「defect inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve throughput without increasing the time required for wafer alignment when the data concerning defect position obtained from a plurality of defect inspection devices with different offsets of stage coordinate are used to sense an enlarged image of defect.例文帳に追加

ステージ座標のオフセット量が異なる複数の欠陥検査装置からの欠陥位置データを用いて欠陥の拡大像を撮像する場合に、ウェーハのアライメントに要する時間を増大させることなくスループットを向上させる。 - 特許庁

The reticle is transferred into a pattern defect correcting device and only the black defect on the reticle is extracted and, for example, the defect coordinate data obtained during the reticle pattern inspection and the coordinates within the defective device are opposed, by which a processing size is defined.例文帳に追加

レチクルをパターン欠的修正装置内に搬送し、レチクル上の黒欠陥のみを抽出し、例えば、レチクルパターン検査時に得た欠陥座標データと欠陥装置内の座標とを相対させて、加工サイズを定義する。 - 特許庁

The system 1 for inspecting a semiconductor wafer comprises a defect classifier for automatically classifying semiconductor wafer defects, based on defect inspection parameters and a knowledge base, and a classification support unit for supporting the defect classifier.例文帳に追加

半導体ウェハの検査システム１は、欠陥検出パラメータと知識ベースとに基づき、半導体ウェハの欠陥分類を自動的に行う欠陥分類装置と、この欠陥分類装置を支援する分類支援装置とを備えている。 - 特許庁

In an initial inspection, defect detection processing for the solid- state image pickup element is performed, a defect number is attached to the detected defective pixel, and defect information (a defective part and a defective level) is successively stored in a memory space block 10.例文帳に追加

初期検査時において、固体撮像素子の欠陥検出処理を行い、この検出された欠陥画素に欠陥番号を付して欠陥情報（欠陥個所、欠陥レベル）を順次メモリ空間ブロック１０に格納していく。 - 特許庁

To provide a defect inspection device capable of detecting with high sensitivity the defects in a mixed mount wafer (system LSI, or the like), capable of detecting widely a defect species, and capable of enhancing a defect capturing rate, and to provide a method therefor.例文帳に追加

混載ウェハ（システムＬＳＩなど）などに対して欠陥を高感度に検出し、しかも欠陥種を幅広く検出して、欠陥捕捉率を向上することができるようにした欠陥検査装置及びその方法を提供することにある。 - 特許庁

In this case, the image data for inspection is converted in correspondence with the image state of the image for defect detection, and thus it is discriminated whether the abnormal position detected from the image for defect detection is a true defect or not.例文帳に追加

その際、検査用画像データを欠陥検出用画像の画像状態に対応させて変換することにより、欠陥検出用画像から検出される異常個所が、真の欠陥であるか否かを判定することができる。 - 特許庁

To specify a process of generating a defect, or to detect the defect, even in an area that is not formed with a repeeated pattern on a wafer surface, when detecting the defect appearing on the semiconductor wafer surface by visual inspection.例文帳に追加

外観検査により半導体ウエハの表面に現れる欠陥を検出する際に、欠陥を生じた工程を特定する、或いはウエハ表面に繰り返しパターンが成形されていない領域においても欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide an automatic inspection method with high accuracy not by visual inspection, for detecting a defect on a stencil mask, in particular, detecting a foreign substance on the surface, and to provide an inspection device for obtaining a reference image for comparison inspection.例文帳に追加

ステンシルマスク上の欠陥検出、特に表面異物を検出する方法について、目視検査によらず自動的な高精度検査方法を提案すると共に、比較検査を行うための基準画像が取得できる検査装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

As in a case that a defect required to be corrected has been found but the defect is hardly located with a correction device as a result of an inspection by an image quality evaluation device, a positioning mark is formed.例文帳に追加

像質評価装置により検査を行った結果、修正すべき欠陥が発見されたがその位置の特定が修正装置では困難な場合に、位置合わせ用マークを形成する。 - 特許庁

Thereby, accuracy for specifying position and size of a defect section can be enhanced regardless of recording capability of the recording medium, and it becomes possible to largely shorten the defect inspection time.例文帳に追加

これにより、記録媒体の記録能力とは無関係に欠陥部分の位置や大きさの特定精度を高めることができ、かつ、欠陥検査時間の大幅な短縮化が可能となる。 - 特許庁

To provide a lighting system for detecting a minute defect of several micrometer order in surface inspection of detecting a defect in the surface of an inspecting object by imaging processing.例文帳に追加

画像処理により検査対象物の表面の欠陥を検出する表面検査において、数μｍオーダの微小欠陥の検出を可能にする照明装置を提供する。 - 特許庁

To increase the defect detecting accuracy by preventing incorrect detection of a false defect apt to occur when two images are in a high-frequency region, in pattern inspection for comparing a multi-level image.例文帳に追加

多値画像を比較するパターン検査において、２枚の画像が高周波領域にある場合に発生しやすい擬似欠陥の誤検出を防止して、欠陥検出精度を高くする。 - 特許庁

To perform the defect inspection of a printed image on the basis of inspecting image data obtained by reading out the printed image and to store the inspecting image data whose defect is detected in consideration of security.例文帳に追加

印刷画像を読み取って得た検査画像データに基づいて印刷画像の欠陥検査を行い、欠陥の見つかった検査画像データをセキュリティを考慮して保管する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device inspecting, in particular a defect of a magnetic recording medium where isolated magnetic dots are formed, relating to a recording device recording and playing back information by magnetism.例文帳に追加

磁気により情報を記録・再生する記録装置に関し、とくに孤立した磁性ドットを形成した磁気記録媒体の欠陥を検査する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

In the nozzle defect inspection method, the abnormal nozzles are detected by preventing the erroneous determination by the blurring of ink even though the recording medium for recording the test pattern is the non-coat paper by the above defect determination.例文帳に追加

この不良判断により、テストパターンを記録する記録媒体が非コート紙であっても、インクの滲みによる誤判断を防止して異常ノズルを検出するノズル不良検査方法である。 - 特許庁

To provide a transparent body inspection device for determining how deep a defect exists in, when the defect exists within a transparent body which is an object to be inspected.例文帳に追加

検査対象となる透明体の内部に欠陥が存在する場合に、その欠陥がどのくらい深い位置に存在しているかを特定できる透明体検査装置を提供する。 - 特許庁

To detect a defect at the optimal sensitivity for each pattern region by dividing the pattern regions precisely and dynamically and changing the defect inspection method and sensitivity for each region.例文帳に追加

パターン領域を精密かつ動的に分けて、領域毎に欠陥検査方式や感度を切り替えることによって、パターン領域毎に最適な感度での欠陥検出を可能とする。 - 特許庁

To provide a photomask defect correction method that improves the efficiency of defect inspection and correction processes for a photomask and improve and stabilize the yield in mask production.例文帳に追加

フォトマスクにおける欠陥検査及び修正工程の効率化を図り、マスク生産における歩留の向上及び安定を図ることができるフォトマスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection method and a defect inspecting apparatus for easily, accurately, and quickly detecting defects contained in a quartz glass material, especially minute defects, such as bubbles, and foreign objects.例文帳に追加

石英ガラス材の内部に含まれる欠陥、特に泡、異物等の微小な欠陥を容易に、正確に、短時間で検出できる欠陥検査方法および欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an X-ray inspection method capable of easily extracting a defect and can detect it in a short time even when the slender defect such as a crack is orthogonal to a fault surface.例文帳に追加

クラックなどの細長い欠陥が断層面と直交している場合でも、その欠陥を容易に抽出でき、しかも短時間で検査を行い得るＸ線検査方法を提供する。 - 特許庁

A test circuit 30 conducts inspection of the redundant memories 11 and 12, and when it determines existence of the defect cell, outputs the relief information S3 for relieving the defect cell.例文帳に追加

テスト回路３０は、冗長メモリ１１，１２の検査を行い、不良セルが存在すると判定したとき、当該不良セルを救済するための救済情報Ｓ３を出力する。 - 特許庁

To decrease overlookings of micro-defects due to the maladjustment of an image pick-up conditions in a method for minute inspection of a defect executed, after the position of the defect on an object to be inspected is measured beforehand.例文帳に追加

被検査対象物の欠陥位置が予め計測された後に欠陥の詳細検査を行う方法において、撮像条件の不具合による微小欠陥を見逃しを低減する。 - 特許庁

Defect information obtained by means of an inspection device 102 and review information obtained by means of a reviewing device 103 are stored in a defect data area 111 and a review data area 112 as individual items.例文帳に追加

検査装置１０２による欠陥情報を欠陥データ領域１１１に、レビュー装置１０３によるレビュー情報をレビューデータ領域１１２に個別の項目で記憶する。 - 特許庁

To provide a method for detecting pattern defect in which the processing quantity in the detection of defect by the comparison of a pattern to be inspected with a non-defective pattern is reduced to improve the inspection speed.例文帳に追加

検査対象パターンを良品パターンと比較して欠陥を検出するときの処理量を削減して検査速度の向上を図ったパターン欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device reducing error detection of noise and surely detecting a defect part, even if there is fluctuation in an image level by the fluctuation of an external environment.例文帳に追加

外部環境変動による画像レベルの上下が存在しても、ノイズの誤検出を減少させて、しかも、不良部分を確実に検出できる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To improve the extraction accuracy of line defect and enhance the resistance to noise in a TFT array inspection device to precisely specify a cross line defect even in measured data with insufficient S/N.例文帳に追加

ＴＦＴアレイ検査装置において、線欠陥の抽出精度を向上させること、ノイズに強く、Ｓ／Ｎが不十分な測定データにおいても精度良くクロス線欠陥を特定すること。 - 特許庁

To appropriately narrow down defect information displayed or output in an inspection system where an identical defect may be detected by two or more cameras under different timings.例文帳に追加

同一の欠陥について複数のカメラで異なるタイミングで検出されることがある検査システムにおいて、表示・出力する欠陥情報を適切に絞り込むこができるようにする - 特許庁

The electric inspection process S12 includes a coordinate detection process S13 for detecting a position coordinate of the unit region including the defect, when the defect of the unit region is detected.例文帳に追加

電気検査工程Ｓ１２には、単位領域の欠陥が検出された場合に、欠陥を含む単位領域の位置座標を検出する座標検出工程Ｓ１３が含まれる。 - 特許庁

To heighten potential difference between a pixel electrode having an adjacent defect and a normal pixel electrode and to heighten detection sensitivity of an adjacent defect of pixel electrodes across a source line, in TFT array inspection.例文帳に追加

ＴＦＴアレイ検査において、隣接欠陥を有する画素電極と正常な画素電極との電位差を高め、ソースラインを挟む画素電極の隣接欠陥の検出感度を高める。 - 特許庁

To provide an optical device defect inspection method and an optical device defect inspecting apparatus which is not affected by the difference in curvature or the position of an optical device, and which is high-speed and is low cost.例文帳に追加

曲率の違いや光学デバイスの位置に影響されない高速かつ安価な光学デバイス欠陥検査方法及び光学デバイス欠陥検査装置を提供すること。 - 特許庁

A plurality of pieces of classification information for a plurality of inspection data about one defect are allowed to be registered, and classification information of a defect which is an object for analysis is allowed to be arbitrarily selected.例文帳に追加

ひとつの欠陥に複数の検査データに対する複数の分類情報を登録可能とし、解析対象である欠陥の分類情報を任意に選択可能とした。 - 特許庁

This conveyance inspection device 1 is equipped with this conveyance device 2 for conveying a thin member 5 in the noncontact state by controlling a voltage applied to an electrode surface, and a defect inspection device 3 for inspecting the defect of the thin member 5 during conveyance.例文帳に追加

電極面へ印加する電圧を制御して薄状部材５を非接触の状態で搬送する搬送装置２と薄状部材５の欠陥を搬送中に検査する欠陥検査装置３とを備えた搬送検査装置１である。 - 特許庁

To provide an FPD (Flat Panel Display) dot defect inspection method and a device, capable of detecting all dot defects from an integrated luminance image acquired by one-time photographing, relating to the FPD dot defect inspection method and the device.例文帳に追加

本発明はＦＰＤドット欠陥検査方法及び装置に関し、１回の撮影で取得した積算輝度画像から、全てのドット欠陥を検出することができるＦＰＤドット欠陥検査方法及び装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask by which processes of inspection and correction in the mask manufacturing processes can be omitted and a mask can be manufactured at low cost keeping an ensured delivery time without requiring an expensive defect inspection apparatus or a defect correcting apparatus.例文帳に追加

マスク製造工程における検査、修正プロセスを省略することができ、高価な欠陥検査装置や欠陥修正装置を必要とせず、確実な納期で安価にマスク製作することが可能となるマスク製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method for shape defect or the like by which the defect of a printed wiring board or the like, especially a light transmission type electronic substrate, can be detected accurately, quickly and automatically through optical processing without paying attention to the deviation of a substrate, and to provide an inspection device.例文帳に追加

プリント配線基板等、特に光透過型電子基板の欠陥を、基板のずれを気にせずに光学的処理により高精度、迅速、かつ、自動的に検出することができる形状欠陥等の検査方法および検査装置を提供する。 - 特許庁

The circuit pattern inspection device independently has a detection signal processing circuit for forming a large current high-speed image for detecting the presence of the defect, and a detection signal processing circuit for forming an image in a specific narrow part detected by this defect detecting inspection.例文帳に追加

欠陥の存在を検出する為の大電流高速画像形成用の検出信号処理回路と、この欠陥検出検査により検出された特定の狭い部位の画像形成用の検出信号処理回路とを独立に設ける。 - 特許庁

To enhance defect detection sensitivity at a pattern edge portion by improving the method of determining a correction amount, as to correction of gray level difference at the pattern edge portion performed in an image defect inspection method used for a visual inspection device for a semiconductor circuit.例文帳に追加

半導体回路の外観検査装置に使用される画像欠陥検査方法で行う、パターンエッジ部分におけるグレイレベル差の補正において、補正量の決定方法を改善して、パターンエッジ部分における欠陥検出感度を向上する。 - 特許庁

The electron microscope 5 for observing a defect detected by the optical defect inspection device or the optical appearance inspection device has a constitution wherein an optical microscope 14 for re-detecting the defect is loaded, and a distribution polarization element and a space filter are inserted onto a pupil surface when performing dark field observation by the optical microscope 14.例文帳に追加

光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布偏光素子及び空間フィルタを挿入する構成とする。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for the inspection of a defect with reference to a film wherein the defect can be inspected quickly and with high accuracy from the film in which fillers such as particles or the like exist and information on the inspection of the defect is recorded or attached so as to be provided as a filmlike product and to provide the filmlike product.例文帳に追加

粒子などのフィラーが存在するフィルムの中から、迅速かつ高精度な欠陥検査を可能にし、該欠陥検査の情報を記録若しくは添付してフィルム状製品として提供するフィルム対する欠陥検査方法とその装置並びにフィルム状製品を提供することにある。 - 特許庁

To provide a defect detector suitable for detecting a defect, such as a void on the bonded interface of transparent substrates composed of a compound semiconductor, which are bonded directly, and a defect detection system capable of surely removing the defect portion in a chip appearance inspection after chip process completion and a defect detection method.例文帳に追加

直接接合により貼り合わされた化合物半導体からなる透明基板の貼り合わせ界面のボイド等の欠陥を検出するのに好適な欠陥検出装置、更にチッププロセス終了後のチップ外観検査において該不良部を確実に取り除くことができる欠陥検出システムおよび欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reflection type mask blank and a reflection type mask for EUV exposure, and a method of manufacturing the same enabling defect inspection without removing a hard mask layer in a process inspection after the etching of an absorbing material layer and also enabling easier defect repair without any complicated process even if a black defect is found in the process inspection.例文帳に追加

本発明は、吸収体層のエッチング後の工程検査で、ハードマスク層を除去することなく欠陥検査することを可能にし、さらに、この工程検査で黒欠陥が見つかった場合でも、複雑な工程を要することなく、容易に欠陥修正が可能なＥＵＶ露光用の反射型マスクブランクス、反射型マスク、およびその製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

The maintenance method for the heat exchange plates of the plate-type heat exchanger includesan inspection process by using a leak tester for inspecting the existence of a penetration defect generated by damage in the heat exchange plates of the plate-type heat exchanger by using the leak tester; and the flaw inspection process for pinpointing the penetration defect, when the penetration defect is found by the inspection process using the leak tester.例文帳に追加

リークテスターを使用してプレート式熱交換器の熱交換板に損傷により生じた貫通欠陥部の有無を検査するリークテスター検査工程と、上記リークテスター検査工程により貫通欠陥部が発見された場合に、貫通欠陥部を特定する探傷検査工程とを有することを特徴とするプレート式熱交換器の熱交換板のメンテナンス方法。 - 特許庁

To provide a display device inspection method that can inspect a display device in a comparatively short time under an inspection level equal to or higher than that of a conventional visual inspection, that is, the inspection without missing of a defect of a visually recognized level in place of the conven tional visual inspection by a worker and to provide a manufacturing method for the display device.例文帳に追加

従来の作業者の目視による欠陥の検査に代って、従来の目視検査と同等のレベル以上の検査、即ち視認可能なレベルの欠陥を見逃すことなく比較的短い時間で検査することが可能な、ディスプレイ装置の検査方法およびディスプレイ装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a visual inspection method which digitizes the position of a defect found in a visual inspection of a construction work on the spot to be specified and writes it on a conventional inspection sheet to enable implementation of correction work only by using the inspection sheet and promote conversion of inspection results into electronic data.例文帳に追加

本発明は、建築工事の目視検査で発見された不具合の位置をその場で数値として特定する目視検査方法であり、その数値を従来の検査シートに取り込もことにより、検査シートだけで是正工事の推進を可能とすると共に、検査結果の電子データ化を促進するものである。 - 特許庁

Inspection conditions decided by at least the eyelectronic optical conditions in a charged particle source and an irradiating optical means are a plurality of different inspection conditions, and a defect classification means that classifies the defects of a sample using a plurality of defect information obtained by irradiating the sample under a plurality of inspection conditions is provided.例文帳に追加

少なくとも荷電粒子源と照射光学手段における電子光学条件によって決定される検査条件が複数の異なる検査条件であって、該複数の検査条件で試料を照射し得られた複数の欠陥情報を用いて、試料の欠陥を分類する欠陥分類手段を備える。 - 特許庁