「defect inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern inspection apparatus and method for enhancing contrast to a fine defect and enhancing contrast regardless of the type, material, or shape of a defect.例文帳に追加

微細な欠陥に対するコントラストを高くしたり、欠陥の種類、材料、形状によらずコントラストを高くするパターン検査装置およびパターン検査方法を提供する。 - 特許庁

If the position of the defect measured with the wafer inspection device agrees with a vacancy-rich region of the wafer, the kind of the defect is determined as being not particles.例文帳に追加

前記ウェーハ検査装置によって測定された前記欠陥の位置が前記ウェーハのベイカンシ−リッチ領域に該当するなら、前記欠陥の種類がパーチクルでないと判定する。 - 特許庁

To provide a method of setting a threshold for blot defect detection to simply set a threshold for detecting a blot defect by means of a plurality of inspection devices under a unified determination.例文帳に追加

複数の検査装置で統一した判断でシミ欠陥を検出するための閾値を簡便に設定するシミ欠陥検出用閾値設定方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method of a reflection type mask capable of inspecting more correctly and simply the existence of a defect including the phase defect of the reflection type mask.例文帳に追加

反射型マスクの位相欠陥を含めた欠陥の有無を、より正確かつ簡易に検査することを可能とする反射型マスクの検査方法を提供すること。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR INSPECTING PATTERN DEFECT OF KEYBOARD OF VARIOUS ELECTRONIC DEVICES, AND COMPUTER- READABLE RECORDING MEDIUM WHERE PATTERN DEFECT INSPECTION PROGRAM IS RECORDED例文帳に追加

各種電子機器のキ—ボ—ドのパタ—ン欠陥検査方法及びパタ—ン欠陥検査システム並びにパタ—ン欠陥検査プログラムを記録したコンピュ—タ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

To achieve an inspection device of detecting a defect that is present in a silicon carbide substrate or an epitaxial layer formed in the silicon carbide substrate and classifying the detected defect.例文帳に追加

炭化珪素基板又は炭化珪素基板に形成されたエピタキシャル層に存在する欠陥を検出し、検出された欠陥を分類する検査装置を実現する。 - 特許庁

Upon determining whether the pattern formed on the photomask has a defect in an inspection step 6, the defect determination reference is varied according to the attribute information.例文帳に追加

検査工程６において、フォトマスク上に形成されたパターンが欠陥を有するか否かを判定するときにはこの属性情報に応じて欠陥判定基準が変更される。 - 特許庁

The defect candidate detection part 20 images the optically transparent film A which is an inspection object, and detects a defect candidate of the optically transparent film A from the acquired image.例文帳に追加

欠陥候補検出部２０は、検査対象である光透過性フィルムＡを撮像し、得られた画像から光透過性フィルムＡの欠陥候補を検出する。 - 特許庁

To provide an inspection device that detects a defect existing in a silicon carbide substrate or an epitaxial layer formed on the silicon carbide substrate and classifies the detected defect.例文帳に追加

炭化珪素基板又は炭化珪素基板に形成されたエピタキシャル層に存在する欠陥を検出し、検出された欠陥を分類する検査装置を実現する。 - 特許庁

To inspect a pattern defect on a sample, to recognize the causal relationship between abnormality in an apparatus and defect inspection, and to increase operating efficiency and reliability.例文帳に追加

試料上のパターン欠陥を検査することができ、且つ装置異常と欠陥検査の因果関係を認識することができ、装置稼動率及び信頼性の向上をはかる。 - 特許庁

Each piece of data from the inspection data storage part 38 is inputted, judged based on each threshold and recognized as the defect by a defect judgment processing part 45.例文帳に追加

欠陥判定処理部４５は、検査データ蓄積部３８からの各データを入力し、それぞれのデータが各々の閾値を基準として判定され欠陥と認識する。 - 特許庁

To provide a data processor which can easily and also efficiently detect a defect of a defect inspection object and brings about a reduction in the costs of the entire device.例文帳に追加

欠陥検査対象物の欠陥を容易に且つ効率的に検出することが可能であり、装置全体のコストダウンを図ったデータ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection method utilizing an illumination transition region capable of visualizing a defect at high sensitivity and utilizing the illumination transition region for the whole surface of a lens.例文帳に追加

高感度に欠陥可視化が可能な照明遷移領域を利用し、レンズ全面に対して前記の照明遷移領域を利用した欠陥検査手法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection method that improves pseudo resolution by image processing and detects a defect in a workpiece to be inspected with high accuracy.例文帳に追加

画像処理による擬似的な解像度の向上を実現し、検査対象であるワークに存在する欠陥を高精度に検出可能な欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silicon wafer inspection method for confirming a new defect that affect device processes and for effectively detecting such new defect, manufacturing method of a silicon wafer without the defect manufacturing method of a semiconductor device using the silicon wafer without the defect and the silicon wafer without the defect.例文帳に追加

デバイス工程に影響する新たな欠陥の確認及びその新たな欠陥を効果的に検出するシリコンウエーハ検査方法及びこの欠陥の存在しないシリコンウエーハの製造方法及びこの欠陥のないシリコンウエーハを用いた半導体デバイスの製造方法並びにこの欠陥のないシリコンウエーハを提供する。 - 特許庁

The detection sensitivity for a mask defect is inspected by using a mask for inspection of defect detection sensitivity having a basic pattern region where a pattern is formed based on the design data of a basic pattern and a defect pattern region where a pattern is formed based on the design data of a defect pattern prepared by adding a specified defect to the basic pattern.例文帳に追加

基本パターンの設計データを基づきパターンが形成された基本パターン領域と、基本パターンに、所定の欠陥を加えた欠陥パターンの設計データを元にパターンが形成された欠陥パターン領域とを備える欠陥検出感度検査用マスクを用いて、マスク欠陥検出感度の検査を行う。 - 特許庁

Since the inspection 5 is arranged between the signal line driving circuit 3 and the drive IC (Integrated Circuit) 4 and the drive IC 4 and the inspection circuit 5 are made to utilize the same data lines, not only a defect in the pixel array 1 but also a defect in the signal line driving circuit 3 can be detected correctly when performing inspection.例文帳に追加

信号線駆動回路３と駆動ＩＣ４の間に検査回路５を配置し、駆動ＩＣ４と検査回路５が同じデータ線を利用するようにしたため、検査時には、画素アレイ部１内の不良だけでなく、信号線駆動回路３内の不良も正しく検出することができる。 - 特許庁

In a diagnosis for the defect inspection system 10 itself, a first switch part 11 is turned to an off (opened) state, and in a state that electric connection between the inspection target and the defect inspection system 10 is interrupted, second and third switch parts 12, 13 are controlled so as to be turned on/off.例文帳に追加

この欠陥検査システム１０自体の良否の診断については、第１スイッチ部１１をオフ（開）状態とし、検査対象物と欠陥検査システム１０との間の電気的な接続を遮断した状態において、第２，第３スイッチ部１２，１３をオン／オフ制御することによって行う。 - 特許庁

To provide an inspection device using a charged particle beam, capable of accurately detecting a defect hard to detect by an optical image by using an electron beam and of reducing erroneous detection of the defect without degrading inspection resolution by reducing noise of the inspection image causing trouble at that time.例文帳に追加

光学画像では検出困難な欠陥を電子線を用いて高精度に検出するとともに、その際問題となる検査画像のノイズを低減して、検査分解能をさげることなく欠陥の誤検出を低減することができる荷電粒子線を用いた検査装置を提供する。 - 特許庁

The inspection supporting system sorts each defect detected with an inspection apparatus conforming to a plurality of inspecting conditions in accordance with combinations of the inspecting conditions for detecting respective defects, and calculates for each sorting visual distribution of the inspection objects of the defect belonging to each sorting on the basis of the location information of the defect belonging to the relevant sorting.例文帳に追加

本検査支援システムは、複数の検査条件によって検査装置が検出した各欠陥を、その欠陥が検出された検査条件の組み合わせで分類し、各分類ごとに、その分類に属する欠陥の、検査対象の外観上における分布を、当該分類に属する欠陥の位置情報に基づき算出する。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus and a defect inspection method, which enable potential failures and signs of abnormality to be discovered in order to prevent any defect from occurring in its market, by referring to history information in the inspection process, even in the case of an object to be inspected whose apparent operation is normal or whose characteristic meets a specification.例文帳に追加

検査時に履歴情報も参照することにより、見かけ上正常動作しているまたは規格値に入っている検査対象であっても、潜在的な故障や異常の兆候を発見できるようにして市場での不良発生を未然に防止することができる不良検査装置および不良検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface inspection method and surface inspection device capable of improving the accuracy for detecting a defect such as unevenness existing in a surface of an inspecting object without complicating the inspection process and the constitution of the inspection device.例文帳に追加

検査工程および検査装置の構成を複雑化させることなく、検査対象物の表面に存在する凹凸などの欠陥を検出する精度を向上させることができる表面検査方法および表面検査装置を提供する - 特許庁

To provide an inspection method and an inspection apparatus for detecting finer defects and high fatal damages to a circuit pattern, with higher sensitivity, in the optical semiconductor defect inspection method, and to provide an inspection apparatus that uses die comparison method.例文帳に追加

ダイ比較方式を用いた光学式半導体欠陥検査方法及び検査装置に関して、より微細な欠陥や回路パターンに対して致命性の高い検出を、より高い感度で検出する検査方法及び検査装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an inspection apparatus that radiates electromagnetic wave to an inspection object, acquires a transmission image or reflection image of an inspection object structure, and non-destructively inspects the inspection object body, structures of different transmittance or reflectivity, and an internal defect.例文帳に追加

検査体に電磁波を照射して、検査体構造の透過画像あるいは反射画像を得る検査装置に関し、検査体本体と透過率あるいは反射率が異なる構造や内部欠陥を非破壊に行なうための装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device realizing high resolution and an increase in an inspection speed in a technology for inspecting a pattern defect, foreign matter, residue, a step and the like on a wafer in a production process of a semiconductor by an electron beam.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

Alternatively, a first electron optical system for the defect detecting inspection and a second electron optical system only for review for observing a specific narrow part detected by the defect detecting inspection are stored in parallel in the same vacuum vessel.例文帳に追加

または、欠陥検出検査の為の第１の電子光学系と欠陥検出検査により検出された特定の狭い部位を観察するレビュー専用の第２の電子光学系とを同一の真空容器内に並べて収容する。 - 特許庁

This device 1 for inspecting defect is a device equipped with an image processing means 12 for inspecting a defect by imaging an inspection signal acquired from an inspected object S and applying a spatial filter to such an inspection image.例文帳に追加

本発明に係る欠陥検査装置１は、被検査物Ｓから得られた検査信号を画像化し、当該検査画像に空間フィルタを適用することによって欠陥を検査する画像処理手段１２を備えた装置である。 - 特許庁

The image processing device 1 detects defect pixels by performing image processing on image data, and performs quality determination on the inspection target based on a first inspection condition C1 set based on either the number or positions of defect pixels.例文帳に追加

画像処理装置１は、画像データを画像処理することで欠陥画素を検出し、欠陥画素数または位置の何れか一方に基づいて設定された第１の検査条件Ｃ１によって、検査対象物の良否判定を行う。 - 特許庁

The defect inspection device is unnecessary to be occupied for the preparation of the recipe because a semiconductor wafer to be inspected is not actually used, and the defect inspection can be carried out without lowering the throughput of the device.例文帳に追加

検査対象の半導体ウェーハを実際に使用することがないので、欠陥検査装置を前記レシピ作成のために占有することがなく、前記装置のスループットを低下させることがなく前記検査を実施することができる。 - 特許庁

To provide a defect inspection device for a plate-like transparent body and a method thereof capable of detecting a minute defect with a length of about 10 μm in a major axis which is present on a surface of the plate-like transparent body without microscope inspection.例文帳に追加

板状透明体の表面に存在している長径１０μｍ程度の微細傷を、顕微鏡精査を行うことなく検出することができる板状透明体の欠陥検査装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method and an inspection unit for a ceramic roller which is capable of inspecting surface defect and an internal defect in a single sitting, in a short time, and free from restrictions due to the surface hue of the ceramic roller.例文帳に追加

表面の欠陥と内部の欠陥との両方を１度に、短時間で検査でき、かつ転動体の表面の色相による制約を受けない、セラミックス製の転動体の検査方法および検査ユニットを提供すること。 - 特許庁

To provide a coating defect inspection method of a magnetic tape that can detect a coating defect on line and specify its position in applying magnetic coating material with a die coater, can efficiently manufacture the magnetic tape correspondingly, and requires only small amount of inspection cost.例文帳に追加

磁気塗料をダイコータで塗布する際に、オンラインで塗工欠陥を検出してその位置を特定でき、その分だけ磁気テープを能率よく製造でき、しかも検査コストが少なくて済む磁気テープの塗工欠陥検査法を提供する。 - 特許庁

Alternatively, the device stores the first electronic optical system for the defect detecting inspection and the second electronic optical system exclusive for a review for observing the specified narrow portion detected by the defect detecting inspection, in the same vacuum container.例文帳に追加

または、欠陥検出検査の為の第１の電子光学系と欠陥検出検査により検出された特定の狭い部位を観察するレビュー専用の第２の電子光学系とを同一の真空容器内に並べて収容する。 - 特許庁

To provide an inspection device that determines a defect of a semiconductor chip formed on a semiconductor wafer with high sensitivity up to the most peripheral part of a memory mat portion, and to provide an inspection method thereof.例文帳に追加

半導体ウェーハに形成された半導体チップのメモリマット部の最周辺部まで高感度に欠陥判定できる検査装置およびその検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a disk surface inspection device capable of adjusting automatically an optical system so as to have sufficient sensitivity for detecting a defect which is an inspection object.例文帳に追加

検査対象とする欠陥に対して検出するに十分な感度を持つよう光学系を自動調整できるようにしたディスク表面検査装置を提供することにある。 - 特許庁

In the case that this defect detection percentage fulfills the detection percentage condition being set optionally, the provisional inspection parameter (a) used at this time is decided as an inspection parameter A (ST108).例文帳に追加

この欠陥検出率が、任意に設定した検出率条件を満たす場合、この際用いた暫定検査パラメータａが検査パラメータＡとして決定される（ＳＴ１０８）。 - 特許庁

The surface inspection device includes a moving stage for the body to be inspected; a lighting device; an inspection coordinate detecting device; a light detector; an A/D converter; and a foreign object/defect determining unit.例文帳に追加

表面検査装置は、被検査体移動ステージ、照明装置と、検査座標検出装置、光検出器と、Ａ／Ｄ変換器と、異物・欠陥判定部、を有する。 - 特許庁

To provide a device for ultrasonic inspection inspecting easily and highly accurately an internal defect, a void or exfoliation, concerning an inspection object displayed internally in a two-dimensional manner.例文帳に追加

二次元化して内部表示される検査対象において、内部欠陥やボイド、剥離の検査を高精度かつ容易に実施できる超音波検査用装置を提供する。 - 特許庁

By the transfer of the optical axis, the projected inspection image is transferred and the visibility of a point defect etc. is improved by an afterimage effect resulting from the transfer of the inspection image.例文帳に追加

この光軸の移動によって、投影された検査画像が移動され、検査画像の移動による残像効果によって点欠陥等の視認性が向上する。 - 特許庁

Or by recording a characteristic amount to judge a defect in an inspection result, for example a shading difference, misinformation can be removed in a post handling after the inspection.例文帳に追加

もしくは、検査結果に欠陥を判定する特徴量、例えば、濃淡差を記録することにより検査後の後処理で虚報を除去することが可能とする。 - 特許庁

To provide an ultrasonic inspection method capable of accurately detecting the size of a defect in an inspection section near a fillet weld region of an object to be inspected.例文帳に追加

被検査体のスミ肉溶接部の近傍の検査部位に対して、精度良く欠陥の大きさを検出することができる超音波検査方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a technology for detecting defects with high accuracy, or a technology for supporting defect detection, regardless of a surface shape of an inspection object to be subjected to visual inspection.例文帳に追加

外観検査を行う検査対象の表面形状によらず、高い精度で欠陥を検出する技術または欠陥の検出を支援する技術を提供する。 - 特許庁

Furthermore, inspection data by a plurality of inspection devices can be registered in one defect and the grouping information of defects as an analyzing object can be selected arbitrarily.例文帳に追加

また、ひとつの欠陥について複数の検査装置による検査データを登録可能とし、解析対象である欠陥の分類情報を任意に選択可能とした。 - 特許庁

Next, whether chips adjacent to the defective chip have defects or not is inspected excluding the defective chip with inspection sensitivity higher than that of the first defect inspection processing (step S16).例文帳に追加

続いて、不良チップを除いて、その不良チップに隣接するチップに欠陥があるか否かを、第１の欠陥検査処理よりも検査感度を上げて検査する（ステップＳ１６）。 - 特許庁

To provide a surface inspection device and a surface inspection method for easily determining an optimum combination of image processing filters for detecting a defect on a substrate.例文帳に追加

基板上の欠陥を検出するための画像処理フィルタの最適な組み合わせを、容易に特定することができる表面検査装置及び表面検査方法を提供する。 - 特許庁