「defect inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a defect detection apparatus and a defect detection method capable of shortening inspection time without sacrificing detection accuracy.例文帳に追加

検出精度を犠牲にすることなく、検査時間の短縮を図った欠陥検出装置、及び、欠陥検出方法を実現する。 - 特許庁

To provide a mask defect inspection apparatus, capable of detecting any defect of various kinds of patterns formed in a mask, at high sensitivity.例文帳に追加

マスク内に形成された各種のパターンの欠陥を高感度に検出することができるマスク欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To improve convenience of a defect review device or an inspection system user by shortening the time required to create a report on defect review.例文帳に追加

欠陥レビューのレポート作成に要する時間を短縮し、欠陥レビュー装置あるいは検査システムユーザの利便性を向上する。 - 特許庁

DEFECT-INSPECTING APPARATUS, DEFECT INSPECTION METHOD, IMAGE PROCESSING APPARATUS, PROGRAM, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM WITH THE PROGRAM STORED例文帳に追加

欠陥検査装置、欠陥検査方法、画像処理装置、プログラム、及び該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

The defect inspection part is operated, and an image is acquired by emitting the illumination light onto a mask surface to inspect a mask defect.例文帳に追加

そして、前記欠陥検査部を動作して、前記マスク表面に照明光を照射し映像を得て、マスク欠陥を検出する。 - 特許庁

ILLUMINATING DEVICE FOR MEASURING UNEVENNESS, UNEVENNESS MEASURING DEVICE, ILLUMINATING DEVICE FOR INSPECTING DEFECT, DEFECT INSPECTION DEVICE AND ILLUMINATING METHOD THEREFOR例文帳に追加

凹凸測定用照明装置、凹凸測定装置、欠陥検査用照明装置、欠陥検査装置およびその照明方法 - 特許庁

To provide a defect detecting device capable of detecting a defect at high resolution with significantly shorter inspection time.例文帳に追加

高い分解能で欠陥検出することができると共に検査時間を大幅に短縮できる欠陥検出装置を実現する。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus whose resolution and sensitivity to detect a defect are enhanced more by scanning the surface of a workpiece.例文帳に追加

ワークピース表面を走査して、欠陥を見つけるための解像度及び感度が、より向上した欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus for a phase shift mask which is capable of surely detecting the defect, more particularly microdefects of the phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥、特に微小欠陥を正確に検出できる位相シフトマスクの欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To quickly and accurately provide a defect inspection device of an optical system, capable of inspecting a defect of a hologram color filter.例文帳に追加

ホログラムカラーフィルタの欠陥を迅速かつ精度良く検査することができる光学システムの欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a metal defect detection method capable of highlighting defect through etching treatment of the inspection surface of a metal sample, while when detection of the defect is carried out by imaging the inspection surface with an imaging device, brightness of non-defect parts on the imagery of inspection surface is made to be homogenized and brightened, leading clear defection of defect part.例文帳に追加

金属試料の検査面をエッチング処理して欠陥を現出させ、撮像装置によって検査面を撮像することにより欠陥を検出するに際し、検査面撮像画像における非欠陥部の明度を均一かつ明るくすることにより、欠陥部を明瞭に検出することのできる金属の欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

A defect cycle estimator in single object 32 and a defect cycle estimator in a plurality of objects 34 estimate periodicity of a defect in the object of inspection with statistical hypothesis to defect information based on defect information on features of the individual defects, picture information on the object of inspection and information on the object of inspection.例文帳に追加

単一対象内欠陥周期推定部３２および複数対象内欠陥周期推定部３４は、個々の欠陥の特徴に関する欠陥情報、被検査対象の画像情報、および被検査対象に関する情報に基づいて、被検査対象における欠陥の周期性を、欠陥情報に対する統計的仮説検定により推定する。 - 特許庁

The defect inspecting device 21 has an internal defect inspection part 25 for inspecting an internal defect of the blade 1, the first surface defect inspection part 26 for inspecting defects on the first reference plane 3 of the blade 1, and the second surface defect inspection part 27 for inspecting defects on the second reference plane 4 that is orthogonal to the first reference plane 3 of the blade 1.例文帳に追加

そして、欠陥検査装置２１は、ブレード１の内部の欠陥を検査する内部欠陥検査部２５と、ブレード１の第１の基準面３における欠陥を検査する第１の表面欠陥検査部２６と、ブレード１の第１の基準面３に直交する第２の基準面４における欠陥を検査する第２の表面欠陥検査部２７とを有する。 - 特許庁

The defect inspection method acquires the image having the height information in the selected measuring condition based on positional information of the defect candidate of acquiring the image having the height information, and inspects the defect of the inspection object, based on the image.例文帳に追加

高さ情報を有する画像を取得する欠陥候補の位置情報から選択した測定条件で高さ情報を有する画像を取得し、その画像に基づいて前記検査対象物の欠陥を検査する。 - 特許庁

To provide an inspection method of a pattern defect capable of stably detecting a target defect in various processes by reducing the misdetection of grain or morphology or the effect of interference light intensity irregularity, and an inspection device of the pattern defect.例文帳に追加

グレインやモホロジーの誤検出や干渉光強度ムラの影響を低減して、様々なプロセスにおけるターゲット欠陥を安定に検出できるパターン欠陥検出方法及びその装置を提供すること。 - 特許庁

A high sensitivity inspection is made possible by performing a pattern inspection which comprises steps of preliminarily obtaining a GP image, designating an inspection location and a threshold value map to the GP image on a GUI, setting an identification reference for a defect, obtaining an inspection image, and applying the identification reference to the inspection image to identify the defect.例文帳に追加

予めＧＰ画像を取得し、ＧＰ画像に対して検査箇所及び閾値マップをＧＵＩ上で指定し、欠陥の識別基準を設定し、次に検査画像を取得し、検査画像に識別基準を適用し欠陥を識別することでパターン検査を行い高感度検査を可能にした。 - 特許庁

An inspection device detects the line unevenness area indicating a line unevenness defect in an objective image obtained from a substrate, and the point defect area indicating a point defect.例文帳に追加

ムラ検査装置では、基板から得られる対象画像において筋ムラ欠陥を示す筋ムラ領域、および、点欠陥を示す点欠陥領域が検出される。 - 特許庁

To provide a defect detecting circuit, by which a defect is detectable at a low frequency in the inspection of the defect at a high writing frequency, and a magnetic disk inspecting device.例文帳に追加

高い書込周波数での欠陥検査を低い周波数で検出できる欠陥検出回路および磁気ディスク検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Final defect distributions on each substrate are sorted into defect-distribution patterns P1 and P2 by using final defect-distribution information in a final inspection process 10g.例文帳に追加

最終検査工程１０ｇにおける最終欠陥分布情報を用いて、各基板上の最終欠陥分布を欠陥分布パターンＰ１、Ｐ２毎に分類する。 - 特許庁

To accurately evaluate the defect detection sensitivity of an inspection apparatus for a defect in a mask pattern by suppressing influences of the shift of a pattern defect created in a basic pattern from a design value.例文帳に追加

基本パターンに作り込んだパターン欠陥の、設計値からのズレによる影響を抑えて、正確にマスクパターンの欠陥検査装置の欠陥検出感度を評価する。 - 特許庁

To provide a line defect inspection method capable of detecting highly accurately even a line defect generated from linearly-aligned pixels having respectively a defect on a part in each pixel.例文帳に追加

画素内の一部に欠陥を有する画素が線状に並んで生じる線欠陥をも高精度に検出することができる線欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

By this defect classifier, a plurality of defect factors are specified from image data in an inspection area on a substrate to acquire coordinate values of representative points of the respective defect factors.例文帳に追加

欠陥分類装置では、基板上の検査領域の画像データから複数の欠陥要素が特定され、各欠陥要素の代表点の座標値が取得される。 - 特許庁

A method for defect analysis includes identifying single-class classifiers for a plurality of defect classes, the plurality of defect classes being characterized by respective ranges of inspection parameter values.例文帳に追加

欠陥解析方法は、検査パラメータ値のそれぞれの範囲によって特徴付けられる複数の欠陥部類に対する単一部類分類子を識別する段階を含む。 - 特許庁

To provide a defect detection method and a defect detection device capable of detecting a defect of the surface state of an inspection object with extremely high accuracy.例文帳に追加

検査対象物の表面状態の欠陥を極めて高精度に検出することが可能な欠陥検出方法及び欠陥検出装置を提供すること。 - 特許庁

In addition to a function of outputting an inspection result about the quality (normal/abnormal) of an inspection target by using a binarization part 15 for comparing an inspecting signal with a reference value, a defect inspection system 10 includes a diagnostic function (self-diagnosis function) for the quality of the defect inspection system 10 itself.例文帳に追加

検査用信号を基準値と比較する２値化部１５を用いて検査対象物の良否（正常／異常）の検査結果を出力する機能に加えて、欠陥検査システム１０自体の良否の診断機能（自己診断機能）を持たせる。 - 特許庁

The defect inspection may be carried out after the formation of the second electrode and before the formation of the protection film.例文帳に追加

欠陥検査は、第２電極の形成後かつ保護膜の形成前に行ってもよい。 - 特許庁

To provide a mask inspection device that can improve the defect detection sensitivity.例文帳に追加

欠陥検出感度を向上させることができるマスク検査装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an inspection system that can automatically inspect a defect or feature in a product.例文帳に追加

自動的に物品の欠陥または特徴を検査できる、検査システムを提供する。 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR INSPECTION RECIPE PREPARING SYSTEM AND METHOD FOR DEFECT REVIEWING例文帳に追加

検査レシピ作成システム、欠陥レビューシステム、検査レシピ作成方法及び欠陥レビュー方法 - 特許庁

To provide a defect inspection device capable of stably detecting minute defects.例文帳に追加

微少な欠陥を安定して検出することができる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device of a display panel capable of improving detection accuracy of a defect.例文帳に追加

欠陥の検出精度を向上できる表示パネルの検査装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a defect inspection device capable of obtaining the long-term stable detection sensitivity.例文帳に追加

長期的に安定した検出感度を得ることができる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection apparatus for accurately detecting a defect with a simple constitution.例文帳に追加

簡単な構成で、高精度な欠陥検出を行うことができる検査装置を実現する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM DEVICE, DEFECT INSPECTION METHOD AND DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD THEREWITH例文帳に追加

電子線装置、欠陥検査方法及び該装置及び方法を用いたデバイス製造方法 - 特許庁

INSPECTION METHOD AND APPARATUS OF DEFECT IN MAGNETIC HEAD BY OPTICAL SYSTEM MEASUREMENT IMAGE例文帳に追加

光学系測定画像による磁気ヘッドの欠陥検査方法および欠陥検査装置 - 特許庁

To provide an inspection device capable of classifying a defect with high accuracy.例文帳に追加

欠陥を高い精度で分類することができる検査装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a defect inspection device capable of easily responding to different samples.例文帳に追加

異なった試料に容易に対応できるようにした欠陥検査装置を提供すること。 - 特許庁

HIGHLY SENSITIVE OPTICAL INSPECTION SYSTEM AND METHOD FOR DETECTING DEFECT ON DIFFRACTION SURFACE例文帳に追加

回折面上の欠陥を検出するための高感度光学検査システムおよび方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING TEST PIECE FOR CALIBRATION OF SEAM DEFECT INSPECTION MACHINE, AND TEST PIECE FOR CALIBRATION例文帳に追加

巻締め不良検査機の較正用試験片の作成方法および較正用試験片 - 特許庁

To shorten time required for defect inspection and to suppress a decrease in the capacity of a data zone.例文帳に追加

ディフェクト検査にかかる時間を短縮し，またデータゾーンの容量の減少を抑える。 - 特許庁

To easily confirm a repair result in illumination inspection of a final stage by finding a defect to be repaired by using coordinate data representing a defect position calculated from image defect inspection and electric operation confirming inspection carried out before a repair stage.例文帳に追加

リペア工程前に行われる画像欠陥検査及び電気的動作確認検査から算出される欠陥位置を示す座標データを用いてリペアすべき欠陥を求め、最終工程の点灯検査においてリペア結果の確認が容易にできるようにする。 - 特許庁

The inspection system for the circuit pattern is provided with an electron beam visual inspection device, provided with a monitor for displaying the defect on a map; and an external visual inspection device for storing an image of the defect, and is constituted to display concurrently the map and the image of the defect on the monitor.例文帳に追加

また、回路パターンの検査システムは、マップに欠陥を表示するモニタを備えた電子線外観検査装置とこの欠陥の画像を記憶した外部外観検査装置とを備え、モニタにマップと欠陥の画像とを同時に表示する構成とする。 - 特許庁

The inspection apparatus of the display panel is provided with a streak defect emphasizing means 300, a defect distinguishing means 400 distinguishing a streak defect from the rubbing streak defect on the basis of the image emphasized by the streak defect emphasizing means 300 and a rubbing streak defect evaluating means 500 evaluating the defect distinguished as the rubbing streak defect by the defect distinguishing means 400.例文帳に追加

表示パネルの検査装置は、スジ欠陥強調手段３００と、前記スジ欠陥強調手段３００において強調された画像に基づいて、スジ欠陥とラビジングスジ欠陥とを分別する欠陥分別手段４００と、前記欠陥分別手段４００においてラビングスジ欠陥と分別された欠陥を評価するラビングスジ欠陥評価手段５００とを備える。 - 特許庁

An image processing section 15 determines an inspection area based on the image for area thus picked up and detects a visual defect in the inspection area based on the inspection area thus determined and the image for defect thus picked up.例文帳に追加

画像処理部１５は、撮像された領域用画像に基づいて検査領域を決定し、決定した検査領域と撮像された欠陥用画像とに基づいて検査領域内の外観欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a luminance point defect inspection method capable of improving the efficiency of an inspection by preferentially forming an inspection unit area necessary for inspecting the existence of a luminance point defect on an image to be inspected.例文帳に追加

検査対象画像における輝点欠陥の有無の検査に必要な検査単位領域を優先的に形成することによって、検査効率を向上させることができる輝点欠陥検査方法を提供すること。 - 特許庁