「defect inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

A multi-class classifier is identified which is configured to assign each defect to one of the plurality of the defect classes on the basis of the inspection parameter values.例文帳に追加

検査パラメータ値に基づいて複数の欠陥部類のうちの１つに各欠陥を割り当てるように構成された多重部類分類子が識別される。 - 特許庁

Further, the defect for fine alignment is selected on the basis of the inclination of a detection value on the size of a defect on the substrate for calibration detected by the inspection device.例文帳に追加

更に、検査装置によって検出した校正用基板の欠陥サイズの検出値の傾向に基づいて、ファインアライメント用の欠陥を選定する。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a defect in a substrate and to provide an inspection apparatus for rapidly measuring a defect in a noncontact state with high accuracy.例文帳に追加

非接触状態で精度よくかつ高速に欠陥を測定することができる基板の欠陥検査方法および検査装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a defect inspection device capable of non-destructively and high-accurately inspecting a defect of a transparent substrate without using an expensive evaluation equipment or a microscope.例文帳に追加

高価な評価機器や顕微鏡を用いることなく、非破壊にて精度高く透明基板の欠陥を検査することができる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

Based on representative values of product manufacturing data and inspection data collected for each product, a calculation device 16 analyzes the defect factor of a produced defect.例文帳に追加

演算装置１６は、製品の生産データと検査データを製品毎に集計した代表値を元に不良発生の不良要因の分析を行う。 - 特許庁

To provide a defect inspection method for speedily detecting a defect of a sheet material having a formation pattern such as a fine uneven shape on a surface with good reproducibility.例文帳に追加

表面に微細な凹凸形状等の地合パターンを有するシート材の欠陥を、迅速かつ再現性良く検査する方法を提供する。 - 特許庁

A defect is inspected at the defect inspection part 130 after forming the organic layer at the organic layer forming part 110 and before forming the boundary layer and the second electrode.例文帳に追加

有機層成膜部１１０で有機層を形成したのち、界面層および第２電極の形成前に、欠陥検査部１３０で欠陥検査を行う。 - 特許庁

DEFECT INSPECTION METHOD OF PERPENDICULAR MAGNETIC RECORDING MEDIUM, MAGNETIC DISK APPARATUS, DEFECT REGISTRATION METHOD IN MAGNETIC DISK APPARATUS MOUNTING PERPENDICULAR MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

垂直磁気記録媒体の欠陥検査方法、磁気ディスク装置、及び垂直磁気記録媒体を搭載する磁気ディスク装置における欠陥登録方法 - 特許庁

When a defect 2 on a semiconductor wafer 1 is detected by means of a defect inspection apparatus, three marks 4a-4c are put on the semiconductor wafer 1.例文帳に追加

欠陥検査装置で半導体ウェハ１の欠陥２の検出をするに際しては、この半導体ウェーハ１上に３個のマーク４ａ〜４ｃが形成されている。 - 特許庁

To provide a defect-inspecting device and method for reliably detecting the defect (spot) of an inspection target with improved detection sensitivity.例文帳に追加

良好な検出感度で、検査対象物の欠陥（斑）を確実に検出することができる欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

A surface defect detecting device 3 is provided for an inspection line, and detects a surface defect on a cold rolled steel sheet 1 for an input to a marking control device 5.例文帳に追加

検査ラインには表面欠陥検出器３が設けられ、冷延鋼板１の表面欠陥を検出してマーキング制御装置５に入力する。 - 特許庁

To enable a surface defect inspection device to automatically, easily and surely inspect a surface defect regardless of an annular object of a large diameter to be inspected.例文帳に追加

表面欠陥検査装置によって、大径の環状被検査体であっても自動で表面欠陥を簡単且つ確実に検査できるようにする。 - 特許庁

To enable the inspection of not only a defect extending in the conveyance direction but also a low-contrast defect extending in the width direction which is difficult to be detected by a conventional method.例文帳に追加

搬送方向に伸びる欠陥だけではなく、従来法では検出が困難であった幅方向に伸びる低コントラストの欠陥の検出を可能とする。 - 特許庁

To provide a defect inspecting apparatus for a rod-like cutting tool, capable of automatizing defect inspection with high accuracy for the cutting edge face of the cutting tool.例文帳に追加

棒状切削工具の切れ刃面の欠陥検査を高精度に自動化することが可能な棒状切削工具の欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

When the 1st defect judging means judges the presence of defect, an output circuit 39 outputs a main inspection signal to a selection controlling circuit 44.例文帳に追加

第１の欠点有無判定手段が欠点有りの判定を行なうと、出力回路３９が本検反信号を選択制御回路４４に出力する。 - 特許庁

To provide a cylindrical body surface inspection device capable of distinguishing a reflected wave from a defect from a reflected noise and having excellent defect discriminability.例文帳に追加

欠陥からの反射波を反射ノイズと区別することができ、欠陥判別性の良い円柱体表面検査装置を提供することにある。 - 特許庁

To extract feature quantities corresponding to respective local defect and overall defect when the local defects and overall defects multiply occur in an inspection image.例文帳に追加

検査画像において局所的な欠陥と全体的な欠陥が複合的に発生した場合に、欠陥の各々に対応する特徴量を抽出する。 - 特許庁

To provide a remote inspection method and a remote inspection device for a structure that can detect a defect with accuracy by a remote inspection made in a place at some distance from the structure.例文帳に追加

構造物までの距離が離れている遠隔検査において精度良く欠陥を検出できる構造物の遠隔検査方法及び遠隔検査装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an inspection method and an inspection device capable of performing accurate visual inspection by preventing misunderstanding dust or the like on the outside face of a substrate as an internal defect.例文帳に追加

基板外面上の塵埃等を内部欠陥と誤認することを防止することにより、正確な外観検査を行うことのできる検査方法及び検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for visual inspection of a photomask to improve the throughput of inspection without generating a pseudo defect, and to prevent decrease in guaranteed accuracy of an inspection apparatus.例文帳に追加

疑似欠陥を発生させないで、検査処理のスループット向上を図り、検査装置の保証精度を低下させないフォトマスクの外観検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This visual inspection method includes determination concerning whether a defect extracted from inside an inspection domain of an image 21A of an inspection object 11a by comparison with a template 21A is acceptable or not.例文帳に追加

被検査体１１ａの画像２１Ａの検査領域上からテンプレート（２１Ａ）との比較によって抽出された欠陥が許容内か否かを判定することを含む外観検査方法。 - 特許庁

After performing defect inspection (S31), history information in which the inspection result is recorded and secret level information indicating whether the inspection result is to be deleted as security information or not are acquired (S34).例文帳に追加

欠陥検査（Ｓ３１）を行った後に、検査結果を記した履歴情報、及び、セキュリティ情報として削除が必要か否かを与える機密レベル情報を取得する（Ｓ３４）。 - 特許庁

To provide an equipment and a method for visual inspection in which an inspection area can be determined accurately and a defect in the inspection area can be detected with high accuracy.例文帳に追加

検査領域を正確に決定することができるとともに、検査領域内の欠陥を高精度で検出することができる外観検査装置および外観検査方法を提供する。 - 特許庁

An image processor 14 detects a defect of the inspection area determined by the imaging inspection area determination part based on a picked-up image and sends the inspection result to a display control device 4.例文帳に追加

画像処理装置１４は、撮像画像に基づいて、撮像検査領域判定部によって判定された検査領域の欠陥を検出し、検査結果を表示制御装置４に送る。 - 特許庁

On a detailed display picture plane for a defect, images and displaying order of the images are determined/displayed for displaying so that the features of the defect are saliently shown based on the inspection information, the kind of defect, etc.例文帳に追加

また、欠陥の詳細表示画面において、検査情報や欠陥種類等を基に、その欠陥の特徴を顕著に表すように表示する画像やその画像の表示順序を定め、表示する。 - 特許庁

To provide a learning-type defect detection device, method and program, capable of maintaining the accuracy of defect detection regardless of the size of a defect generated in an inspection object.例文帳に追加

検査対象物に発生する欠陥の大きさにかかわらず欠陥の検出精度を維持可能な学習型の欠陥検出装置、欠陥検出方法および欠陥検出プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection method detecting automatically a defect wherein a foreign matter or the like is intermingled in an object having a plane, especially a defect of film thickness fluctuation on the plane caused by the foreign matter.例文帳に追加

平面を有する対象物に異物などが混入した欠陥、特に異物による平面上の膜厚変動の欠陥を自動的に検出することのできる、欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To analyze a defect distribution state based on defect data detected by an inspection apparatus and easily identify a defect reason due to an apparatus or a process in a semiconductor wafer manufacturing process.例文帳に追加

半導体ウェーハの製造工程において、検査装置によって検出された欠陥データに基づいて欠陥分布状態解析を行い、装置あるいはプロセス起因の不良原因の特定を容易にする。 - 特許庁

To provide a defect reviewing system, a defect reviewing method, a defect analyzing method and a method of manufacturing a semiconductor device by which the purpose of inspection can be limited and a process that generates defects can be easily specified.例文帳に追加

検査目的を限定でき、欠陥の発生する工程を特定することが容易になる欠陥レビュー装置、欠陥レビュー方法及び欠陥解析方法、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

After the principal surface is subjected to precision processing and to defect inspection, to specify a defect on the principal surface, the polishing process is carried out on the specified defect.例文帳に追加

上記主表面の研磨加工は、当該主表面を精密加工した後欠陥検査を行って当該主表面上の欠陥を特定し、この特定された欠陥に対して実施するものである。 - 特許庁

To provide a defect inspection device capable of certainly detecting a defect such as foreign matter or the like having mixed in an object to be detected without being affected by the shape of the object to be detected or the position of the defect.例文帳に追加

検出対象の形状や、欠点の位置に影響されず、検出対象に混入している異物等の欠点を確実に検出することができる欠点検出装置を提供する。 - 特許庁

Even the small rugged defect which was difficult to identify in a conventional polarization type surface defect inspection device can thereby be identified with high accuracy, not to mention the small pattern-like defect.例文帳に追加

これによって小さな模様状欠陥は勿論、従来の偏光式表面欠陥検査装置では識別が困難であった小さな凹凸欠陥についても高精度に識別することができる。 - 特許庁

To provide a steel sheet defect inspection device capable of identifying the kinds of defects generated on a surface and in a surface layer, a defect generated in an inside, and a hole defect.例文帳に追加

本発明は、表面及び表層に発生する欠陥、内部に発生する欠陥、及び穴欠陥の種類を識別することが可能な鋼板欠陥検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a detection method of a defect caused by chemical solution capable of detecting foreign matter in the chemical solution causing such a fine defect undetectable by a conventional defect inspection device of a resist pattern.例文帳に追加

従来のレジストパターンの欠陥検査装置では検出不可能となるほど微細な欠陥の起因となる薬液中の異物の検出が可能な、薬液起因の欠陥検出方法を提供すること。 - 特許庁

The defect detection sensitivity is inspected by using a mask for defect inspection having a photomask pattern which includes a basic pattern and a pattern defect comprising a resist pattern at a specified position of the basic pattern.例文帳に追加

基本パターンと、基本パターンの所定の位置に、レジストパターンにより形成されたパターン欠陥とを含むフォトマスクパターンを有する欠陥検査用マスクを用いて、欠陥検出感度検査を行う。 - 特許庁

To provide an improved inspection method for detecting a defect in a weld joining a rotor disk.例文帳に追加

ロータディスクを結合する溶接における欠陥を検出するための改良された検査法を提供する。 - 特許庁

To detect the presence or absence of a mask defect by comparing two detected images in a mask inspection apparatus.例文帳に追加

マスク検査装置において、２つの検出画像を比較してマスクの欠陥有無を検出可能とする。 - 特許庁

To provide a defect inspection system saving a space and efficiently checking defects.例文帳に追加

本発明は、省スペース化を図り、かつ能率のよい欠陥検査を可能にした欠陥検査システムを提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection method of an optical film constituted such that adhesion of an adhesive on a mold releasing film or roughening of the surface of a mold releasing agent is inhibited during defect inspection of a part of the mold releasing film by peeling while remaining a part of the mold releasing film in the defect inspection of the optical film.例文帳に追加

光学フィルムの欠点検査において、離型フィルムの一部を残して剥離して欠点検査を行なう場合に、離型フィルムの剥離に際し、離型フィルムに粘着剤が付着したり、粘着剤表面が荒れることがないように構成した光学フィルムの欠点検査方法を提供することにある。 - 特許庁

Thereafter, the step S4 to step S11 are performed based on the updated inspection recipe, so that a defect of the wafer is detected.例文帳に追加

以後、更新された検査レシピに基づいて工程Ｓ４〜Ｓ１１が行われ、ウェハの欠陥が検される。 - 特許庁

Defect selected by the operator having confirmed display of the review inspection images is irradiated with laser beam.例文帳に追加

レビュー検査画像の表示を確認したオペレータによって選択された欠陥にレーザーが照射される。 - 特許庁

To provide a novel and useful inspection device for detecting a kind or defect of a container such as a barrel.例文帳に追加

樽等の容器の種類又は不具合を検知する新規かつ有用な検査装置を提供する。 - 特許庁

FLAW DETECTING METHOD OF WIDE DYNAMIC RANGE SOLID-STATE IMAGE PICKUP DEVICE, PIXEL DEFECT INSPECTION DEVICE, AND DIGITAL CAMERA例文帳に追加

広ダイナミックレンジ固体撮像素子のキズ検出方法および画素欠陥検査装置ならびにディジタルカメラ - 特許庁

To detect presence or absence of a defect in a mask by comparing two detected images in a mask inspection apparatus.例文帳に追加

マスク検査装置において、２つの検出画像を比較してマスクの欠陥有無を検出可能とする。 - 特許庁

To provide an inspection method capable of determining a semiconductor device having a defect in metal wiring, as defective one.例文帳に追加

金属配線に欠陥のある半導体デバイスを不良と判断できる検査方法を提供する。 - 特許庁