aqueous electrolyte secondary in cell, for example to reduce the generation rate of inner short circuit (OCV) due to the deposition of metal lithium.例文帳に追加

非水電解質２次電池を製造する際に、電極合剤の飛散が起きてしまうのを防止し、これにより例えば金属リチウム析出による内部ショート（ＯＣＶ）の発生率を低減させる。 - 特許庁

When an electrode film is deposited on a semiconductor substrate, it is deposited with extremely low deposition rate (1-1,000 Å/min) while heating the substrate from 400 to 900°C.例文帳に追加

本発明では、半導体基板上に電極膜を成膜する時、基板温度を４００℃から９００℃まで加熱しながら、成膜速度を極めて遅くして（１〜１０００Å／ｍｉｎ）堆積させる。 - 特許庁

By employing such a deposition rate as shown in an embodiment, the temperature of melting out from the cleaning roller is kept high about 200°C in a table 1 (not shown), which results in preventing the re-melting of the toner.例文帳に追加

このような付着速度とすることにより、実施例に示すように、クリーニングローラからのトナー溶けだし温度がほぼ２００℃程度（表１）と高く保たれる結果、トナーの再溶け出しが防止される。 - 特許庁

To provide a method for the Diels-Alder reaction in which stable operation can be carried out over a long period and the effective conversion rate of ethylene can be improved to prevent a side reaction and deposition such as polymers.例文帳に追加

ディールス−アルダー反応において、長期にわたる安定運転を可能とし、エチレン有効収率を向上させ、かつポリマーなどの付着物の発生を防止し得る製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide horizontal electroplating equipment maintaining deposition rate even when a distance between an energizing roller and an anode electrode is shortened in order to reduce a power source equipment cost and an electric energy running cost.例文帳に追加

電源設備コスト及び電気的エネルギーランニングコストの削減を目的に、通電ロールと陽極電極の距離を短縮しても、めっき速度を維持することが可能な横型電気めっき装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of improving the degradation of the film deposition rate, and adequately adjusting the composition ratio, and a substrate processing apparatus.例文帳に追加

本発明の目的は、成膜レートの低下を改善することができ、組成比を適切に調整することができる半導体装置の製造方法および基板処理装置を提供することにある。 - 特許庁

When the magnetic field is formed by an induction coil 10, each heating plate 1 itself generates the heat uniformly by the dielectric heating, the mounted film material 5 is also uniformly heated, and the vapor deposition rate becomes consistent.例文帳に追加

誘電コイル１０によって磁界が形成されると、各加熱板１自体が誘電加熱によって斑なく発熱し、載せられた膜材料５も均一に加熱されるため、蒸着レートが安定する。 - 特許庁

To provide an electroless gold plating liquid which exhibits a sufficient deposition rate even at a low liquid temperature of about 60 to 80°C, enables a satisfactory film appearance, and particularly has excellent stability.例文帳に追加

液温６０〜８０℃程度の低温であっても充分な析出速度を発揮し、皮膜外観が良好であり、且つ、めっき液の安定性が特に優れた無電解金めっき液を提供すること。 - 特許庁

To provide vacuum processing method and apparatus in which the SiH_2/SiH ratio does not rise even if the film deposition rate is increased, and high productivity can be attained by preventing aggravation of film quality.例文帳に追加

製膜速度を増加させてもＳｉＨ_２／ＳｉＨ比が高くならず、膜質の悪化を防いで高い生産性を得ることができる真空処理方法及び真空処理装置を提供すること。 - 特許庁

This method includes a step in which a high frequency pulse power source used for generating TEOS oxide plasma is fed to control the deposition rate of silicon dioxide on a substrate.例文帳に追加

該方法には、ＴＥＯＳ酸化物プラズマを生成するために用いられる高周波パルス電源を供給することにより、基板上の二酸化ケイ素の堆積速度を制御するステップが含まれる。 - 特許庁

To provide a mineral water generator which can improve the elution rate of mineral from a mineral elution material with a simple structure, constantly keep the mineral concentration in mineral water, and inhibit the deposition of mineral components.例文帳に追加

簡単な構造でミネラル溶出物のミネラル溶出率を向上させ、また、ミネラル水のミネラル濃度を一定に保持でき、更にミネラル成分の析出を抑制できるミネラル水製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electroless conversion gold-plating method which can form a uniformly gold-plated film at a constant deposition rate for a long term and greatly prolong the renewal time of a gold-plating solution.例文帳に追加

長期間に亘って安定な析出速度で均一な金めっき皮膜を形成でき、金めっき液の更新期間を大きく延長することが可能な置換型無電解金めっき方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the contained carbon density is made high, even if the film deposition is carried out at a comparatively low temperature, the etching rate during the cleaning can be made comparatively low, and the controllability of film thickness during the cleaning can be improved.例文帳に追加

これにより、比較的低温で成膜しても含有する炭素濃度を多くさせてクリーニング時のエッチングレートを比較的小さくでき、もってクリーニング時の膜厚の制御性を向上させる。 - 特許庁

A film-deposition gas used when the transparent film is formed is specified to be the mixed gas of an oxygen gas and an argon gas and a flow rate of the oxygen gas in the mixed gas is specified to be in a range of 0.01 to 1.12%.例文帳に追加

そして、透明膜を形成する際の成膜ガスを、酸素ガスとアルゴンガスとの混合ガスとして、この混合ガスにおける酸素ガスの流量比を０．０１％〜１．１２％の範囲内とする。 - 特許庁

The method may also include an increase of a ratio of the silicon-containing precursor to the oxidizing gas flowing into the chamber as time passes, to alter a rate of deposition of the dielectric material.例文帳に追加

また、この方法は、時間の経過と共に、チャンバ内に流されるシリコン含有前駆物質と酸化ガスの比を増加させて、誘電体材料の堆積速度を変更するステップを含んでもよい。 - 特許庁

A design method of the optical thin film obtains desired optical characteristics by introducing time parameters during designing the optical thin film and considering time change of the refractive index and dispersion of the material and rate change of the material during deposition.例文帳に追加

光学薄膜の設計時に時間のパラメータを導入し、成膜時における材料の屈折率及び分散の時間変化、及び材料のレート変化を考慮し、所望の光学特性を得ること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a glass particulate deposit with which a high deposition rate is obtainable and which is capable of yielding the porous glass particulate deposit fluctuating less in external diameters and a burner and apparatus for the same.例文帳に追加

速い堆積速度が得られ、しかも外径変動の少ない多孔質ガラス微粒子堆積体を得ることができるガラス微粒子堆積体の製造方法、そのためのバーナー及び装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a target structure which enables sputtering of gallium or gallium-containing material in a molten state even when the film deposition rate is increased by increasing the input electric power and a sputtering apparatus including such a target structure.例文帳に追加

投入電力を増大させて成膜速度を高めても、溶融状態のガリウムあるいはガリウムを含む材料のスパッタリングを可能にするターゲット構造とこれを備えたスパッタリング装置。 - 特許庁

The precision of the film thickness control is improved by correcting the measured date by the film thickness sensor 20 for control based on the correction value obtained by the film thickness sensor 40 for correction which measures the vapor deposition rate discontinuously.例文帳に追加

不連続的に蒸着レートを計測する補正用膜厚センサー４０による補正値に基づいて、制御用膜厚センサー２０の計測データを補正することで、膜厚制御の精度を向上させる。 - 特許庁

To provide activated carbon which substantially avoids a dendrite formation phenomenon by the reductive deposition of alkali metals and heavy metals, hardly causes problems such as short-circuiting, and shows a good rate of self-discharge retention.例文帳に追加

アルカリ金属や重金属の還元析出によるデンドライト化現象を生じさせにくく、ショートなどの障害を起こし難く、また、良好な自己放電保持率を示す活性炭を提供する。 - 特許庁