「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(98ページ目) - Weblio英語例文検索

Disclosed is the letterpress for pattern formation characterized in that a protective layer 205 is provided by a vacuum thin-film forming method to resin-made projection portions 201 of the letterpress 200 for pattern formation, wherein: the protective film is a mixed thin film of an organic substance and an inorganic substance; and the vacuum thin-film forming method is a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

パターン形成用凸版２００の樹脂製凸部２０１に真空薄膜形成法により保護層２０５を設けたことを特徴とするパターン形成用凸版であって、前記保護層が有機物と無機物の混合薄膜であって、前記真空薄膜形成法が、化学気相成長法であることを特徴とする。 - 特許庁

In the method of manufacturing a tape base material for superconducting wire rod 2 in which an orientation layer 21 is formed on a metal substrate 10 by an ion beam assisted vapor deposition method and a buffer layer 22 is formed on the orientation layer, lattice distortion of the orientation layer is alleviated by giving a prescribed thermal history to the orientation layer.例文帳に追加

金属基板上１０にイオンビームアシスト蒸着法により配向層２１を形成し、この配向層の上に緩衝層２２を形成する超電導線材用テープ基材２の製造方法において、配向層に所定の熱履歴を与えることにより配向層の格子歪みを緩和する。 - 特許庁

A signal pattern between first and second coplanar-type transmission lines (503, 513) and a ground pattern are connected to each other with the high accuracy of a μm order of the upper side (527) of a nonconductive fill for filling a gap between first and second substrate (501, 511) by printing or a vapor deposition method.例文帳に追加

第１の基板（５０１）と第２の基板（５１１）との間の空隙を充填する非導電性フィル上部（５２７）に、印刷・あるいは蒸着法を以ってμｍオーダーで精度よく第１のコプレーナ型伝送線路（５０３）と第２のコプレーナ型伝送線路（５１３）との信号パターン、及びグラウンドパターンをそれぞれ接続させる。 - 特許庁

With a thermal CVD (chemical vapor deposition) method for forming a transparent conductive film on a base body, a transparent conductive tin oxide (SnO_2) film (P) can be obtained in a process (S1) of evaporating a solid raw material (R) by direct heating and a process (S2) of depositing raw material gas on the heated base body.例文帳に追加

基体上に透明導電膜を形成する熱ＣＶＤ（化学気相成長）法であって、固体原料（Ｒ）を直接加熱により気化させる工程（Ｓ１）と発生した原料ガスを加熱基体に堆積させる工程（Ｓ２）により透明導電性酸化スズ（ＳｎＯ_２）膜（Ｐ）を得ることができる。 - 特許庁

To improve stability and uniformity of an organic film to be formed, by solving the problems that a porous ceramic sinter of oxidized aluminum or the like to be used for vacuum vapor deposition of the organic film contains much impurities that may cause deterioration of organic film characteristics, and it is difficult to control stability and uniformity of the organic film to be formed.例文帳に追加

有機膜の真空蒸着に用いられる酸化アルミニウムなどの多孔性セラミックス焼結体は有機膜特性を劣化させる要因となる不純物が多く、成膜する有機膜の安定性及び均一性の制御が難しいので、成膜する有機膜の安定性及び均一性を高めることである。 - 特許庁

The low radiation film formed by a vapor deposition process on a base material, includes: an underlayer and a thin film laminate part on the base material, wherein the thin film laminate part includes: a metal layer; and a barrier layer on the metal layer, and the barrier layer is in contact with the metal layer and comprises a nitride or an oxynitride.例文帳に追加

基材上に蒸着プロセスによって形成される低放射膜において、基材上に下地層と、薄膜積層部とを有し、該薄膜積層部は金属層と、該金属層上にバリア層とを含有するものであり、該バリア層は該金属層上に接し窒化物または酸窒化物からなることを特徴とする低放射膜。 - 特許庁

To provide a member for producing polycrystalline silicon, which is a cylindrical member used as a reaction tube for a raw gas in the production of the polycrystalline silicon by a vapor-to-liquid deposition method, and by which the concentration of carbon in formed silicon attributable to the composition of the member is reduced, and to provide a method for producing the member.例文帳に追加

溶融析出法による多結晶シリコンの製造において、原料ガスの反応管として用いられる筒状体の部材について、該部材組成に起因する生成シリコン中の炭素濃度の低減化を図ることができる多結晶シリコン製造用部材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The pressure-sensitive conductive material is prepared by using, as a base material, a composition prepared by blending a softener in a thermoplastic elastomer, and foaming the conductive resin composition by adding a foaming agent to a conductive resin composition in which vapor deposition carbon fibers are blended in the base material.例文帳に追加

本発明の感圧導電性材料は、熱可塑性エラストマーに対して軟化剤を配合してなる組成物を母材として、この母材中に気相成長炭素繊維が配合された導電性樹脂組成物に対し、発泡剤を添加することにより、前記導電性樹脂組成物を発泡させたものである。 - 特許庁

The method includes: forming a translucent first layer on an optical substrate 1 directly or through the other layer; and forming, on a surface of the first layer, a translucent thin film 33 including at least any one of transition metal carbide, transition metal silicide and transition metal germanide by means of physical vapor deposition.例文帳に追加

光学基材１の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成することと、第１の層の表面に、遷移金属カーバイド、遷移金属シリサイド、遷移金属ゲルマニドの少なくともいずれかを含む透光性薄膜３３を物理的蒸着により形成することとを有する。 - 特許庁

The method for forming the hard carbon film on the surface of a material to be treated comprises heating and sublimating raw material carbons while converging the plasma formed by utilizing a hollow cathode discharge by coil magnetic fields within a process chamber and forming the hard carbon film by vapor deposition on the surface of the material to be treated.例文帳に追加

被処理材の表面に硬質炭素膜を形成するための方法であって、処理室内において、ホローカソード放電を利用して、生成プラズマをコイル磁場で収束しつつ、原料炭素類を加熱、昇華させ、前記被処理材の表面に硬質炭素膜を蒸着形成することを特徴とする。 - 特許庁

The infrared light irradiation lamp for the vehicle includes a light-emitting diode 12 for infrared light which emits infrared light around the vehicle, a light-emitting diode 14 for white light which emits the white light around the vehicle, and a reflector 20 having a reflecting surface where surface vapor deposition is applied and formed by a transparent member.例文帳に追加

車両用赤外光照射ランプは、赤外光を車両周辺に投光するための赤外光用発光ダイオード１２と、白色光を発する白色光用発光ダイオード１４と、表面蒸着が施された反射面を備える、透明部材で形成されたリフレクタ２０と、を備える。 - 特許庁

The radiation image conversion panel, having a phosphor layer formed on a support by vapor deposition, and a protective layer on the phosphor layer, is characterized in that a crystal end in the phosphor layer comes into surface contact with the protective layer to satisfy specific requirements.例文帳に追加

支持体上に気相成長法によって形成された蛍光体層と当該蛍光体層上部に保護層を有する放射線画像変換パネルであって、当該蛍光体層中の結晶先端が、当該保護層と面で接触し、特定要件を満たすことを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁

The crucible 1 is used for producing an aluminum nitride single crystal by a vapor deposition method, and includes an inside crucible 10, an inner lid 20 for holding a seed crystal so that the seed crystal opposes to the bottom wall of the inside crucible 10, and an outside crucible 30 arranged to surround the inside crucible 10 and the inner lid 20.例文帳に追加

気相成長法による窒化アルミニウム単結晶の製造に用いられる坩堝１は、内側坩堝１０と、内側坩堝１０の底壁に対向するように種結晶を保持する内蓋２０と、内側坩堝１０および内蓋２０を取り囲むように配置された外側坩堝３０とを備えている。 - 特許庁

This method of manufacturing a transparent or translucent gas-barrier laminated body includes processes of: forming a base layer 12 on at least one-side surface of a plastic film base material 11 by using either a physical film formation method or a chemical vapor-phase epitaxial method, or both of them; and forming a gas barrier layer 13 on a surface of the base layer 12 by using an atomic layer deposition method.例文帳に追加

プラスチックフィルム基材１１の少なくとも一方の面に、物理成膜法もしくは化学気相成長法のいずれか、またはその両方を用いて下地層１２を形成する工程と、下地層１２の表面に、原子層堆積法を用いてガスバリア層１３を形成する工程とを具備する。 - 特許庁

The light barrier packaging material comprising a laminated film having oxygen barrier properties and light barrier properties is constituted by successively laminating a stretched polypropylene film, a black polyolefin film, a vapor deposition nylon film and a polyolefin film by providing an adhesive layer between the respective films and reduced in bending deterioration and superior in pinhole resistance.例文帳に追加

酸素バリア性と遮光性とを有する積層フィルムからなる遮光包材において、延伸ポリプロピレンフィルム、黒色ポリオレフィンフィルム、蒸着ナイロンフィルム、ポリオレフィンフィルムが順次積層されており、各層間に接着層を設けた屈曲劣化が少なく耐ピンホール性に優れることを特徴とする遮光包材である。 - 特許庁

The film deposition system comprises: a plasma chemical vapor growth means having a plasma linear source 7; an ion etching treatment means having an ion etching roller 5 arranged at prescribed intervals with the plasma linear source 7; and a film conveying means making a film 3 pass between the plasma linear source 7 and the ion etching roller 5.例文帳に追加

本発明の成膜装置は、プラズマリニアソース７を有するプラズマ化学気相成長手段と、プラズマリニアソース７と所定間隔をおいて配置されているイオンエッチングローラー５を有するイオンエッチング処理手段と、プラズマリニアソース７とイオンエッチングローラー５との間においてフィルム３を通過させるフィルム搬送手段と、を具備する。 - 特許庁

An auxiliary catalyst thin film is formed on a substrate, a metal oxide thin film is formed on the auxiliary catalyst thin film and the hydrogen dissipating catalyst is further formed on the metal oxide thin film by vapor deposition to constitute the optical hydrogen sensor capable of detecting hydrogen without lowering response even if the use amount of the hydrogen dissipating catalyst is little.例文帳に追加

基板上に補助触媒薄膜を蒸着した後、その上に金属酸化物薄膜を作製し、更にその上に水素解離用触媒を蒸着することによって、少量の水素解離用触媒の使用によってもセンサの応答性を低下させることなく水素を検知可能な水素センサ。 - 特許庁

Synthetic monocrystalline diamond compositions have one or more monocrystalline diamond layers formed by chemical vapor deposition, wherein the layers include one or more layers having an increased concentration of one or more impurities (such as boron and/or isotopes of carbon), as compared to other layers or comparable layers without such impurities.例文帳に追加

化学気相成長によって形成される１つ又は複数の単結晶ダイヤモンド層を有する、合成単結晶ダイヤモンド組成物であって、該層が、不純物のない他の層又は同様の層と比べて、（ホウ素及び／又は炭素同位体などの）１つ又は複数の不純物の濃度が増加した１つ又は複数の層を含む。 - 特許庁

To provide a catalyst body efficiently preparing a high purity and high quality carbon nanotube by using thin-piece-shaped MgO containing transition metals in which a transition metal catalyst is highly distributed on a minute flat sheet structure in a catalyst-chemical vapor deposition method, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

触媒化学気相成長法において、微小な平板構造上で遷移金属触媒が高度に分散した遷移金属含有薄片状ＭｇＯを用いることで高純度、高品質なカーボンナノチューブ含有組成物を収率よく製造することのできる触媒体、その製造方法を提供する。 - 特許庁

To facilitate vapor deposition for forming a main reflection face, to reduce the thickness of a module as a whole, to secure an expanded light emission area per an LED, and to effectively use light in the acquisition of a desired light distribution pattern as vehicle signal light.例文帳に追加

主反射面を形成するための蒸着が容易であると共に、モジュール全体の薄型化が可能であるばかりでなく、ＬＥＤの１個当たりの拡大した発光面積を確保することができると共に、車両信号灯としての所望の配光パターンを得るときの光の有効利用をも図ることができること。 - 特許庁

When making alignment of the transparent substrate 11 and the shadow mask 14 in order to form a thin film layer on the transparent substrate 11 by a vapor deposition method, a white light source is used as an irradiation light source to irradiate light on the alignment mark 13 and a plurality of optical filters 17 having a different center wavelength of transmission wavelength are prepared.例文帳に追加

透明基板11上に薄膜層を蒸着法により形成するため、透明基板11とシャドーマスク14とをアライメントする際、アライメントマーク13に光を照射する照射光源16として白色光源を使用するとともに、透過波長の中心波長が異なる複数の光学フィルタ17を準備する。 - 特許庁

The material obtained with the vapor-deposition is shown as high thermal-stability by adding the above elements having low diffusion speed, but further, the hardness and the strength are risen by integrating and precipitating fine precipitations in crystal grains while applying a heat treatment and/or a hot-plastic work, and the thermal-stability can be improved.例文帳に追加

蒸着によって得た材料は、拡散速度の低い前記元素の添加により高い熱的安定性を示すが、更に熱処理及び／又は熱間塑性加工を施して微細な析出物を結晶粒内に整合析出させることにより、硬度及び強度が上昇し、熱的安定性が高めることができる。 - 特許庁

By a chemical vapor deposition (CVD) process using a gaseous starting material in which components are regulated in such a manner that thin films start to grow only from growth starting points 3 formed at prescribed regions on a glass plate 1, thin films (e.g., transparent electrically conductive films such as tin oxide films) are selectively grown on the above prescribed regions.例文帳に追加

ガラス板１上の所定領域に形成された成長起点３のみから薄膜が成長を開始するように成分を調整した原料ガスを用いた化学蒸着（ＣＶＤ）法により、薄膜（例えば酸化錫膜等の透明導電膜）を上記所定領域に選択的に成長させる。 - 特許庁

Moreover, the solid-state imaging device is manufactured by having a process of depositing the silicon nitride film 14 by a reduced pressure CVD (chemical vapor deposition) method by connecting with the transfer electrode or the buffer layer 11d and a process of depositing the refractory metal layer 13 on that to form the shunt wiring layer 7d.例文帳に追加

また、転送電極又は緩衝層１１ｄに接続して、減圧ＣＶＤ（化学的気相成長）法により窒化珪素膜１４を成膜する工程と、その上に高融点金属層１３を成膜してシャント配線層７ｄを形成する工程とを有して前記固体撮像素子を製造する。 - 特許庁

In the electrooptical element, an outer peripheral electrode composed of a metal film is provided at an outer periphery of a liquid crystal optical control part, a terminal electrode connected to an external circuit is provided at the outer peripheral electrode via a connection electrode, the metal film is formed by a method for using a vapor deposition mask and a structure for preventing deterioration of the transparent electrode is adopted.例文帳に追加

電気光学素子は、液晶光制御部の外周には、金属膜からなる外周電極を設け、外周電極は、連結電極を介して、外部回路と接続する端子電極を設け、金属膜は、蒸着マスクを使用する方法で形成し、透明電極の劣化を防止する構造を採用する。 - 特許庁

The mask-cleaning apparatus 1 also has a blower portion 17 and a suction portion 18 which forms an air flow in the upper part of the mask 2 for the organic EL, and cleans the mask by crushing the vapor deposition substance 20 by laser scanning, makes the liberated product scatter toward the upper part, and makes the air flow transport the liberated product to remove the product.例文帳に追加

有機ＥＬ用マスク２の上方には送風部１７と吸引部１８とによる空気流が形成されており、レーザ走査により蒸着物質２０を破砕して遊離生成物として上方に向けて飛散させ、空気流により搬送されて除去されるようにしてクリーングを行う。 - 特許庁

A flexible sheet for transmitting a surface pressure of a taken finger print pattern includes a pressure-sensitive sheet put on a sensor part surface, that is a flexible sheet formed by laminates such as a plurality of extra-thin PET films where a vapor deposition film of a conductive substance is sandwiched by the laminates.例文帳に追加

センサー部表面に載置される感圧シートが、複数の超極薄ＰＥＴフィルム等の積層体で形成された可撓性シートであって、該積層体中に導電性物質の蒸着膜が介在挟持されていることを特徴とする押捺指紋パターンの面圧力伝達用可撓性シートを提供する。 - 特許庁

The shape of a peripheral part 33a of metal electrode 33 to be formed is will not be affected by the shape of burrs 32 that are adhere to an aperture 30 of mask for vapor deposition 28, and thus a slotted part 33b corresponding to the burrs 32 is hard to be formed at a peripheral part 33a of the metal electrode 33.例文帳に追加

このとき、形成される金属電極３３の外周縁部３３ａの形状は、蒸着用マスク２８の開口部３０に付着したバリ３２の形状に影響されることがなく、その結果、金属電極３３の外周縁部３３ａにバリ３２に対応する切り込み部３３ｂが形成されにくくなる。 - 特許庁

To provide a production apparatus that reduces a production cost by increasing the usability of EL materials, when producing a full-color flat panel display which uses luminescent colors of red, green and blue, and is provided with a vapor deposition device which is one of production devices capable of forming a film for an EL layer with superior uniformity and throughput.例文帳に追加

赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、ＥＬ材料の利用効率を高めることによって製造コストを削減し、且つ、ＥＬ層成膜の均一性やスループットの優れた製造装置の一つである蒸着装置を備えた製造装置を提供する。 - 特許庁

To produce a magnesium oxide film of good film quality, e.g. having <111> orientation properties even in the case the amt. of gaseous oxygen to be introduced into a vacuum vessel is relatively small in the production of a magnesium oxide film by vapor deposition, to mount a cryopump on a producing device for mass production and to prolong the continuous working time of the producing device.例文帳に追加

蒸着による酸化マグネシウム膜の作製で、真空容器への酸素ガスの導入量が相対的に少量であっても膜質の良好な例えば〈１１１〉配向性の酸化マグネシウム膜を作製し、クライオポンプを量産用作製装置に搭載すること、作製装置の連続稼働時間を延ばすことを可能にする。 - 特許庁

The vacuum arc vapor-deposition apparatus further has a switch-controlling unit 40 for controlling switching of the position of the trigger electrode 20 to the front of the cathode 14 which is not covered with the shutter 32, and switching of the cathode 14 which is not covered with the shutter 32, by controlling the shutter drive unit 34 and the trigger drive unit 22a.例文帳に追加

更にこの真空アーク蒸着装置は、シャッター駆動装置３４およびトリガ駆動装置２２ａを制御して、シャッター３２で覆わない陰極１４を切り換えると共に、シャッター３２で覆わない陰極１４の前方にトリガ電極２０を位置させる制御を行う切り換え制御装置４０を備えている。 - 特許庁

To provide a method of forming a substance film which can enhance an efficiency of vapor deposition of a noble metal film on a ferroelectric film, a method of manufacturing a ferroelectric film capacitor using the method, and a ferroelectric film capacitor formed by the method, and to provide a semiconductor memory device having the ferroelectric film capacitor and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

強誘電膜上で貴金属膜の蒸着率を向上させうる物質膜の形成方法、この方法を利用した強誘電膜キャパシタの製造方法及びこの方法で形成された強誘電膜キャパシタ、このような強誘電膜キャパシタを備える半導体メモリ装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method comprises: a stage wherein a nickel based vacuum thin film 13 is deposited on a substrate 11 based on a physical vapor deposition technique; and a stage wherein the substrate 11 with the vacuum thin film 13 deposited is subjected to substitution gold plating treatment in a substitution gold plating bath to deposit a substitution gold layer 14 on the surface of the vacuum thin film 13.例文帳に追加

基板１１上に物理的蒸着技術に基づくニッケル系の真空薄膜１３を形成する工程と、この真空薄膜１３を形成した基板１１を置換金メッキ浴において置換金メッキ処理を施し該真空薄膜１３の表面に置換金層１４を形成する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a resin material for covering an indicator which is excellent in pencil hardness, impact resistance, and punching quality even when its thickness is below 0.8 mm as an indicator protecting cover and is inhibited in the occurrence of warpage, a defective appearance, or the like even during printing or vapor deposition processing.例文帳に追加

携帯電話など産業用電子機器の表示体保護カバーとして、厚さ０．８ｍｍ未満であっても、優れた鉛筆硬度、耐衝撃性および打ち抜き加工性を有し、また印刷や蒸着加工時にも反りや外観不良など発生の少ない表示体カバー用樹脂材料を提供する。 - 特許庁

In this panel having a phosphor layer and a protection film provided thereon, the protection film of low moisture permeability is provided on the phosphor layer formed by a vapor deposition in the condition where 70% of gaps in formation of the phosphor layer are preserved.例文帳に追加

蛍光体層とその上に設けられた保護膜とを有する放射線像変換パネルにおいて、気相堆積法により形成された蛍光体層上に、低透湿度の保護膜が、該蛍光体層の形成時の空隙を７０％以上保持した状態で設けられていることを特徴とする放射線像変換パネル。 - 特許庁

After a photosensitive layer comprising selenium or a selenium alloy is formed on the surface of a conductive substrate by vacuum vapor deposition, the photosensitive layer surface is exposed to a supercritical fluid having a critical temperature of 0°C to 90°C at a temperature higher than the glass transition temperature and lower than the crystallization temperature of the photosensitive layer.例文帳に追加

本発明は、真空蒸着により導電性基体の表面にセレンまたはセレン合金よりなる感光層を形成後、該感光層表面を、臨界温度が０℃以上、９０℃以下の超臨界流体に前記感光層のガラス転移温度より高く、且つ結晶化温度より低い温度でさらすことを特徴とする。 - 特許庁

Thickness of the coating layer formed by the μm-level deposition in the form of the vapor phase or the ion such as sputter or evaporation is several μm, so that adhesion and denseness shut off impurities floating from the inside of the alumina base material, and the deformation of the alumina container by thermal expansion difference thereof can be avoided.例文帳に追加

スパッター又は蒸着などの気相、イオンの形態でμｍレベルの堆積により形成されるコーティング層は数μｍの厚さであって、密着性と緻密性によりアルミナ基材内から浮上する不純物を遮断すると共にその熱膨張差などによるアルミナ容器の変形を回避できる。 - 特許庁

A first coating by first treatment selected from the group consisting of electroplating treatment, electroless plating treatment and heat treatment is applied to the surface of a base material, and a second coating by second treatment selected from the group consisting of vapor deposition treatment and ion beam treatment is applied to the surface of the first coating.例文帳に追加

電解メッキ処理、無電解メッキ処理、および熱処理からなるグループから選択される第１の処理による第１のコーティングを基材の表面に施し、前記第１のコーティングの上に、蒸着処理およびイオンビーム処理からなるグループから選択される第２の処理による第２のコーティングを施す。 - 特許庁

In the decorative paper cup container, the paper cup consists of a cylindrical barrel portion and a bottom portion with both edges of a barrel member sheet overlapped in a cylindrical shape and adhered to each other, and a decorative film formed in an adequate shape on an inner surface of an emboss hologram film having emboss holograms thereon through aluminum vapor deposition is affixed to the barrel member sheet.例文帳に追加

胴部材シートの両端縁を筒状に重ね接着した筒状胴部と底部とからなる紙カップであって、エンボスホログラムを設けたエンボスホログラムフイルムの内側面にアルミ蒸着で適宜の形状に形成された加飾フイルムが胴部材シートに貼り合わせてあることを特徴とする装飾性紙カップ容器である。 - 特許庁

The middle coat composition for vacuum vapor deposition contains a (meth)acrylate copolymer (A), a photocurable resin (B), and a photoinitiator (C), wherein the (meth)acrylate copolymer (A) has a glass transition point of 50 to 70°C and a weight average molecular weight of 10,000 to 50,000.例文帳に追加

（メタ）アクリレート系共重合体（Ａ）と、光硬化性樹脂（Ｂ）と、光重合開始材（Ｃ）とを含む真空蒸着用ミドルコート組成物であって、該（メタ）アクリレート系重合体（Ａ）が、ガラス転移点５０〜７０℃であり、かつ、重量平均分子量１００００〜５００００である真空蒸着用ミドルコート組成物。 - 特許庁

The vapor deposition apparatus 1 includes a flow channel 4 for supplying gases G1-G3 onto the top face of a substrate 21; a susceptor 17 which holds the substrate 21 in an internal space 11 of the flow channel 4 and can be rotated; and a channel 7 extended from a space on the upstream side between the flow channel 4 and the susceptor 17 toward the downstream side.例文帳に追加

気相成長装置１は、基板２１の上面にガスＧ１〜Ｇ３を供給するためのフローチャネル４と、フローチャネル４の内部空間１１において基板２１を保持し、かつ回転可能なサセプタ１７と、フローチャネル４とサセプタ１７との上流側の隙間から下流側の方向に延びる流通路７とを備えている。 - 特許庁

To provide a high-precision and high-performance liquid crystal display device having high luminance, by controlling the angle or the density of the fine structure of a particulate columnar laminate of an inorganic alignment layer, such as a SiOx film formed by oblique vapor deposition or directional sputtering, by arranging the alignment of liquid crystal in the order, and by reducing color unevenness.例文帳に追加

斜方蒸着或いは指向性スパッタリングにより形成するＳｉＯｘ膜等の無機系配向膜の微粒子の柱状積層の微細構造の角度や密度をコントロールし、液晶配向を揃え、色ムラを低減して高輝度、高精細、高性能の液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The packaging material for overlap comprises a laminate obtained by successively laminating an inorganic oxide vapor deposition thin film layer 2, a reinforcing resin layer 3 for increasing stiffness, a heat-sealing layer 4a, and an antistatic layer 5 on one surface of a base material film 1 and laminating a heat-sealing layer 4b on the other surface of the base material film 1.例文帳に追加

基材フイルム１の一方の面に無機酸化物の蒸着薄膜層２、腰を強くする為の補強用樹脂層３、ヒートシール層４ａ、帯電防止層５を順次積層し、他方の面にヒートシール層４ｂを積層した積層体からなることを特徴とするオ−バーラップ用包装材料。 - 特許庁

The manufacturing method of the GaN-based LED element includes the steps of forming a first TCO film on a surface of a p-type GaN-based semiconductor layer by a vapor deposition method; and forming a second TCO film continuously from on the surface of the p-type GaN-based semiconductor layer to on a surface of the first TCO film by a sputtering method.例文帳に追加

ｐ型ＧａＮ系半導体層の表面に、蒸着法を用いて第１のＴＣＯ膜を形成する工程と、スパッタリング法を用いて、ｐ型ＧａＮ系半導体層の表面上から第１のＴＣＯ膜の表面上にかけて連続した、第２のＴＣＯ膜を形成する工程とを有する。 - 特許庁

The vapor deposition coating fluid comprises a compound composed of a polyfunctional isocyanate compound and a polyesterpolyol and having a hydroxy group at the terminal, a weight average molecular weight of 20,000-30,000, an acid value of 0-14 KOHmg/g, and a glass transition temperature of ≥55°C, and a polyfunctional isocyanate compound in an organic solvent.例文帳に追加

多官能イソシアネート化合物とポリエステルポリオールからなる末端に水酸基を有し、重量平均分子量が２０，０００〜３０，０００、酸価が０〜１４ＫＯＨｍｇ／ｇ、ガラス転移点が５５℃以上である化合物と、多官能イソシアネート化合物とを有機溶剤中に含有することを特徴とする蒸着塗布液。 - 特許庁