「deposition rate」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To realize a deposition system having a stable deposition rate by suppressing the solidification of a deposition material.例文帳に追加

成膜材料の固化を抑制し、安定した成膜レートを有する成膜装置を実現する。 - 特許庁

As the film deposition in this method is carried out by sputtering, the film deposition rate is higher than that of a vapor deposition method.例文帳に追加

しかも、成膜はスパッタによるものであるため蒸着法に比べると成膜レートが早い。 - 特許庁

To provide a film deposition system and a film deposition method where a film deposition rate and the thickness of a deposited film can be extremely satisfactorily controlled while holding the film deposition rate by vapor deposition.例文帳に追加

蒸着による成膜速度を保ちながらも極めて良好に成膜速度および成膜膜厚を制御することが可能な成膜装置、および成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition system capable of performing film deposition at a high film deposition rate by plasma CVD.例文帳に追加

プラズマＣＶＤによって、高い成膜レートで成膜を行なうことができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To realize vapor deposition in which oblique vapor deposition and the reduction of a vapor deposition rate are prevented by a compact system.例文帳に追加

斜め蒸着、蒸着レートの低下を防止した蒸着を、小型の装置で実現すること。 - 特許庁

METHOD FOR MEASUREMENT OF DEPOSITION AMOUNT AND DEPOSITION RATE OF TRITIUM GAS IN ENVIRONMENT例文帳に追加

環境中におけるトリチウムガス沈着量及び沈着速度の測定法 - 特許庁

To provide a deposition system having excellent uniformity of a film at a high deposition rate.例文帳に追加

高堆積レートで膜の均一性の良好な堆積システムを提供する。 - 特許庁

To provide a method for depositing film deposition particles on a substrate at a high film deposition rate, in a film deposition method such as an aerosol deposition process, and to provide a film deposition apparatus.例文帳に追加

エアロゾルデポジション法等の成膜方法において、基板に高い付着率で成膜粒子を付着させる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive vapor deposition source cell capable of setting an extensive vapor deposition rate and obtaining an stable vapor deposition rate.例文帳に追加

広範囲な蒸着レートの設定が可能で、安定した蒸着レートを得ることが可能な安価な蒸着源セルを提供する。 - 特許庁

To increase a film deposition rate by surely increasing a Cu film with respect to a film deposition time.例文帳に追加

成膜時間に対してCu膜を確実に増加させて成膜速度を速くする。 - 特許庁

In the initial stage of film deposition, the film deposition rate is set to a first rate, and after the gold thin film reaches a predetermined film thickness, the film deposition rate is set to a second rate being at least twice as the first rate.例文帳に追加

ここで、成膜初期においては、成膜速度を第１速度に設定し、金薄膜の膜厚が一定の膜厚以上になると、成膜速度を第１速度の少なくとも倍の第２速度に設定する。 - 特許庁

To provide a method of controlling deposition rate, a mechanism for controlling deposition rate and an electron-beam physical vapor deposition (EB-PVD) apparatus capable of depositing a film onto an object to be deposited at a low deposition rate while quantitatively-stably generating vaporized particles.例文帳に追加

蒸発粒子を量的に安定発生させつつ、被成膜対象に低成膜レートで成膜する成膜レート制御方法、成膜レート制御機構、およびＥＢ−ＰＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition method capable of exactly controlling a vapor deposition rate and a vacuum vapor deposition system.例文帳に追加

蒸着レートを正確に制御できる真空蒸着方法および真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

Thereby, the amount of ions entering in the film deposition chamber 50 is increased and the film deposition rate is enhanced.例文帳に追加

これにより、成膜チャンバ５０に入るイオンの量が増加し、成膜レートが向上する。 - 特許庁

To provide a deposition device capable of speeding up the deposition rate without lowering a coverage.例文帳に追加

カバレッジを低下させずに成膜速度を速くすることができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

CVD SYSTEM, METHOD FOR CONTROLLING FILM DEPOSITION RATE AND SOLAR BATTERY例文帳に追加

ＣＶＤ装置、成膜速度制御方法、及び、太陽電池 - 特許庁

Consequently, the vacuum deposition apparatus can stably measure the exact vapor deposition rate, and can form the high-accuracy vapor deposition film based on the rate.例文帳に追加

そのため、真空蒸着装置は正確な蒸着レートを安定的に計測でき、これに基づいて高精度な蒸着膜を形成することができる。 - 特許庁

To stably measure an exact vapor deposition rate, and to allow a high-purity vapor deposition film to be formed based on the vapor deposition rate.例文帳に追加

真空蒸着装置において、正確な蒸着レートを安定的に計測して、この蒸着レートに基づいて高精度な蒸着膜を形成する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition source having a fixed vapor deposition rate and having satisfactory reproducibility, and to provide a vapor deposition system provided therewith.例文帳に追加

蒸着率が一定であり，再現性の良い蒸着ソースおよびそれを備えた蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

The vapor deposition apparatus is provided with: a vapor deposition source 1; a cylindrical heating element 2; a film deposition rate detector 3; and a shielding body 4.例文帳に追加

蒸着装置は、蒸着源１、筒状加熱体２、成膜速度検出器３及び遮蔽体４を備える。 - 特許庁

To provide a vapor deposition source and a vapor deposition apparatus in which generation of splash is suppressed, and the vapor deposition rate is consistent.例文帳に追加

スプラッシュの発生が抑制され、また、蒸着レートが安定した蒸着源、および蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

Where, D1 means a deposition rate to a vertical surface, E1 means an etching rate to a vertical surface, D2 means a deposition rate to a horizontal surface, E2 means an etching rate to a horizontal surface, D3 means a deposition rate to a slope, and E3 means an etching rate to a slope.例文帳に追加

E1＜D1、かつD2＜E2、かつD3＜E3 ここで、D1は垂直面に対するデポジションレート、E1は垂直面に対するエッチングレート、D2は水平面に対するデポジションレート、E2は水平面に対するエッチングレート、D3は傾斜面に対するデポジションレート、E3は傾斜面に対するエッチングレートをそれぞれ示す。 - 特許庁

To provide a deposition apparatus capable of enhancing a deposition rate while maintaining high deposition uniformity, and a thin film deposition method using the same.例文帳に追加

高い蒸着均一度を維持しつつ蒸着率向上させることができる蒸着装置及びこれを利用した薄膜蒸着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method capable of keeping the both of a step coverage and a film deposition rate high.例文帳に追加

ステップカバレジと成膜レートとを共に高く維持することができる成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of easily and reliably adjusting the film deposition rate at low cost.例文帳に追加

成膜速度の調整を、容易・確実・安価に行うことの可能な成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a DLC film deposition system by which the film deposition rate of a DLC film can be controlled.例文帳に追加

ＤＬＣ膜の成膜レートを制御することができるＤＬＣ膜成膜装置の提供。 - 特許庁

FLOW RATE CONTROL DEVICE FOR EVAPORATION MATERIAL, AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

蒸発材料の流量制御装置および蒸着装置 - 特許庁

Further, the electron gun 4 is connected to a vapor deposition rate control section 11 for controlling the vapor deposition rate to a prescribed range.例文帳に追加

さらに、電子銃４は、蒸着レートを所定範囲に制御するための蒸着レート制御部１１に接続されている。 - 特許庁

the coverage of the film in the irregularity part is not lowered and the deposition rate can be quicker than the conventional deposition rate.例文帳に追加

従って、凹凸部分における膜のカバレッジを低下させずに、成膜速度を従来と比較して速くすることができる。 - 特許庁

To provide a CVD system in which a film deposition rate can be controlled, to provide a method for controlling a film deposition rate, and to provide a solar battery.例文帳に追加

成膜速度を制御することができるＣＶＤ装置、成膜速度制御方法、及び、太陽電池を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus and a film deposition method for depositing dense and uniform films at a high film deposition rate.例文帳に追加

緻密かつ均一な膜を高い成膜速度にて形成することができる成膜装置及び成膜方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a film deposition system capable of stably performing film deposition for a long time at a high film deposition rate by plasma CVD.例文帳に追加

プラズマＣＶＤによって、高い成膜レートで長時間の成膜を安定して行なうことができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a nanoparticle deposition method and a nanoparticle deposition apparatus which can deposit nanoparticles on a substrate at a high deposition rate.例文帳に追加

ナノ粒子を基板上に高い堆積率で堆積することができるナノ粒子の堆積方法及び堆積装置を提供する。 - 特許庁

In the non-vapor deposition mode, the vapor deposition rate of the vapor deposition material to be emitted from the opening part 4a not directed in the substrate direction is measured, and fed back to a heating mechanism of the container 1 to stabilize the vapor deposition rate.例文帳に追加

非蒸着時に、基板方向に向かない開口部４ａから放出される蒸着材料の蒸着レートを測定し、容器１の加熱機構にフィードバックさせ、蒸着レートを安定化する。 - 特許庁

In this way, both a step coverage and a film deposition rate are highly held.例文帳に追加

これにより、ステップカバレジと成膜レートとを共に高く維持する。 - 特許庁

To enhance the deposition rate of a tungsten film while preventing increase in resistance.例文帳に追加

タングステン膜の高抵抗化を防止しつつ、デポレートを向上させる。 - 特許庁

To increase the evaporation rate of the material and to improve the film deposition speed.例文帳に追加

材料の蒸発レートを稼ぎ、成膜スピードを向上させる。 - 特許庁

To provide a film deposition method, in which the deposition rate of a film having an excellent photocatalytic function can be improved.例文帳に追加

良好な光触媒機能を有する皮膜の成膜レートを早くできる成膜方法を得る。 - 特許庁

To correctly measure the vapor deposition rate of each vapor deposition source in multiple co-evaporation by avoiding cross-talk.例文帳に追加

クロストークを回避して多元共蒸着における各蒸着源の蒸着レートを正確に測定する。 - 特許庁

To provide a film deposition system and a film deposition method by which a film deposition rate can be increased while realizing a satisfactory film quality.例文帳に追加

良好な膜質を実現しつつ成膜速度の向上を図ることが可能な成膜装置及び成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a deposition method which performs deposition treatment to an object in a clean state, and improves an apparatus operation rate and deposition processing efficiency, and a deposition apparatus.例文帳に追加

清浄な状態で対象物に成膜処理を行い、且つ、装置稼働率と成膜処理効率とを向上させた成膜方法及び成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus, and a film deposition method having the high rate of film deposition on a surface of an object for film deposition by the reaction of sputter particles or evaporation particles.例文帳に追加

スパッタ粒子または蒸発粒子を反応させることによる成膜対象物表面の成膜の成膜速度が速い成膜装置および成膜方法の提供。 - 特許庁

The deposition rate of the vapor deposition material can be controlled using the fact that the deposition rate is increased when pressure in the vacuum chamber 10 is lowered and the deposition rate is decreased when the pressure in the vacuum chamber 10 is raised.例文帳に追加

真空槽１０内部の圧力を小さくすれば蒸着物質の蒸着速度は速くなり、真空槽１０内部の圧力を大きくすれば蒸着物質の蒸着速度は遅くなるということを利用して蒸着速度を制御する。 - 特許庁

FILM DEPOSITION OPERATING METHOD BY VACUUM FLOW RATE CONTROL VALVE DEALING WITH ALD例文帳に追加

ＡＬＤ対応真空流量調整バルブによる成膜操作方法 - 特許庁

FLOW RATE CONTROL DEVICE AND METHOD, AND THIN FILM DEPOSITION DEVICE例文帳に追加

流量制御装置、薄膜堆積装置および流量制御方法 - 特許庁