「deposition rate」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

Although a deviation of the film thickness is large when the deposition is executed at a high deposition rate, the film of the organic EL emission element is formed at a film thickness having a small deviation from the targeted film thickness by depositing the deposition material at a low deposition rate.例文帳に追加

そして高蒸発レートで蒸着を行なうと膜厚のずれが大きいが、高蒸発レートで蒸着した膜厚を測定し、測定値と目標とする膜厚との差を、低蒸発レートで蒸着することによって、目標とする膜厚とずれの小さい膜厚で成膜することができる。 - 特許庁

A ZnO sintered compact containing 0.1 to 15 mass% rare earth elements is used for a vapor deposition material, and film deposition is performed by a reactive vapor deposition process in an oxygen gas flow rate of 0 to 500 sccm and at a film deposition rate of 0.5 to 5.0 nm/s, so as to deposit a ZnO film having high moisture resistance.例文帳に追加

希土類元素を０．１〜１５質量％含むＺｎＯ焼結体を蒸着材に用い、反応性プラズマ蒸着法により酸素ガス流量０〜５００ｓｃｃｍ、成膜速度０．５〜５．０ｎｍ／秒で成膜を行い、高耐湿性のＺｎＯ膜を成膜する。 - 特許庁

The vapor deposition apparatus to deposit a film on a vapor deposition surface of a substrate by vaporizing a vapor deposition material by a vapor deposition source has a shutter to regulate the vapor deposition rate between the vapor deposition source and the substrate, and very small irregularities are formed on a surface of the shutter on the vapor deposition source side in order to prevent separation of the deposited vapor deposition material.例文帳に追加

蒸着源により蒸着材料を気化させて、基板の蒸着面に膜形成を行う蒸着装置において、前記蒸着源と前記基板との間に、蒸着レートを調整するためのシャッターを備え、前記シャッターの前記蒸着源側の面に、付着する蒸着材料の剥離を防止するために、微細な凹凸を形成したものである。 - 特許庁

A method is provided, which improves the uniformity of the deposition rate of the chemical vapor deposition (CVD) of a film when a large number of substrates are continuously and successively processed in a deposition chamber.例文帳に追加

我々は、多くの基板が堆積チャンバ内で連続して順に処理される場合に、膜の化学気相堆積（ＣＶＤ）の堆積速度の均一性を改善する方法を有する。 - 特許庁

To provide a film deposition device and a film deposition method where the control of a film deposition rate can be performed at high precision, and a film is deposited with high reproducibility allowing a mass-production of elements.例文帳に追加

成膜速度の制御を精度良く行うことが可能であると共に、素子の量産が可能な高い再現性の成膜を可能とする成膜装置および成膜方法を実現する。 - 特許庁

Here, the deposition rate of the CeO_2 thin film in the deposition step is ≥30 nm/min, and the temperature of the oriented metal substrate in the deposition step is 750-1,100°C.例文帳に追加

そして、成膜工程におけるＣｅＯ_２膜の成膜速度は３０ｎｍ／分以上であり、成膜工程における、配向性金属基板の温度は７５０℃以上１１００℃以下である。 - 特許庁

To provide a method for measuring deposition thickness by which deposition thickness on a substrate is accurately converted from a deposition rate of an organic gaseous material effused from a vertically moving deposition source, and to provide a deposition system using the same.例文帳に追加

垂直上下方向に移動する蒸着源から噴射される有機気相物質の蒸着率から基板に形成される蒸着膜の厚さを正確に換算することができる蒸着膜厚測定方法及びこれを用いた蒸着システムを提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition apparatus which can perform vapor deposition at an always high vapor deposition rate, and nevertheless does not give damage to a semiconductor substrate to be subjected to vapor deposition, and does not give rise to curing of a photoresist, and an electron beam irradiation method of the vacuum vapor deposition apparatus.例文帳に追加

常に高い蒸着レートにより蒸着を行うことができ、しかも蒸着を行う半導体基板に損傷を与えたり、フォトレジストの硬化を引き起こすことのない、真空蒸着装置及びこの装置の電子ビーム照射方法を提供する。 - 特許庁

The vapor deposition apparatus to deposit a film on a vapor deposition surface of a substrate by vaporizing a vapor deposition material by a vapor deposition source has a shutter to regulate the vapor deposition rate in a vicinity of an aperture of the vapor deposition source, and very small irregularities are formed on a surface of the shutter on the vapor deposition source side.例文帳に追加

本発明の蒸着装置は、蒸着源により蒸着材料を気化させて、基板の蒸着面に膜形成を行う蒸着装置において、前記蒸着源の開口部の近傍に、蒸着レートを調整するためのシャッターを備え、前記シャッターの前記蒸着源側の面に、微細な凹凸を形成したものである。 - 特許庁

The deposition time is reduced by depositing the deposition material up to a film thickness smaller than the targeted film thickness at a high evaporation rate.例文帳に追加

高蒸発レートで蒸着材料を目標とする膜厚以下にまで蒸着することによって、蒸着時間を短縮することができる。 - 特許庁

To provide an atomic layer deposition device which can improve the uniformity in the film quality and film deposition rate of a film formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成される膜の膜質および成膜レートの均一性を向上させることができる原子層成長装置を提供する。 - 特許庁

Next, after the desired film deposition rate is achieved, a base material conveying device 3 is driven to start the film deposition work on the long strip-like base material 10.例文帳に追加

次に、所望の成膜速度になった後、基材搬送装置3を駆動させて長尺帯状基材10への成膜作業を開始する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a quartz glass preform by which both of the deposition efficiency and the deposition rate of glass fine particles are increased.例文帳に追加

ガラス微粒子の付着効率の向上と、堆積速度の向上とを両立させることができる石英ガラス母材の製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a film deposition method, in the case a metal oxide is formed by a CVD process, which can improve its crystallinity without changing a film deposition rate.例文帳に追加

ＣＶＤ法で金属酸化物を形成する場合、成膜速度を変えずに結晶性を向上させる成膜方法を提供する。 - 特許庁

As a result, film deposition rate can be increased, and also the thin film having excellent characteristics can be deposited.例文帳に追加

その結果、成膜速度が大きく、また、特性に優れた薄膜を形成することができる。 - 特許庁

To realize the gas phase synthesis of diamond at a high film deposition rate with a film thickness distribution and a resistivity distribution reduced.例文帳に追加

高い成膜速度で、膜厚分布、抵抗率分布を小さくし、ダイヤモンドを気相合成する。 - 特許庁

To improve a film deposition rate and productivity and further to stabilize quality in sputtering.例文帳に追加

スパッタリングにおける成膜レートおよび生産性を向上すると共に、品質の安定化を図る。 - 特許庁

To achieve stabilization of a film deposition rate, to enhance in-plane uniformity and to prolong the life of a target.例文帳に追加

成膜レートの安定化、面内均一性の向上およびターゲットの長寿命化を図る。 - 特許庁

In the method and system for vacuum deposition by which the vapor deposition material is evaporated in a vacuum chamber 10 to form a deposit film of the vapor deposition material on a substrate 40 for vapor deposition, pressure in the vacuum chamber 10 is controlled to control the deposition rate of the vapor deposition material.例文帳に追加

真空槽１０内部において蒸着物質を蒸発させて被蒸着物４０に蒸着物質の蒸着膜を成膜する真空蒸着法及び真空蒸着装置において、真空槽１０内部の圧力を制御することによって、蒸着物質の蒸着速度を制御することを特徴とする。 - 特許庁

The method may introduce carrier gas at a flow rate of less than or equal to the flow rate of the organosilicon compound to facilitate deposition.例文帳に追加

場合により、堆積処理を容易にするために、有機シリコン化合物の流量以下の流量でキャリヤガスを導入してもよい。 - 特許庁

To provide a ruthenium compound for an organometallic chemical vapor deposition method that can control a deposition rate and reproducibility of the deposition rate using a solid sublimation method, and to provide a ruthenium-containing thin film obtained from the compound.例文帳に追加

固体昇華法を用いた有機金属化学蒸着法により成膜速度及び成膜速度の再現性を制御し得る有機金属化学蒸着法用ルテニウム化合物及び該化合物により得られたルテニウム含有薄膜を提供する。 - 特許庁

To provide a deposition method capable of forming a silicon nitride film having an excellent film quality with high insulating property and low etching rate while suppressing generation of particles, and having a high deposition rate.例文帳に追加

パーティクルの発生を抑制しつつ絶縁性が高くてエッチングレートが低い等のように膜質が良好で、しかも成膜レートも高いシリコン窒化膜を形成することが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

Then, the flow rate of the gaseous helium to be fed to the film deposition chamber 2 is controlled by a mass flow controller 7B, so that the film deposition rate of the DLC film to be deposited on a substrate 1 can be controlled.例文帳に追加

そして、成膜室２に供給されるヘリウムガスの流量をマスフローコントローラ７Ｂにより制御することによって、基板１上に成膜されるＤＬＣ膜の成膜レートを制御することができる。 - 特許庁

It is shown that addition of small amounts of organic amines enhance the deposition rate of titanium nitride, while the presence of hydrocarbons, such as n-decane, retard the deposition rate of titanium nitride.例文帳に追加

少量の有機アミンの添加は窒化チタンの堆積速度を高めるが、一方、ｎ−デカンおよび類似の炭化水素のような炭化水素の存在は窒化チタンの堆積を阻害することが示される。 - 特許庁

During deposition, reaction gas flow rate is varied between 1/750 and 1/250 of spattering gas flow rate, and the pressure in deposition atmosphere is varied between 2.66×10^2 Pa and 1.33×10^2 Pa.例文帳に追加

また、成膜処理中に反応ガス流量をスパッタガス流量の１／７５０〜１／２５０の間で変化させ、成膜雰囲気の圧力を２．６６×１０^２Ｐａ〜１．３３×１０^２Ｐａの間で変化させる。 - 特許庁

To prevent a drop of working rate, and a deposition of reaction by-products on a processing chamber and an exhaust passage, which become a reason of increasing of a maintenance cost in a film deposition apparatus.例文帳に追加

成膜装置において稼働率の低下とメンテナンス費用アップの原因となる処理室や排気経路への反応副生成物の堆積を防止する。 - 特許庁

In such a plasma CVD system, film deposition rate is enhanced by limiting a gap 52 at film deposition process, thereby reducing a plasma sealing region 54.例文帳に追加

このように構成されたプラズマＣＶＤ装置では、成膜工程時には隙間５２を狭めプラズマ封止領域５４を小さくして成膜速度の向上を図る。 - 特許庁

To provide a crucible capable of preventing blocking of an opening part by a vapor deposition material and film-depositing a film of high quality at a stable film-deposition rate.例文帳に追加

蒸着材料による開口部の閉塞を防止し、安定した成膜レートで高品質な膜を成膜することが可能な坩堝を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a radiographic image conversion panel that forms a phosphore layer by vacuum deposition and can accurately control the deposition rate and layer thickness.例文帳に追加

蛍光体層を真空蒸着で形成し、かつ、蒸着レートおよび膜厚を正確に制御できる放射線像変換パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film deposition system and a thin film deposition method by which a thin film can be deposited at a high growth rate by an electrical technique.例文帳に追加

電気的手法によって高い成長速度で薄膜を形成することが可能な薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a film deposition method capable of enhancing the cooling efficiency of a body to be processed, and increasing the film deposition rate even in the vacuum where the heat is hardly transferred.例文帳に追加

熱が伝わりにくい真空中においても、被処理体の冷却効率を向上させ、成膜速度を向上させた成膜方法を提供する。 - 特許庁

To decrease the ratio of raw materials discharged without contributing film deposition when performing plasma film deposition, while increasing film deposition rate and further avoiding inclusion of microparticles in the film.例文帳に追加

プラズマ成膜を行う際、成膜に寄与することなく排出される原材料の割合を低減するとともに成膜速度を大きくし、さらに、皮膜に微細粒子が含まれることを回避する。 - 特許庁

The problem is solved by investigating the pretreatment method for a mica substrate and the conditions such as degree of vacuum, vapor deposition temperature, vapor deposition rate, and film thickness in the vacuum deposition method.例文帳に追加

真空蒸着法において、雲母基板の前処理方法および蒸着の際の真空度、蒸着温度、蒸着速度、膜厚等の条件を検討することにより、上記課題を解決した。 - 特許庁

To provide a deposition apparatus where the structure of deposition arrangement for depositing a thin film on a wafer 24 with high uniformity is simplified, and the failure rate of the deposition arrangement is reduced, and its repair is facilitated.例文帳に追加

基板２４上に薄膜を高度に均一に形成するための蒸着装備の構造を簡単にして蒸着装備の故障率を減らして修理が容易な蒸着装置を提供する。 - 特許庁

Thus, it is possible to form a silicon nitride film having high insulating property and low etching rate while suppressing generation of particles and having high deposition rate.例文帳に追加

これによりパーティクルの発生を抑制しつつ絶縁性が高くてエッチングレートが低い、しかも成膜レートも高いシリコン窒化膜を形成する。 - 特許庁

To prevent the etching rate or the deposition rate from decreasing in etching or plasma CVD by suppressing electric field erosion at the channel portion of a heat exchanging mechanism.例文帳に追加

熱交換機構の流路部分の電界腐食を抑え、エッチングやプラズマＣＶＤにおいてエッチングレートやデポレートが低下するのを防ぐ。 - 特許庁

At first, the set flow rate in an He flow rate controlling mechanism 105 is changed to diposit a TiN film on the surface of a substrate 102, and a graph with the set flow rate as the abscissa and the film deposition rate as the ordinate is prepared.例文帳に追加

まず、Ｈｅ流量制御機構１０５の設定流量を変化させて基板１０２の表面にＴｉＮ膜を成膜し、設定流量を横軸に成膜速度を縦軸にとるグラフを作成する。 - 特許庁

To improve the utilizing efficiency of a target, the sputtering rate and the precision of film deposition thickness in a sputtering system.例文帳に追加

スパッタリング装置における、ターゲット利用効率及びスパッタ速度と、成膜厚の精度を向上する。 - 特許庁

To provide a plasma processing method and apparatus can maintain a deposition rate in a stable manner.例文帳に追加

成膜レートを安定に維持することができるプラズマ処理方法及びプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

As the material gas is stably supplied in forming the organic film, a deposition rate can be stabilized.例文帳に追加

この有機膜の形成時に、原料ガスが安定して供給されるので、成膜速度が安定する。 - 特許庁

To provide a method of plasma vapor deposition which can achieve a side wall covering rate by a metal.例文帳に追加

金属による高い側壁被覆率を達成することが可能なプラズマ蒸着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for forming a film capable of forming a high quality carbon film added with F at a high deposition rate.例文帳に追加

高品質のＦ添加カーボン膜を、高い成膜速度で形成できる成膜方法を提供する。 - 特許庁

To form a high-activity photocatalyst film having a large film thickness with a high deposition rate on a tile surface.例文帳に追加

タイル表面に膜厚の大きな高活性光触媒性被膜を高成膜速度にて形成する。 - 特許庁

To obtain an electroless plating method which is capable of making a deposition rate of plating films uniform in necessary positions.例文帳に追加

必要な位置におけるメッキ膜の成膜速度を均一にすることができる無電解メッキ方法を得る。 - 特許庁

Consequently, the improvement in the deposition rate and the prevention of the contamination of the microwave introducing window are made possible.例文帳に追加

その結果、成膜速度の向上およびマイクロ波導入窓の汚染防止を図ることができる。 - 特許庁