「deposition rate」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an aerosol deposition system where the concentration of powder in aerosol fed from an aerosol generating part upon the feed of aerosol to a nozzle is increased for maintaining film deposition efficiency by increasing a film deposition rate.例文帳に追加

エアロゾルデポジション装置において、膜形成速度を上げて成膜効率を維持するには、ノズルにエアロゾルを送る際、エアロゾル発生部から供給されるエアロゾル中の粉体濃度を高くすることが望ましい。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method for organic thin films which is capable of easily controlling a deposition rate and simultaneously depositing the films with stable and high controllability.例文帳に追加

簡易に成膜速度を制御することができると同時に安定した高い制御性で成膜することが可能な有機薄膜の蒸着方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the intrusion of garbage such as decomposed matter and by-products causing a black point defect during film deposition; and to prevent the reduction of a vapor deposition rate.例文帳に追加

暗点欠陥の原因となる分解物質や副生成物などのゴミが成膜中に混入することを抑制し、さらに蒸着レートの低下を防ぐことを目的とする。 - 特許庁

Thus, deposition of dust is hardly caused in the opening wall, and inhibition of favorable operation of the gas flow rate adjusting lever 26 due to deposition of dust can be prevented.例文帳に追加

これにより、前記開口壁での塵埃の堆積を発生し難くし、塵埃の堆積に伴う風量調整レバー２６の良好な動作の阻害を、防止することができる。 - 特許庁

As a result, the fall off of an average free stroke due to the rise of the internal pressure of the chamber is suppressed and the improving in the vapor deposition efficiency and the deposition rate is made possible.例文帳に追加

これにより、チャンバ内圧力の上昇による平均自由行程の低下を抑えられ、蒸着効率及び成膜レートの向上を図ることができる。 - 特許庁

To deposit a thin film of high quality even in the case the distance between an electrode and a substrate is reduced for the purpose of increasing a film deposition rate in a film deposition system having an opening controlling board.例文帳に追加

開口調整板を有する成膜装置において、成膜速度を高めるために電極−基板間距離を縮めても、良質な薄膜を堆積することにある。 - 特許庁

The surface layer of an a-C system is formed under a film deposition condition (area 1) that the deposition rate of the surface layer is increased with pressure buildup in a reaction container.例文帳に追加

ａ−Ｃ系の表面層を、反応容器内の圧力上昇に伴い該表面層の堆積速度が増加する成膜条件下（領域１）で形成する。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering system and a method of thin film deposition by magnetron sputtering by which film deposition rate can be increased and a thin film having excellent characteristics can be deposited.例文帳に追加

成膜速度が大きく、また、特性に優れた薄膜を形成することのできるマグネトロンスパッタリング装置およびマグネトロンスパッタリングによる薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

METAL-ORGANIC VAPORIZING AND FEEDING APPARATUS, METAL-ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS, METAL-ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD, GAS FLOW RATE REGULATOR, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS, AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

有機金属気化供給装置、有機金属気相成長装置、有機金属気相成長方法、ガス流量調節器、半導体製造装置、および半導体製造方法 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus and a film deposition method which can efficiently accumulate air streams of a reaction gas on a substrate thereby enhancing a growth rate of an epitaxial film.例文帳に追加

反応ガスの気流を基板上に効率よく集めて、エピタキシャル膜の成長速度を増大させることのできる成膜装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ion plating apparatus capable of performing the film deposition at a stable film deposition rate and with an excellent film quality by keeping the projecting length of a film material in a chamber constant.例文帳に追加

チャンバ内における膜材の突出長を一定に維持して、安定した成膜レート及び良好な膜質で成膜できるイオンプレーティング装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus and a film deposition method by which the generation of particles can be suppressed and a dense thin film having a high film density can be deposited continuously at a high rate.例文帳に追加

パーティクルの発生を抑制し、かつ成膜密度が高く緻密な薄膜を高速で連続成膜することができる成膜装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a porous optical fiber preform, wherein the rate of deposition of fine glass particles and efficiency of deposition are improved.例文帳に追加

光ファイバ用多孔質母材の製造において、ガラス微粒子の堆積速度および堆積効率を向上する光ファイバ用多孔質母材の製造方法を提供する。 - 特許庁

The surface layer of an a-C system is formed under a film deposition condition (area B) that the deposition rate of the surface layer is lowered with the temperature rise of conductive base substance.例文帳に追加

ａ−Ｃ系の表面層を、導電性基体の温度上昇に伴い表面層の堆積速度が低下する成膜条件下（Ｂ領域）で形成する。 - 特許庁

To increase the deposition rate of a film reduced in macroparticles and to maintain stable vacuum arc discharge for a long period of time even in the case of deposition of an insulating film.例文帳に追加

マクロパーティクルの少ない皮膜の成膜速度を高めるとともに、絶縁性皮膜の成膜においても安定した真空アーク放電を長時間持続させる。 - 特許庁

To prevent occurrence of splash when depositing an MgO film, and to eliminate change in MgO film deposition rate with the lapse of time.例文帳に追加

ＭｇＯ膜の成膜時にスプラッシュの発生を防止し、またＭｇＯ膜の成膜速度の経時変化を無くす。 - 特許庁

The balance may be controlled to provide a desired deposition rate and/or to obtain a desired dilution.例文帳に追加

所望の溶着速度を提供するために及び/又は所望の希釈度を得るためにバランスが制御可能である。 - 特許庁

To control film thickness with high accuracy by controlling the flow rate of a vapor deposition material by using a plurality of pipes.例文帳に追加

複数本の配管を用いて蒸着材料の流量を制御し、高精度な膜厚制御を行う。 - 特許庁

To manufacture a highly accurately optical thin film even when a refractive index and a rate of a material are changed during deposition.例文帳に追加

成膜中に材料の屈折率及びレートが変化しても、高精度な光学薄膜を製造すること。 - 特許庁

To provide a facing target sputtering apparatus and a facing target sputtering method in each of which a film deposition rate is improved.例文帳に追加

成膜速度を向上させた対向ターゲット式スパッタ装置及び対向ターゲット式スパッタ方法を提供する。 - 特許庁

The formation of the upper electrode 6 by sputtering is carried out at a deposition rate of 50 nm/min or lower.例文帳に追加

また、スパッタ法による上部電極６の形成は、５０ｎｍ／ｍｉｎ以下の成膜速度で行われることとする。 - 特許庁

In particular, it is preferable that the temperature of the target material 6 is held to a prescribed range, and the film deposition rate is made constant.例文帳に追加

特に、ターゲット材料６の温度を所定の範囲に保ち、成膜速度を一定にするのが好ましい。 - 特許庁

The deposition rate of the silicon film is preferably 0.02 to 1 nm/s, and more preferably 0.05 to 0.5 nm/s.例文帳に追加

シリコン膜の堆積速度は、好ましくは０．０２〜１ｎｍ／ｓであり、より好ましくは、０．０５〜０．５ｎｍ／ｓである。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for MIG welding using an AC power source to obtain a high deposition rate.例文帳に追加

大きな溶着速度が得られる、交流電源を使ったミグ溶接の方法と装置を提供すること。 - 特許庁

As a consequence, it is possible to suppress the lowering of the exhaust rate due to deposition of the resist liquid inside the exhaust port 83a.例文帳に追加

従って、排気口８３ａ内のレジスト液の堆積による排気量の低下を抑制することができる。 - 特許庁

In addition, this thin build-up welding with the high deposition rate is submerged arc welding using conductive flux.例文帳に追加

さらに、前記溶着速度の速い薄盛溶接は、通電性を有するフラックスを用いたサブマージアーク溶接である。 - 特許庁

The treatment gases comprise fluorine rich polymer-forming etching gas that promotes a high etching rate, carbon rich polymer-forming etching gas that promotes a high polymerization deposition rate, polymer control gas (such as oxygen or nitrogen) that delays polymerization deposition rate, and inactive dilution gas that alleviates tapering-off of etching profile.例文帳に追加

処理ガスは、高エッチング速度を促進するフッ素リッチ重合エッチングガス、高重合体堆積速度を促進する炭素リッチ重合エッチングガス、重合体堆積速度を遅延させる重合体管理ガス（例えば、酸素又は窒素）、エッチングプロファイルの先細りを軽減する不活性希釈ガスを含む。 - 特許庁

To provide a flow rate control device, a thin film deposition device, and a flow rate control method, which can exactly control gas flow at a set flow rate even in environment of large pressure difference, especially, remarkably improve process accuracy in a process of thin film deposition.例文帳に追加

圧力差が大きい環境であっても設定した流量となるようにガスの流れを的確に制御することができ、とりわけ、薄膜堆積のプロセスにおいてプロセス精度を飛躍的に向上できる流量制御装置、薄膜堆積装置および流量制御方法を提供すること。 - 特許庁

The method for calculating a stationary erosion rate distribution in the designated cross-section in the magnetic field structural model based on the erosion rate of the erosion central line segment, a rotary erosion rate distribution accompanying the rotation of the magnets, and further, a film deposition rate distribution on an object using the rotary erosion rate distribution, is disclosed.例文帳に追加

エロージョン中心線分のエロージョンレートに基づいた磁場構造モデルの指定断面での静止エロージョンレート分布、磁石の回転に伴う回転エロージョンレート分布、更に上記回転エロージョンレート分布を用いた対象物上の成膜レート分布の計算方法。 - 特許庁

The oxygen introduced Al thin film 12a is deposited by using a physical vapor deposition method utilizing glow discharge using a pure Al target, and controlling an oxygen flow rate with respect to a rare gas flow rate in its deposition atmosphere.例文帳に追加

酸素導入Ａｌ薄膜１２ａは、純Ａｌターゲットを用い、グロー放電を利用した物理蒸着法を用い、その成膜雰囲気において希ガス流量に対して酸素流量を制御することにより成膜される。 - 特許庁

A film thickness monitor 7 measures a deposition rate of the silicon film, and controls the output of the electron gun 4 so that the deposition rate can be approximately constant on the basis of signals to be sent from the film thickness monitor 7 to the electron gun 4.例文帳に追加

シリコン膜の堆積速度は、膜厚モニター７によって測定されており、膜厚モニター７から電子銃４への信号に基づいて、ほぼ一定の蒸着速度になるように電子銃４の出力を制御する。 - 特許庁

A material layer near the interface of an a-Si layer is deposited at a low deposition rate, so as to be extremely high in quality, and a material layer distant from the interface is deposited at a high deposition rate to be somewhat lower in quality than the former material layer but sufficiently high in quality.例文帳に追加

ａ−Ｓｉの界面近傍の材料層は極高品質の膜を実現する低堆積速度で堆積され、界面から離れた材料層は多少劣るが高品質膜を形成する高堆積速度で堆積される。 - 特許庁

To provide a film deposition system in which an evaporation rate of a material and plasma density are set freely, gas barrier properties can be set freely independently of a deposition rate and a gas barrier laminate excellent in oxygen barrier properties and water vapor barrier properties is produced.例文帳に追加

材料の蒸発速度とプラズマ密度を自由に設定し、成膜速度に対するガスバリア性を自由に設定出来、酸素バリア性および水蒸気バリア性に優れたガスバリア性積層体を生産する成膜装置を提供する - 特許庁

To provide an electroless palladium plating bath in which a plating deposition rate is not remarkably reduced even if predetermined days are passed after the initial bath makeup, and an almost fixed plating deposition rate is retained over a long period, and to provide an electroless palladium plating method.例文帳に追加

建浴後、所定日数が経過してもめっき析出速度が著しく低下せず、長期に亘ってほぼ一定のめっき析出速度を維持する無電解パラジウムめっき浴及び無電解パラジウムめっき方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the deposition of foreign matter due to, e.g. formation of particles onto a substrate, to improve product yield by maintaining sputtering deposition rate at fixed and high rate, and to obtain a target suitable for production of a dielectric protective film of an optical disk.例文帳に追加

パーティクルの発生等に起因する基板への異物堆積を抑制し、またスパッタリング成膜速度を一定かつ高速に維持して製品歩留りを向上させ、光ディスクの誘電体保護膜の作成に好適なターゲットを得る。 - 特許庁

2. Deposition rate monitoring devices capable of achieving control by employing computers and that utilize the principle of ionized atom photoluminescence of ionized atoms occurring in vapor flow to control the rate of deposition when coating with two or more elements 例文帳に追加

（二）　コンピュータを用いて制御することができる溶着速度の監視装置であって、二以上の元素をコーティングする際の溶着速度を制御するために蒸気流中におけるイオン化原子のホトルミネセンスの原理を利用するもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

To perform the prediction of the deposition rate for enhancing the rate on chemical vapor deposition of titanium nitride from a titanium containing precursor selected from the group consisting of tetrakis(dimethylamino) titanium, tetrakis(diethylamino) titanium and mixtures thereof.例文帳に追加

テトラキス（ジメチルアミノ）チタン、テトラキス（ジエチルアミノ）チタンおよびそれらの混合物からなる群より選ばれるチタン含有前駆体から窒化チタンを化学蒸着堆積するに際し、堆積速度を高めるためにその速度の予測を行う。 - 特許庁

To provide a film deposition material feeding device where a vacuum deposition system can be continuously operated without requiring the replenishment of a film deposition material over a long period, and in the meanwhile, the film deposition material can be stably fed to a ring hearth at an always fixed feeding rate.例文帳に追加

長期に亘って成膜材料の補給を必要とせずに真空蒸着装置を連続運転することが可能であり、かつその間、成膜材料を常に一定の供給速度でリングハースへ安定して供給することができる成膜材料供給装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a thin film deposition system and a thin film deposition method where new parameters, e.g., capable of improving the uniformity of film thickness and film quality without reducing a film deposition rate can be set on thin film deposition, and to provide a method of producing an active matrix substrate.例文帳に追加

薄膜を形成するにあたって、成膜速度を低下させることなく、膜厚の均一性や膜質を向上することができるなどといった新たなパラメータを設定可能な薄膜形成装置、薄膜形成方法、およびアクティブマトリクス基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and a system for manufacturing an optical thin film by sputtering by which stable film deposition rate capable of enabling long-term film deposition or long-term continuous film deposition of dichroic film, etc., can be obtained by means of film thickness control by time.例文帳に追加

時間による膜厚制御により、ダイクロ等の長時間成膜、或いは長期的な連続成膜を可能とする安定した成膜レートを得るスパッタリングによる光学薄膜の製造方法、及び製造装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an apparatus or a method for manufacturing an organic EL device, or a film deposition apparatus or a film deposition method, capable of executing the film deposition with high definition or having high productivity or rate of operation.例文帳に追加

本発明は高精彩に成膜できるまたは生産性あるいは稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置または有機ＥＬデバイス製造方法あるいは成膜装置または成膜方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an Al-based alloy sputtering target capable of increasing a deposition rate (sputter rate) when a sputtering target is used, and preferably capable of preventing the occurrence of splashes.例文帳に追加

スパッタリングターゲットを用いたときの成膜速度（スパッタレート）が高められ、好ましくはスプラッシュの発生を防止できるＡｌ基合金スパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

The residual rate and the deposition rate calculated in the step 104 or the Step 108 are used as parameters for calculating a fuel injection amount fi with model counting (Step 110).例文帳に追加

ステップ１０４又はステップ１０８で算出された残留率及び付着率をパラメータとして、モデル計算により燃料噴射量fiを算出する（ステップ１１０）。 - 特許庁

To provide a thick and highly dense Ti-Al-N film which can be deposited at an increased film deposition rate, and to provide a method for depositing the same.例文帳に追加

成膜速度を高めて形成でき、厚く高密度なＴｉ−Ａｌ−Ｎ膜とその形成方法を提供する。 - 特許庁

Volume resistivity of the silicon carbide film can be easily controlled over a 104 times wider range than the conventional one depending on the deposition rate.例文帳に追加

炭化珪素膜の体積抵抗率は、成膜速度に応じて１０^4 倍もの広い範囲で容易に制御できる。 - 特許庁