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「interconnection」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索
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interconnectionを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 2610



例文

The multilayer interconnection board includes a laminated sheet 1 including a signal layer 2 formed inside and a ground layer 3b differing from the signal layer 2.例文帳に追加

本発明にかかる多層配線基板は、内部に形成された信号層2と、信号層2とは異なるグランド層3bと、を含む積層板1を有する。 - 特許庁

A power generating system makes a natural energy power generating device (a photovoltaic power generating device) NP and a fuel cell power generating device FP operate in system interconnection with a commercial power system 1.例文帳に追加

自然発電装置(太陽光発電装置)NP及び燃料電池発電装置FPを商用の電力系統1と系統連系させる。 - 特許庁

A seal ring composed of a contact 106 and an interconnection 107 is embedded in the insulating film 105 and the cover insulating film 108 so as to surround the fuse 104.例文帳に追加

絶縁膜105およびカバー絶縁膜108には、ヒューズ104を囲むように、コンタクト106および配線107からなるシールリングが埋設されている。 - 特許庁

To provide a composite interconnection substrate capable of thinning its size, improving heat radiation efficiency of mounted ICs, and eliminating risks of disconnection and various problems.例文帳に追加

薄型化、搭載ICの放熱効率の向上、断線のおそれの排除その他の種々の問題点を解決することができる複合配線板を提供する。 - 特許庁

例文

INTERCONNECTION FILM AND ELECTRODE FILM FOR FLAT PANEL DISPLAY USING THIN FILM TRANSISTOR (TFT) SUPERIOR IN ADHESIVENESS, AND SPUTTERING TARGET FOR FORMING THEM例文帳に追加

密着性に優れたTFTトランジスターを用いたフラットパネルディスプレイ用配線膜および電極膜並びにそれらを形成するためのスパッタリングターゲット - 特許庁


例文

The method calculates timing windows of the potential aggressor interconnections to calculate each cell on each critical path and first timing of each victim interconnection.例文帳に追加

本方法は潜在的なアグレッサ相互接続のタイミングウインドウを計算し、各クリティカルパス上で各セル及び各ビクティム相互接続の第1タイミングを計算する。 - 特許庁

The mechanical interconnection includes either the sidewalls or the rings having a protruding hook 130 and the other having a corresponding hook recess 132.例文帳に追加

機械的相互接続部は、突出フック130を有する側壁又はリングの一方と、対応するフック凹部132を有する側壁及びリングの内の他方とを含む。 - 特許庁

Each first nitride film 4 covers part of the under surface of each copper interconnection 5, and is extended between copper interconnections 5 and 5 adjacent to each other.例文帳に追加

第1窒化膜4は、各銅配線5の下面の一部を覆うとともに、隣接する銅配線5と銅配線5との間にわたって形成されている。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a three-dimensional semiconductor package mounting semiconductor devices three-dimensionally, while shortening the interconnection between respective semiconductor devices and attaining scaling-down and densification.例文帳に追加

半導体ディバイスを三次元実装し、各半導体ディバイス間の配線の短縮化、微細化、高密度化を図った三次元半導体パッケージを製造する。 - 特許庁

例文

To provide a manufacturing technology of a semiconductor device and, more specifically, an interconnection structure of the semiconductor device and its manufacturing method.例文帳に追加

本発明は半導体装置の製造技術に関わり、より詳細には、半導体装置の相互連結構造及びそれの製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a semiconductor device which can contribute to downsizing of a module substrate with respect to interconnection between electrode pads which may be directly connected with one another from a function viewpoint.例文帳に追加

機能上直結されてよい電極パッド間の相互接続の点に関しモジュール基板の小型化に資することができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

An interconnection substrate 60 is mounted over a first inductor 302 of a semiconductor chip 10 and a second inductor 322 of a semiconductor chip 20.例文帳に追加

配線基板60は、半導体チップ10の第1インダクタ302上から半導体チップ20の第2インダクタ322上に亘って取り付けられている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an improved interconnection circuit that has high integration density, and consists of a conductive electrical path, a pad, and a micro-via.例文帳に追加

高集積密度を有し、導電性電路(導電路)、パッドおよびマイクロビア(microvia)より成る改善した相互接続回路を製造する方法を提供する。 - 特許庁

A second opening part is formed inside the second interconnection section, designed to receive the scanning side end of an ultrasound probe.例文帳に追加

第2の開口部は第2の相互接続部分の内部に形成されると共に、超音波探触子の走査側端部を受け容れるように構成される。 - 特許庁

A first insulating film including a vacancy forming material and comprising a low permittivity material is formed on a diffusion protective film 2 formed on a lower layer interconnection 1.例文帳に追加

下層配線1上に形成された拡散防止膜2の上に、空孔形成材を含み低誘電率材料からなる第1の絶縁膜を形成する。 - 特許庁

To provide a system which administers an interconnection between connecting points of network elements controlled by a administration center by using an information model.例文帳に追加

管理センター(10)により制御されるネットワークエレメント(E__1)の接続ポイント間の相互接続を、情報モデル(R_1)を使用して管理するシステムを提供すること。 - 特許庁

P-TYPE SEMICONDUCTOR DISTRIBUTION BRAGG REFLECTOR, SURFACE EMITTING ELEMENT, SURFACE EMITTING MONOLITHIC ARRAY, ELECTROPHOTOGRAPH SYSTEM, OPTICAL COMMUNICATION SYSTEM AND OPTICAL INTERCONNECTION SYSTEM例文帳に追加

p型半導体分布ブラッグ反射器および面発光素子および面発光モノリシックアレイおよび電子写真システムおよび光通信システムおよび光インターコネクションシステム - 特許庁

The holes 172 of the ground plane layer 168 heightens flexibility especially in interconnection interfaces 141, 143 so as to increase compliance of the connector 100.例文帳に追加

この接地平面層168の穴172は、特に相互接続界面141、143においてその柔軟性を高めて、コネクタ100のコンプライアンスを増加する。 - 特許庁

The method for establishing a high-density electrical interconnection between high-voltage driver chips and charging electrodes controlled by the chips is provided.例文帳に追加

本発明は高電圧ドライバチップと、このドライバチップにより制御されるチャージ電極との間の高密度電気相互接続を確立する方法を提供する。 - 特許庁

APPARATUS AND SYSTEM FOR EXECUTING DOCUMENT SCANNING JOBS THAT ARE INTENDED FOR REMOTE WORK STATION THROUGH USING WIRELESS INTERCONNECTION BETWEEN WORK STATION AND SCANNER FACILITY例文帳に追加

ワークステーションとスキャナ装置との間の無線相互接続の使用を介し、リモートワークステーションを対象とした文書スキャニングジョブを実行する装置及びシステム - 特許庁

To provide a multilayer interconnection board capable of restraining deterioration in mechanical strength due to the formation of a cavity and the occurrence of the warpage and undulation of a substrate body.例文帳に追加

キャビティの形成による機械的強度の低下や、基板本体の反りやうねりの発生を抑えることができる、多層配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a curable amine flux composition which facilitates manufacturing of interconnection in which reliable soldering and sealing are performed in an electric machine part.例文帳に追加

電機部品における信頼性のあるはんだ付けされかつ封止された相互接続の製造を容易にする硬化性フラックス材料を提供する。 - 特許庁

Consequently, a first interconnection hole 32 and an ink hole 12e are interconnected to form an ink channel B from an ink chamber 16 to the ink extraction tube 12.例文帳に追加

その結果、第1連通孔32とインク孔12eとの間が連通し、インク室16からインク抽出管12へのインク流路Bが形成される。 - 特許庁

The method (10) is to form the interconnection of the substrate penetration for the microelectronic device including the substrate (30) having the surface and back side.例文帳に追加

表側と裏側を有する基板(30)を含むマイクロエレクトロニクス・デバイス用の基板貫通の相互接続部(42)を形成する方法(10)を提供する。 - 特許庁

A bypass capacitor is arranged near a portion at which a plane between the bus wiring layer of multilayer interconnection layer used for the mother board and the memory module, and conductive layer is changed.例文帳に追加

マザーボードとメモリモジュールの多層配線層のバス配線層と導電層とのプレーンの切り替わる部分の近傍に、バイパスコンデンサを配置する。 - 特許庁

To realize optical interconnection at low cost by easily manufacturing an optical transmission medium without requiring optical designing, adjustments, etc.例文帳に追加

光学的な設計や調整等を必要とすることなく光伝送媒体を簡易に製造可能とし、低コストで光インタコネクションを実現可能とする。 - 特許庁

As a result, an additional signal line interconnection part can be built in a board circuit package and/or the integrated circuit chip can be made small.例文帳に追加

その結果、追加の信号ライン相互接続部を、基板回路パッケージに内蔵することができ、および/または集積回路チップを小さくすることができる。 - 特許庁

To fine a metal dot pattern, and at the same time to inhibit increase in via resistance in a semiconductor device having multilayer interconnection with stacked via structure.例文帳に追加

スタックトビア構造の多層配線を有する半導体装置において、メタルドットパターンを微細化しつつビア抵抗の増大を抑制できるようにする。 - 特許庁

To prevent increase in capacitance resulted from high permittivity of a plasma silicon nitride film used for preventing a diffusion of Cu on the interconnection in the lower layer Cu.例文帳に追加

下層Cuの配線上にCuの拡散防止のために用いているプラズマシリコン窒化膜の高誘電率に起因する配線容量の増加を防止する。 - 特許庁

A single-crystal silicon film 18 is formed by selectively forming the amorphous silicon film 17, and resist 19 is formed only on an interconnection formation part.例文帳に追加

次に、アモルファスシリコン膜17を選択的に成長させて単結晶シリコン膜18を形成し、インターコネクト形成部上のみにレジスト19を形成する。 - 特許庁

To provide a ceramic element in which electrical connection can be made surely between the main electrodes of each layer through a through hole and an interconnection electrode.例文帳に追加

スルーホール及び中継用電極を介して、各層の主電極同士の電気的接続を確実に行うことができるセラミック素子を提供する。 - 特許庁

To eliminate the need for timing analysis of multiple number of times after modifying and completing a layout and reduce a clock skew, without using a dedicated clock interconnection layer.例文帳に追加

レイアウトの変更及び終了後の複数回のタイミング解析を不要とし、専用のクロック配線層を使用することなく、クロックスキューを削減する。 - 特許庁

A first level conductive track participates with an interconnction between inverters and an interconnection between switching transistors, and the word lines are parallel to the bit lines.例文帳に追加

第1レベルの導電性トラックはインバータ間の相互接続及びスイッチトランジスタ間の相互接続に関与し、ワード線はビット線に平行とされている。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit of a multilayer structure in which interconnection of an upper layer thin film transistor (TFT) and a lower layer transistor is formed with good yield.例文帳に追加

上層の薄膜トランジスタ(TFT)と下層のトランジスタの配線の接続を、歩留まり良く形成された多層構造の半導体集積回路を提供する。 - 特許庁

Lower layer wiring 11 being an arbitrary metal wiring pattern and upper layer wiring 12 are formed in interlayer insulating films 10 (101, 102) in multilayer interconnection.例文帳に追加

多層配線における層間の絶縁膜10(101,102)中に任意の金属配線パターンである下層配線11、上層配線12が形成されている。 - 特許庁

In manufacturing the semiconductor device, a layer (4a) containing nitrogen is formed in an exposed portion of the copper interconnection line (3b) formed in an insulation film (1) on a substrate.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、基板上の絶縁膜(1)に形成された銅配線(3b)における露出部位に、窒素を含む層(4a)を形成する。 - 特許庁

In some embodiments, either the first or second contact is connected to a sub-mount by a solder interconnection having a length larger than the width.例文帳に追加

幾つかの実施形態において、第1及び第2のコンタクトの一方は、幅よりも大きい長さを有するはんだ相互接続によりサブマウントに接続される。 - 特許庁

The primary interconnection node M includes a means that executes Drop and Continue (D and C operations) and a service selector SSM for each circuit.例文帳に追加

前記1次相互接続ノードMは、ドロップアンドコンティニュー(DおよびC操作)を実行するための手段と、各回路のためのサービスセレクタSS_Mとを含む。 - 特許庁

For example, the system can be a multiprocessor server system having partially or perfectly connected topology having arbitrary point-to-point interconnection.例文帳に追加

本システムは、たとえば、任意のポイントツーポイント相互接続をもつ部分的又は完全に接続されたトポロジーを有するマルチプロセッササーバシステムである場合がある。 - 特許庁

The interconnections are exposed by making a hole in the support, or peeling off from the support, external terminals connected to this exposed interconnection are formed.例文帳に追加

支持部に穴を開け、或いは該支持部を剥離することにより、配線を露出させ、この露出した配線に接続される外部端子を形成する。 - 特許庁

To increase the number of logic channels and to distribute the logic channels connected on a plurality of lines in the interconnection of packet switching networks.例文帳に追加

パケット交換網の相互間接続にあって、論理チャネル数の増大化と複数回線上で接続される論理チャネルの分散化とを実現する。 - 特許庁

When a copper film 6 is formed in interconnection trenches, copper is polished by CMP method, and then the copper is removed by etching from the vicinity of the circumferential fringe of a wafer.例文帳に追加

銅膜6を配線溝内に形成する際、CMPにより銅を研磨した後、ウェーハ周縁近傍の銅をウエットエッチングにより除去する。 - 特許庁

An optimum setting value can be determined from the private power-generating capacity which corresponds to the number of the private power-generators 5, linked to the system interconnection facilities.例文帳に追加

これにより、系統連系設備に連系されている自家用発電機5の台数に対応する自家用発電容量から最適な整定値を整定できる。 - 特許庁

To form through holes with a good shape and low electric resistance without deteriorating a lower interconnection layer and an insulation film.例文帳に追加

下部配線層及び絶縁膜に劣化を生じさせることなく、良好な形状のスルーホールを形成し、電気抵抗の低いスルーホールを形成することを課題とする。 - 特許庁

A procedure for inserting a blade and/or an interconnection device into a chassis of a server being supplied with power or during operation is called a hot plug.例文帳に追加

電力が供給されているか、または作動中のサーバのシャーシ内にブレードおよび/またはインターコネクト・デバイスを挿入する手順は、ホットプラグと呼ばれる。 - 特許庁

To provide a method for forming a multilayer interconnection by which the over-etching of a first insulating film can be prevented, and to provide a method for manufacturing an electronic device.例文帳に追加

第1絶縁膜に対するオーバエッチングを防止できるようにした多層配線の形成方法及び、電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The interconnection and the inter relationship between coils are taken into consideration in the RF pulse design by an effective B_1 magnetic field map to the respective transmission coils.例文帳に追加

各送信コイルに対する効果的なB_1磁場マップにより、相互結合及び他のコイル間相関関係がRFパルス設計において考慮される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method that facilitates an electric connection forming process for an interconnection region to a stack of a contact level of a three-dimensional laminate IC device.例文帳に追加

3次元積層ICデバイスにおいて、相互接続領域のコンタクトレベルのスタックへの電気接続形成工程を簡略化する製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technique that maintains the homogeneity of semiconductor devices and interconnection which are subjected to advanced microfabrication while maintaining the mounting rate of circuit cells onto a chip.例文帳に追加

チップへの回路セルの実装率を保ちつつ、微細化の進んだ半導体素子および配線の均等性を保つことのできる技術を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a method of manufacturing a multilayered wiring board which can surely establish continuity among interconnection layers by preventing a conduction post from being buried into a resin film.例文帳に追加

樹脂膜中に導通ポストが埋没するのを防止し、配線層間の導通を確実に図れるようにした多層配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁




  
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