「defect inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

The reference chip is compared with the pattern of the inspection chip, and a defect generation place where a pattern defect can be easily generated is specified in the layout (S3 to S5).例文帳に追加

リファレンスチップと検査チップのパターンを比較し、レイアウト内においてパターン欠陥が生じやすい欠陥発生箇所を特定する（Ｓ３〜Ｓ５）。 - 特許庁

Then, the defect of the inspection object 1 is classified by using a database which is different corresponding to the domain to which the detected defect belongs.例文帳に追加

そして、検出された欠陥が属する領域に応じて、異なるデータベースを使用して検査対象物１の欠陥の分類を行なう。 - 特許庁

When a plurality of defect candidates are detected by a first automatic inspection, the distance between the defect candidates is calculated, a defect candidate existing within a fixed distance determined by a visual field size and magnification are grouped as a group of defect candidates, and a visual field position is determined for performing a second inspection so that all defect candidates included one group of defect candidates enter one visual field.例文帳に追加

第１の自動検査により欠陥候補が複数検出された際に、欠陥候補間の距離を計算し、視野サイズや倍率から決められる一定距離以内に存在する欠陥候補をひとつの欠陥候補群としてグルーピングし、一の欠陥候補群に含まれる全ての欠陥候補が一視野に入るように視野位置を決めて第２の検査を行うようにする。 - 特許庁

To provide a marking signal control method for printed matter defect inspection, which allows setting of a printed matter defect inspection device and a marking device without limitation in the distance between both, and further allows suppression of use of resources in a memory or register by performing output control of marking signal relative to defect detection signal in defect inspection of printed matter.例文帳に追加

印刷物の欠陥検査において、欠陥検出信号に対するマーキング信号の出力制御を行い、印刷物欠陥装置とマーキング装置の距離を制限なく設置することを可能とし、更にメモリやレジスタのリソースの使用を抑制可能とする印刷物欠陥検査におけるマーキング信号制御方法を提供する。 - 特許庁

To avoid an influence by saturation pixels contained in an inspection image and a reference image, in defect inspection, for comparing the inspection image with the reference image that are acquired by imaging patterns which should be mutually identical and are the objects of inspection, and for detecting a difference spot as a pattern defect.例文帳に追加

検査対象である相互に同一であるべきパターンを撮像して得た検査画像と参照画像とを比較して、相違する箇所を前記パターンの欠陥として検出する欠陥検査において、検査画像と参照画像とに含まれる飽和画素による影響を回避する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device for a flat panel display capable of exactly indicating spots to be repaired to a repair device, by pinpointing the spots from inspection information acquired by defect inspection, not to mention of being capable of finding out the causes of the defects or the like in a short time efficiently, and to provide its inspection method.例文帳に追加

欠陥原因の究明などを短期間で効率よく行えることはもとより、欠陥検査した検査情報から特定することで、リペア装置にリペア箇所を的確に指示することが可能なフラットディスプレイパネルの欠陥検査装置およびその方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and device for correcting an error in a defect coordinate output from an inspection device to make it easy to select a visual field size for defect search of a defect review device and a defect for fine alignment.例文帳に追加

検査装置から出力された欠陥座標の誤差を補正し、欠陥レビュー装置における欠陥探索用の視野サイズ及びファインアライメント用の欠陥を容易に選定することができる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To discriminate between a detected true defect and a pseudo defect, in image defect inspection for detecting the difference of a pixel value between each corresponding pixel in two images, and detecting a pixel part as a defect when the difference exceeds a detection threshold.例文帳に追加

２画像の対応する各画素同士の画素値の差分を検出して、この差分が検出閾値を超えるとき画素部分を欠陥として検出する画像欠陥検査において、検出された真欠陥と疑似欠陥とを区別する。 - 特許庁

To provide a substrate inspection device capable of acquiring a defect distribution on the whole surface of the substrate in early stages, even when overflow of a memory storing defect images occurs, and to provide a method for acquiring the defect distribution on the substrate in the substrate inspection device.例文帳に追加

欠陥画像を記憶するメモリのオーバフローが発生した場合でも基板の全面についての欠陥分布を早期に得ることができる基板の検査装置、および、基板の検査装置における基板の欠陥分布を得る方法を提供する。 - 特許庁

When a penetrated defect part 3 causing water leaks occurs in the surface 11 of the subject of inspection, a colored area 5 appears as the result of reaction of water conveyed by the penetrated defect part 3 with the leak inspection film 10, so that the defect can be readily detected through visual observation.例文帳に追加

検査物表面１１に水漏れを生じる貫通欠陥３が発生した場合、この貫通欠陥３より運ばれた水と水漏れ検査膜１０が反応すると発色領域５が生じるので目視で容易に検出できる。 - 特許庁

The continuous line for correcting the defect in the color filter is provided with a defect inspecting device 11 to inspect presence or absence of any defect with respect to a color filter substrate colored in a coloring step 100 and a defect correcting device 14 to correct a defective part in the case the defect is present in the color filter substrate as a result of inspection with the defect inspecting device 11.例文帳に追加

着色工程＃１００で着色されたカラーフィルタ基板に対して、欠陥の有無を検査する欠陥検査装置１１と、欠陥検査装置１１で検査した結果、カラーフィルタ基板に欠陥がある場合に、その欠陥部分を修正する欠陥修正装置１４とを備えるカラーフィルタ欠陥修正一貫ラインである。 - 特許庁

This device has an inspection head 4 for photographing each fuel rod 100 which is an inspection object, a moving means for moving the fuel rod 100 and the inspection head 4, and a fuel rod inspection control device 6 for performing visual dimension inspection or defect inspection from an appearance image of the fuel rod 100 photographed by the inspection head 4.例文帳に追加

被検査体である燃料棒１００を撮影する検査ヘッド４と、燃料棒１００または検査ヘッド４を移動させる移動手段と、検査ヘッド４で撮影した燃料棒１００の外観画像から外観寸法検査または欠陥検査をする燃料棒検査制御装置６とを有する。 - 特許庁

To eliminate variations in defect detection accuracy among factories and inspection systems, to check the detection limits and functions of an inspection machine, and to adjust its sensitivity, by providing a reference sample bottle having a pseudo defect of definite properties comparable with an actual defect, a bottle inspection system equipped with the same, and a calibrating method for the bottle inspection system.例文帳に追加

実際の欠陥に見合った一定な性状の擬似欠陥を持った基準サンプル壜、それを備えた壜検査システム、及び壜検査システムの校正方法を提供することにより、各工場、検査システム間の欠陥検出精度のばらつきを解消し、かつ検査機の検出限界、機能の確認及び感度の調整を可能にする。 - 特許庁

This method detects the defect by etching an inspection object until at least a part of the defect existing inside the inspection object appears on a surface of the inspection object, and is the defect detecting method comprising an etching step of etching the inspection object by an anisotropic etching method being an etching method comprising a maximum etching speed in the prescribed direction.例文帳に追加

被検査物の内部に存する欠陥の少なくとも一部が該被検査物の表面に現れるまで該被検査物をエッチングして欠陥を検出する方法であって、所定方向に最大のエッチングの速度を有するエッチング方法である異方性エッチング方法により被検査物をエッチングするエッチングステップを備えてなる、欠陥検出方法である。 - 特許庁

To provide a defect inspection method, a schedule control method and a defect inspection device for periodically performing schedule control with high accuracy by plotting data of the number of defects in various kinds of electronic devices on the same chart.例文帳に追加

欠陥検査方法、工程管理方法及び欠陥検査装置に関し、複数品種の電子デバイスの欠陥数データを同一のチャートにプロットして、工程管理を定期的に精度良く行う。 - 特許庁

The second inspection device performs inspection on the substrate to be inspected having no defect among the plurality of substrates 14(1)-14(n) to be inspected on reference to the existence information of the defect stored in the storage device.例文帳に追加

この第２の検査装置は、記憶装置に記憶された欠陥の有無情報を参照して、複数の被検査基板１４（１）〜１４（ｎ）のうち、欠陥の無い被検査基板で、検査を実施するものである。 - 特許庁

To achieve a defect inspection apparatus capable of accurately inspecting micro foreign matter or defect at a high speed for an inspection target substrate in which a repetitive pattern and a non-repetitive pattern are mixed.例文帳に追加

繰り返しパターンと非繰り返しパターンとが混在する被検査対象基板に対して、微小な異物または欠陥を高速で、しかも高精度に検査できる欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁

A part 9 for inspecting recording defect inspects the recording defect in recording processing to the back surface of the recording medium on the basis of the reference image data, the first inspection image data and the second inspection image data.例文帳に追加

記録不良検査部９は、基準画像データ、第一の検査画像データ、及び第二の検査画像データに基づいて、当該記録媒体の裏面に対する記録処理での記録不良を検査する。 - 特許庁

To provide a method for setting determination conditions in a defect inspection device capable of automatically setting and determination size, without having to perform resetting work of the determination size, and to provide the defect inspection device.例文帳に追加

判定サイズの再設定作業を行うこと無く、判定サイズの設定を自動的に行うことが可能な欠陥検査装置における判定条件設定方法及び欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device that can detect reliably a molding defect of a molded article when opening a molding die in an injection molder, and thereby capable of improving reliability of a defect inspection.例文帳に追加

射出成形機の成形金型の型開時に成形品の成形不良を確実に検出することができ、不良検査の信頼性の向上を図ることが可能な検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device that accurately discriminates a bulkhead and an organic light emitting layer from an imaged picture and detects only a defect mode causing a significant defect to a display unit, and an inspection method.例文帳に追加

撮像画像から精度よく隔壁と有機発光層を判別し、表示装置に重大な欠陥を与える欠陥モードのみを検出する検査装置および検査方法を提供すること。 - 特許庁

The substrate, similar to the layer defect distributions in the in-line inspection process 10e to the final defect distribution 26a, is extracted from the substrates through the in-line inspection process 10e.例文帳に追加

そのインライン検査工程１０ｅを経た基板の中から、その最終欠陥分布２６ａに対してそのインライン検査工程１０ｅでのレイヤ欠陥分布が類似しているような基板を抽出する。 - 特許庁

To provide a method and a device for penetrant inspection that make a flaw detecting liquid penetrate into a fine defect in the surface layer of a specimen to detect a surface defect easily, in penetrant inspection.例文帳に追加

浸透探傷検査において、被検査物の微細な表層欠陥中にも探傷液を浸透させ、表層欠陥の検出を容易にする浸透探傷検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The inspection-nullifying state in the output circuit 39 means a state that the input of the inspection-nullifying state from the defect presence or absence-judging means C1 is nullified not to output the defect presence detection signal.例文帳に追加

出力回路３９における検反無効化状態は、欠点有無判定手段Ｃ１からの異常検出信号の入力を無効化して欠点有検出信号を出力しない状態である。 - 特許庁

To facilitate specification of a trouble caused by an inspection equipment or process by performing defect distribution state analysis based on defect data detected by the inspection equipment in the production process of a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の製造工程において、検査装置によって検出された欠陥データに基づいて欠陥分布状態解析を行い、装置あるいはプロセス起因の不良原因の特定を容易にする。 - 特許庁

To detect accurately a defect of a printed matter by preventing wrong detection caused by misregistration on a printed face, concerning an inspection device and an inspection method for detecting a pattern defect of the printed matter.例文帳に追加

印刷物の絵柄の欠陥を検出する検査装置及び検査方法に関し、印刷面の位置ずれによる誤検出を防止して、より精度良く印刷物の欠陥を検出できるようにする。 - 特許庁

To provide a defect inspection device and a defect inspection method using the device capable of reducing a maintenance work, transferring accurately defect information detected in upper processes to lower processes, and recognizing surely the defect in the lower process even when a defect detector installed in the lower process is simplified.例文帳に追加

保守作業を少なくすることができ、かつ正確に上工程で検出した欠陥情報を下工程に伝達することができ、たとえ下工程に設置する欠陥検出器を簡単なものとした場合であっても下工程で欠陥を確実に認識することができる欠陥検査装置およびそれ用いた欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method wherein a non-inspection domain does not exist, capable of performing accurately defect inspection of an inspection object on which a repetitive pattern is formed, such as a liquid crystal panel, a plasma display or a semiconductor wafer.例文帳に追加

液晶パネル、プラズマディスプレイ、半導体ウェハ等などの繰返しパターンが形成されている検査対象物の欠陥検査を精度良く、しかも、非検査領域が存在しない検査方法を提供すること。 - 特許庁

The inspection processing part 17 extracts a data of the sheet film from the acquired image data, determines further the effective area of the inspection object, and conducts finally the defect inspection, the dimension inspection and the like, within the effective area.例文帳に追加

検査処理部１７は、取得した画像データから枚葉フィルムのデータを抽出し、更に検査対象とする有効領域を決定し、最後に、この有効領域に対して欠陥検査、寸法検査等を行っている。 - 特許庁

To provide a defect detecting method capable of emphasizing the defects of an inspection object, without depending on the luminance of the inspection object.例文帳に追加

検査対象の輝度に依存することなく当該検査対象の欠陥を強調することができる欠陥検出方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a microcomputer allowing more reliable inspection of data reading delay associated with a wiring defect inside a ROM, and to provide a method of the inspection.例文帳に追加

ROM内の配線不良に伴うデータ読出遅延を、より確実に検査することが可能なマイクロコンピュータ及びその検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a configuration inspection technique to conduct exact defect inspection even when there are noises between image patterns indicating repeated patterns.例文帳に追加

繰り返しパターンを表す画像のパターン間にノイズが存在する場合でも、正確な欠陥検査を行う形状検査手法を提供する。 - 特許庁

To realize a pattern inspection method and an inspection apparatus with a simple structure, which surely detect killer defects but do not detect one being not the killer defect.例文帳に追加

キラー欠陥は確実に検出するが、非キラー欠陥は検出しない簡単な構成のパターン検査方法及び検査装置の実現。 - 特許庁

To provide a surface inspection instrument for identifying, with high accuracy, the category of a defect in a light penetrating substrate having a semi transparent film on the surface thereof when the surface inspection is done.例文帳に追加

表面に半透明膜を有してなる光透過性基板の表面検査にあたって欠陥種類を高精度に判別する。 - 特許庁

To provide an inspection substrate for an active matrix type liquid crystal display that facilitates defect detection of various modes by inspection using an array tester.例文帳に追加

アレイテスタでの検査により各種モードの欠陥検出を容易にするアクティブマトリックス型液晶表示装置用検査基板を提供する。 - 特許庁

To obtain a wafer macro-inspection device by which pseudo defect owing to the influence of a random pattern part is suppressed and a macro- inspection is executed with high precision.例文帳に追加

ランダムパターン部の影響による疑似不良を抑えることができ、高精度のマクロ検査が可能なウェハのマクロ検査装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a surface inspection device and a surface inspection method capable of detecting precisely even a micro defect depth, without being affected by a noise.例文帳に追加

ノイズの影響を受けずに微小な欠陥深さでも高精度で検出できる表面検査装置および表面検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laser ultrasonic inspection device and laser ultrasonic inspection method in which defect detection can be conducted using one laser device.例文帳に追加

一台のレーザ装置を用いて欠陥検出を行うことができるレーザ超音波検査装置及びレーザ超音波検査方法を提供する。 - 特許庁

Inspection of existence of a defect in each divided pattern region is performed by using the inspection standard of each registered pattern region (S7).例文帳に追加

その分割された各パターン領域の欠陥の有無の検査を、その登録されている各パターン領域ごとの検査基準を用いて行う（Ｓ７）。 - 特許庁

To provide a silicon substrate inspection device for precisely inspecting a defect, such as crack, in a silicon substrate, and to provide an inspection method thereof.例文帳に追加

シリコン基板の内部に存在するクラック等の欠陥を正確に検出可能とする、シリコン基板の検査装置および検査方法を得ること。 - 特許庁

To provide an optical surface defect inspection device or an optical surface defect inspection method which can achieve high sensitivity inspection by enabling improvement in S/N by a multiple dividing cell system even without performing an autofocus operation.例文帳に追加

本発明は、オートフォーカス動作を行わなくとも、多分割セル方式によるＳ／Ｎ向上を可能とし、高感度の検査を実現できる光学式表面欠陥検査装置または光学式表面欠陥検査方法を提供することにある。 - 特許庁

Brightness data of each pixel of a point defect or a strain defect having a smaller area than an irregular defect in the image data acquired in the inspection image acquisition process is replaced with an interpolation value based on brightness data of a peripheral pixel, to thereby repair the non-evaluation object defect species (point/strain defect repair process ST200).例文帳に追加

検査画像取得工程にて取得された画像データ中でムラ欠陥よりも面積が小さい点欠陥、シミ欠陥の各画素の輝度データを周囲の画素の輝度データに基づく補間値で置き換えてこの非評価対象欠陥種を修補する（点・シミ欠陥修補工程ＳＴ２００）。 - 特許庁

To provide a method of determining a defect size of an evaluation pattern for evaluating defect detection sensitivity capable of accurately determining the defect size of the evaluation pattern formed on an evaluation mask used to evaluate the defect detection sensitivity of mask defect inspection systems, and a method of creating a sensitivity mask.例文帳に追加

マスク欠陥検査装置の欠陥検出感度を評価するために用いられる評価用マスクに作り込まれた評価用パターンの欠陥サイズを精度良く算出することが可能な欠陥検出感度評価用パターンの欠陥サイズ算出方法及び感度マスクの作成方法を提供する。 - 特許庁

To choose a defect with high possibility that may be regarded as electric inferiority in inspection of a foreign matter or a patter defect of an electronic device of a semiconductor integrated circuit or the like.例文帳に追加

半導体集積回路等の電子デバイスの異物やパタン欠陥の検査において、電気的に不良となる可能性の高い欠陥を選出する。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus capable of highly accurately detecting pattern defects without reducing the light quantity of a laser beam used for defect detection.例文帳に追加

欠陥検出に用いるレーザ光の光量が低減することなく、パターン欠陥の検出を高感度にて行うことができる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁