「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(97ページ目) - Weblio英語例文検索

This method is configured by disposing a base plate 10 in an adequate coating chamber, allowing inert or reducing gas to flow into the coating chamber, and applying aluminizing to the base plate 10 by using an aluminizing process at a practically fixed aluminum activity, such as a chemical vapor deposition.例文帳に追加

本発明の方法は、基板（１０）を適当なコーティングチャンバー内に配置し、不活性又は還元性ガスをコーティングチャンバ内へ流し、次いで、気相蒸着法のような実質的に一定のアルミニウム活量でのアルミナイジング法を用いて基板（１０）をアルミナイジングすることからなる。 - 特許庁

To provide a technology capable of scribing a semiconductor thin plate for a side of a coating layer, such as a metal coating layer that is coated entirely on one side of the semiconductor thin plate by a method of vapor-deposition or the like, in the manufacturing method of a semiconductor device comprising a semiconductor chip.例文帳に追加

半導体チップからなる半導体装置の製造において、例えば一方の面に全面的に例えば金属による被覆層が蒸着等の手法により被着形成された半導体薄板に対して、この被覆層側からスクライブを行うことができるようにする。 - 特許庁

To solve the problem wherein a multicolor multilayered film generally obtained by laminating a metal oxide or the like by a vapor deposition technique can be decorated and is beautiful but a crack occurs or adhesion can not kept when a hard thin metal oxide film or the like is formed on the surface of the elastomer resin being a soft material.例文帳に追加

一般的に酸化金属等を蒸着技術等で積層した多色多層膜は加飾でき美しいものであるが、軟質素材であるエラストマー樹脂の表面に硬くて薄い酸化金属膜等を形成することはクラックの発生や密着性が維持できず商品化がされていない。 - 特許庁

In this constitution, projection portions 15a and 19a of the first hardly soluble layer 15 and the second hardly soluble layer 19 block a course of vapor-deposited metal particles in a metal film forming stage to prevent a metal film from deposition on a side wall portion 13s of the first resist layer 13.例文帳に追加

このような構成によれば、金属膜形成工程において、第１の難溶化層１５及び第２の難溶化層１９の突出部１５ａ，１９ａが、蒸着金属粒子の進路を遮り、第１のレジスト層１３の側壁部１３ｓへの金属膜の付着を防ぐことができる。 - 特許庁

To provide a crucible for vapor deposition, which can acquire adequate adiabaticity by reducing quantity of heat transfer due to thermal radiation, has an extremely plain structure with little danger as to cause fracture of the components, and can realize drastic reduction of a manufacturing cost.例文帳に追加

熱放射による伝熱量を低減して十分な断熱性を得ることが可能であると共に、構成部材の破損を招く危険性が低くて済む極めて簡素な構成とされて製造コストの大幅な低減を実現することができる蒸着用ルツボを提供する。 - 特許庁

To enable both inspection on a quality of a picture printed on a normal print sheet and inspection on a quality of a picture printed on a vapor deposition sheet using a single configuration, so as to reduce cost, to lighten a burden of an operator and to prevent waste of print materials, in a printing quality inspection device.例文帳に追加

通常の印刷用紙に印刷された絵柄の品質の検査と蒸着紙に印刷された絵柄の品質の検査の両方を同じ構成で行うことができ、コストダウンを図るとともに、オペレータの負担を軽減させ、かつ印刷資材の無駄の発生を防止する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition device provided with a driving mechanism capable of performing stable scanning operation of a vaporization source to a large-sized substrate having e.g. one side length of >1 m without depending on a pressure state in an inner part of a vacuum chamber and having high reliability, a high operation rate, stable deposition or reduced production cost and device conveying cost.例文帳に追加

本発明の目的は、真空チャンバ内部の圧力状態に依存せずに、例えば、１辺の長さが１ｍを超える大形基板に対して、蒸発源の安定したスキャン動作が行える駆動機構を備えた信頼性の高いまたは稼働率の高いあるいは安定して蒸着が可能なまたは軽量で製作コスト、装置輸送コストの低減を図った真空蒸着装置を提供することである。 - 特許庁

The ferroelectric fim 13 contains a first ferroelectric layer 17, formed on the lower electrode 12 by a metallo-organic chemical vapor deposition and made of a first ferroelectric material, having a peropvskite crystal structure, and a second ferroelectric layer 18 formed on the first ferroelectric layer 17 through chemical solution deposition and is made of a second ferroelectric material having a perovskite crystal structure.例文帳に追加

強誘電体膜１３は、下部電極１２上に有機金属化学気相堆積法で形成された、ペロブスカイト型の結晶構造を有する第１強誘電体材料からなる第１強誘電体層１７と、第１強誘電体層１７上に化学溶液堆積法で形成された、ペロブスカイト型の結晶構造を有する第２強誘電体材料からなる第２強誘電体層１８と、を含む。 - 特許庁

The coaxial type vacuum arc deposition source 5 comprises: cylindrical insulator 14; a vapor deposition material 11 arranged at the inner circumferential part of the insulator 14 and whose outer circumferential part is brought into elastic-contact with the inner circumferential part of the insulator 14; a trigger electrode 13 arranged at the outer circumferential part of the insulator 14; and a cylindrical anode electrode 23 concentrically arranged around the trigger electrode 13.例文帳に追加

本発明に係る同軸型真空アーク蒸着源５は、円筒状の絶縁碍子１４と、絶縁碍子１４の内周部に配置され外周部が絶縁碍子１４の内周部に弾性的に接触する蒸着材料１１と、絶縁碍子１４の外周部に配置されたトリガ電極１３と、トリガ電極１３の周囲に同心的に配置された筒状のアノード電極２３とを具備する。 - 特許庁

The organic film forming apparatus which evaporates the organic material from a vapor deposition source 1 within the vacuum chamber and deposits and forms the organic film on the substrate by a vacuum deposition method is characterized in that the apparatus is provided with perforated plates 6a to 6c for holding the organic material 7 adhered onto at least a part of portions other than the substrate 2 on which the organic film deposits within the vacuum chamber.例文帳に追加

真空チャンバー内で蒸着源１から有機材料を蒸発させて真空蒸着法により基板２上に有機膜を堆積して形成する有機膜形成装置において、真空チャンバー内で有機膜が堆積する前記基板２以外の部分の少なくとも一部の上に、付着した有機材料７を保持するための多孔板６ａ〜６ｃが設けられていることを特徴としている。 - 特許庁

To provide a vaporizer and a device for feeding a gaseous CVD raw material into a chemical vapor deposition(CVD) apparatus used for manufacturing semiconductor and the like, which efficiently vaporize and feed the material at a desired concentration and flow rate, without causing precipitation and deposition of the solid CVD raw material at a raw material supply port, even when a solid CVD raw material is used.例文帳に追加

半導体の製造等に用いられる化学気相成長（ＣＶＤ）装置にガス状のＣＶＤ原料を供給するための気化器、気化供給装置において、固体ＣＶＤ原料を用いた場合においても、原料供給口で固体ＣＶＤ原料が析出して付着することなく、所望の濃度及び流量で効率よく気化供給が可能な気化器、気化供給装置を提供する。 - 特許庁

In a vapor deposition boat 13, a recessed groove 17 is composed of: a recessed groove for supply 19A to which at least a vapor deposition material is supplied; a recessed groove for evaporation 20 in communication with the recessed groove for supply 19A; and a recessed groove for diffusion 19B in communication with the recessed groove for evaporation 20.例文帳に追加

この目的を達成するため本発明の蒸着用ボート１３は、凹溝１７が、少なくとも蒸着材料が供給される供給用凹溝１９Ａと、この供給用凹溝１９Ａと連通する蒸発用凹溝２０と、この蒸発用凹溝２０と連通する拡散用凹溝１９Ｂとで構成され、表面に供給用凹溝１９Ａおよび拡散用凹溝１９Ｂが形成された領域のそれぞれの基体１８の抵抗値に対する、表面に蒸発用凹溝２０が形成された領域の基体１８の抵抗値の比は、蒸着材料の沸点を蒸着材料の融点で除した値以上であるものとした。 - 特許庁

The method for manufacturing the metal matrix composite material comprises steps of: vapor-depositing magnesium onto the surface of at least either of fibers and particles each constituting a porous preform 3; arranging the porous preform 3 after vapor deposition in a low-oxygen-partial- pressure atmosphere of ≤10 mmHg partial pressure of oxygen; and infiltrating the molten aluminum 41 or the molten aluminum alloy into the porous preform 3.例文帳に追加

多孔質プリフォーム３を構成する繊維及び粒子のうち少なくともいずれかの表面にマグネシウムを蒸着させるステップと、この蒸着をさせた多孔質プリフォーム３を、酸素分圧が１０ｍｍＨｇ以下である低酸素分圧雰囲気中に配置するステップと、前記多孔質プリフォーム３の内部に溶融アルミニウム４１又は溶融アルミニウム合金を浸透させるステップとを含んでなる金属基複合材料の製造方法である。 - 特許庁

To provide a laminated packaging material which has an antistatic function and the same transparency as a usual transparent laminated material using EVOH and is not accompanied by a cost increase, but usable enough on a commercial basis, by a constitution using a metal oxide vapor deposition film and which is more excellent in gas barrier properties, particularly in water vapor barrier properties, than a constitution using the EVOH and is transparent.例文帳に追加

金属酸化物蒸着フィルムを用いた構成で、静電防止作用があり、従来のＥＶＯＨを用いた透明積層材料と同様の透明性を有し、しかもコストが高くならず、商業的にも充分使用可能な積層包装材料を提供することを課題とし、またＥＶＯＨを用いた構成よりも、ガスバリア性、特に水蒸気バリア性が優れた透明な積層包装材料を提供することを課題とする。 - 特許庁

The radiation image converting panel has one or more stimulable phosphor layers on a support, among which at least one is formed by the vapor phase method (called also a vapor phase deposition method) so that its film thickness is 50 μm-10mm, and the stimulable phosphor layers contain 10-1000 ppm alkali metal and alkali earth metal compound, different from the stimulable phosphor which is the major component.例文帳に追加

支持体上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、少なくとも１層の該輝尽性蛍光体層が気相法（気相堆積法ともいう）により５０μｍ〜１０ｍｍの膜厚を有するように形成され、該輝尽性蛍光体層中に主成分である輝尽性蛍光体とは異なるアルカリ金属及びアルカリ土類金属化合物を１０〜１０００ｐｐｍ含有することを特徴とする放射線像変換パネル。 - 特許庁

A precursor (CuxCly) 30 film-deposited by plasma is subjected to reduction with hydrogen while controlling its temperature, a substrate 12 formed with Cu hyperfine particles 29 with a desired and uniform grain size is produced, and chemical vapor phase deposition treatment is applied to produce the Cu hyperfine particles 29 on the substrate 12 having an optional shape.例文帳に追加

プラズマで成膜した前駆体（CuxCly）３０を、温度制御しながら水素還元することで、所望の粒径で、しかも、粒径のそろったCu超超微粒子２９が形成された基板１２を作製し、化学気相堆積処理を適用してCu超超微粒子２９を任意の形状の基板１２に作製する。 - 特許庁

An aluminum oxide vapor deposition layer of aluminum oxide expressed by the general formula of AlOx (X is 1.5-1.7) is formed on a plasma-pretreated layer formed by applying pretreatment by reactive ion etching (RIE) using plasma on at least one surface of a substrate of a plastic material.例文帳に追加

プラスチック材料からなる基材の少なくとも一方の面にプラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）による前処理によって設けられているプラズマ前処理層上に、一般式ＡｌＯｘで表され、Ｘが１．５〜１．７の範囲である酸化アルミニウムからなる酸化アルミニウム蒸着層を設ける。 - 特許庁

The ceramic sintered body 1, mainly composed of non-conductive ceramics and including carbides, nitrides and carbonitrides of tungsten and/or titanium as electrically conductive hard components, is cocated with a ceramic hard film 2 by a physical vapor deposition method to prepare the coated ceramic sintered body by which the cutitng insert 3 is made.例文帳に追加

非導電性セラミックスを主体とし、導電性の硬質成分として、タングステン及び／又はチタンの炭化物、窒化物、炭窒化物を含むセラミック焼結体１に対して、物理蒸着法によってセラミック硬質膜２を被覆して被覆セラミック焼結体を作製し、この被覆セラミック焼結体により切削インサート３を構成する。 - 特許庁

In the heating element 10 for vapor deposition to evaporate the evaporation source 40 of a vacuum device, a resistance heating element part fixed to a power introducing electrode 30 and a resistance heating element part to evaporate the evaporation source are separated from each other and re-coupled by a shock-absorbing structure 1 capable of expanding/contracting these heating elements.例文帳に追加

真空装置の蒸発源４０を蒸発させる蒸着用発熱体１０において、電力導入電極３０に固定される抵抗加熱体部分と蒸発源を蒸発させる抵抗加熱体部分を分離し、これらを伸縮させられることが出来る緩衝構造体１で再結合した。 - 特許庁

To provide a polyester film for a magnetic tape capable of manufacturing an excellent magnetic tape that becomes a lengthy rolled product with excellent wound appearance although a polyester film of more than 25,000 m is slitted and wound, and with few dropout errors over the entire length of the film although the magnetic tape is manufactured with vacuum vapor deposition from the lengthy rolled product.例文帳に追加

２５，０００ｍを超えるポリエステルフィルムをスリットし巻き取っても、巻き姿の良好な長尺ロール製品となり、その長尺ロール製品より、真空蒸着により磁気テープを製造しても全長にわたりドロップアウトの少ない良好な磁気テープが製造できる磁気テープ用ポリエステルフィルムを提供すること。 - 特許庁

In an ionic vapor deposition apparatus comprising an ion source, a duct and a film formation chamber with a set substrate, a mechanism for controlling an ion beam is disposed and ions are made incident intermittently on the substrate with a period of ≥5 sec-1 to release internal pressure remaining in the sample and to relieve internal stress.例文帳に追加

イオン源と、ダクトと、基板の置かれた成膜室とからなるイオン蒸着装置に於いて、イオン流を制御する機構を設け、少なくとも５ｓｅｃ~^1以上の周期で基板にイオンを間欠的に入射させることにより、試料内に残留する内部圧力を開放し、内部応力を緩和できる。 - 特許庁

The method of manufacturing the vacuum container includes the steps of forming the striped non-vapor deposition type getter, fixing the getter on one face of the side wall of the vacuum container, and sealing the vacuum container as the side wall having the getter is directing toward the inside of the vacuum container.例文帳に追加

本発明に係る真空容器の製造方法は、ストライプ状の非蒸着ゲッターを製造する段階と、前記ゲッターを真空容器の側壁の一方の表面に固定する段階と、前記ゲッターが設置された側面を前記真空容器の内部に向けるように前記真空容器を封着する段階と、を含む。 - 特許庁

A method of forming a low dielectric constant interlayer dielectric film on a substrate comprises reacting, under chemical vapor deposition conditions sufficient to deposit the film on the substrate, an organosilicon precursor comprising a silyl ether, a silyl ether oligomer, or an organosilicon compound containing one or more reactive groups, to form an interlayer dielectric film having a dielectric constant of 3.5 or less.例文帳に追加

基材上に膜を成長させるのに十分な化学気相成長条件下で、シリルエーテル、シリルエーテルオリゴマー又は１以上の反応性基を有する有機ケイ素化合物を含む、有機ケイ素前駆物質を反応させて、約３．５以下の誘電率を有する層間絶縁膜を形成する。 - 特許庁

The vapor deposition material contains carbon by 90.00-100.00% at mass ratio.例文帳に追加

正極と、負極と、セパレータと、電解液を有する二次電池において、前記二次電池１が、銅平板に蒸着材料をプラズマ蒸着して形成した正極２と、アルミニウム平板に前記蒸着材料をプラズマ蒸着して形成した負極３を有しており、前記蒸着材料が、質量比で９０．００〜１００．００％のカーボンを含有している。 - 特許庁

The bonding underlayer preferably has a thickness of less than 50 μm and is made by using physical vapor deposition, e.g. by cathode sputtering, to deposit a plurality of individual layers alternately of aluminum and of a metal from the platinum group, and by causing the metals in the resulting layers to react together exothermally.例文帳に追加

結合下地層は、好ましくは５０μｍよりも薄い厚さを有しており、陰極スパッタリング等の物理的蒸着法を使用して、複数のアルミニウム層とプラチナ系金属層とを交互に堆積させるとともに、それによって得られた層中の金属間で発熱反応を引き起こすことによって形成される。 - 特許庁

A film of alumina or silica is applied to this film by vapor deposition to constitute the barrier packaging film.例文帳に追加

回収ポリエチレンテレフタレートを粉砕して得た再生ペットを架橋剤と架橋触媒とにより改質して高分子化した改質ペットに、熱可塑性樹脂を重量割合で８０％：２０％〜３０％：７０％の割合で配合し、フィルム成形により成膜したフィルムに、アルミナ又はシリカの膜を蒸着したバリア包装フィルム。 - 特許庁

An integrated circuit having the mutilayered barrier-metal thin film structure and a substrate is the barrier-metal thin film deposited on the substrate by an atomic layer chemical vapor deposition, and the barrier- metal thin film comprises the barrier-metal thin film including metal nitride and a thin copper film deposited on the barrier-metal thin film.例文帳に追加

本発明の集積回路は、多層バリアメタル薄膜構造を備える集積回路であって、基板と、原子層化学的気相成長のプロセスによって該基板上に堆積されたバリアメタル薄膜であって、バリアメタル薄膜は金属窒化物を含む、バリアメタル薄膜と、バリアメタル薄膜上に堆積された薄い銅膜とを備える。 - 特許庁

The aliphatic polyester film to be used for vapor deposition is the biaxially stretched aliphatic polyester film having at least two layers wherein one layer (layer A) contains an amorphous polylactic acid-based resin and a crystalline polylactic acid-based resin, and the resin mixing ratios in the layers A and B have a predetermined relation with each other.例文帳に追加

少なくとも２層からなる２軸延伸された脂肪族ポリエステルフィルムであり、一方の層（Ａ層）は、非晶性ポリ乳酸系樹脂及び結晶性ポリ乳酸系樹脂を含有し、Ａ層中及びＢ層中の各樹脂の混合割合は、所定の関係を有する蒸着用脂肪族ポリエステルフィルムを用いる。 - 特許庁

A carbon feed gas such as methane, ethylene or acetylene and hydrogen gas are used as introduction gases and carbon nanotubes are oriented in the perpendicular direction relatively to the substrate surface and prepared on the substrate surface of Ni, Fe, Co or an alloy composed of at least two kinds of the metals thereof by a plasma chemical vapor deposition(CVD) method.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法により、メタン、エチレン、アセチレン等の炭素供給ガスと水素ガスとを導入ガスとして用い、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ又はこれらの金属の少なくとも２種類からなる合金の基板表面上に、カーボンナノチューブを基板表面に対して垂直方向に配向させて作製する。 - 特許庁

The electrode material composite is formed by attaching the metal fine particles to the carbon fibers by electroplating, a solution impregnation method, a vapor deposition method, or optional combination these methods, and the fuel electrode is formed with the obtained electrode material composite, and then sintered in an inert atmosphere or a reducing atmosphere.例文帳に追加

電気メッキ、溶液含浸法又は蒸着法及びこれらの任意の組合せに係る方法により、炭素繊維に金属微粒子を被着させて電極材料複合体を形成し、次いで、得られた電極材料複合体を用いて燃料極を成形し、不活性雰囲気又は還元性雰囲気中で焼結させる。 - 特許庁

Accordingly, in the method for manufacturing the SiC coated graphite member where SiC is deposited on the graphite base material by chemical vapor deposition(CVD), source gas of ordinary composition is uniformly supplied to the graphite base material, while source gas enriched in gaseous hydrocarbon as a carbon source is supplied from the vicinity of the graphite base material.例文帳に追加

このために化学気相蒸着法（ＣＶＤ法）によって黒鉛基材にＳｉＣを被覆したＳｉＣ黒鉛部材の製法において、黒鉛基材に対し通常組成の原料ガスを均一に供給する一方で、黒鉛基材の近傍から炭素源の炭化水素ガスリッチな原料ガスを供給する。 - 特許庁

The substrate holder includes a re-usable base which is at least partly formed of a ferromagnetic material to be attracted by the magnetic latch, and a disposable cover which is relatively inexpensive, and ferromagnetic, formed of easily formable material, capable of promoting deposition of a coating material, and low in the vapor pressure at the coating temperature.例文帳に追加

この基板ホルダは、磁気ラッチに引きつけられる強磁性材料で少なくとも部分的にできている再利用可能なベースと、比較的安価で、強磁性で、容易に成形可能な材料でできており、コーティング材料の付着を促進し、コーティング温度での蒸気圧が低い使い捨てカバーとを含む。 - 特許庁

Oxygen is doped into a gallium nitride crystal via a non-C-plane surface by using a seed crystal having the non-C-plane surface (an upper surface), supplying material gases including a gallium material, a nitrogen material and oxygen to be doped, and growing the gallium nitride crystal with vapor deposition, while maintaining the non-C-plane surface.例文帳に追加

Ｃ面以外の面を表面（上面）にもつ種結晶を用いて、ガリウム原料と窒素原料とドーピングすべき酸素を含む原料ガスを供給しながらＣ面以外の表面を保ちつつ窒化ガリウム結晶を気相成長させることにより当該表面を通して窒化ガリウム結晶中に酸素をドーピングする。 - 特許庁

The heat transfer film is formed by laminating a antibacterial glassy layer, a printing layer or vapor deposition layer and a heat adhesive layer on a mold releasing base film; and characterised in that the antibacterial glassy layer comprises a high-molecular substance composition obtained by reaction between a silane compound containing amino group and a boron compound, a synthetic resin component and the antibacterial agent.例文帳に追加

離型性のベースフィルムに、抗菌性ガラス質層、印刷層又は蒸着層、熱接着層が積層された熱転写フィルムであって、前記抗菌性ガラス質層がアミノ基を含むシラン化合物とホウ素化合物の反応による高分子物質組成物、合成樹脂成分及び抗菌剤から成ることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a catalyst chemical vapor deposition equipment of such a simple configuration as a shower head is separated from a catalyst supporting part, in which the distance among the shower head, catalyst wire, and substrate can be adjusted as a process optimization condition, equipped with a purging function capable of preventing occurrence of foreign substance at a low temperature part.例文帳に追加

シャワーヘッドと触媒支持部が分離して簡単な構成を持ち、工程最適化条件としてシャワーヘッド、触媒ワイヤ及び基板間の距離調節が可能であり、低温部から発生されうる異物の発生防止が可能になるようにパージング機能が具備された触媒化学気相蒸着装置を提供する。 - 特許庁

The electrolytic capacitor sealing body is used for sealing an electrolytic capacitor and is composed of an elastic rubber body provided with an inorganic thin film, formed by a vapor deposition method in at least a part of a surface of the elastic rubber body which constitutes the sealing body, and the electrolytic capacitor is constituted, using the sealing body.例文帳に追加

電解コンデンサの封口に用いられる封口体であって、封口体を構成する弾性ゴム体の表面の少なくとも一部に気相成長法により形成された無機薄膜を設けた弾性ゴム体からなる電解コンデンサ用封口体及び該封口体を用いた電解コンデンサを構成する。 - 特許庁

To obtain a zirconium complex having a broad temperature range in which the amount of deposited zirconium has no change depending on substrate temperature and which is overlapped to the temperature range having no change in the amount of deposited lead and titanium in preparing a PZT (plumbum zirconate titanate)-based thin film by solution vaporization CVD (chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

溶液気化ＣＶＤ法によるＰＺＴ系薄膜の作製において基板温度に対するジルコニウム堆積量の変化がない温度範囲が広く、かつその温度領域が基板温度に対する鉛、チタン堆積量の変化がない温度範囲と重なる範囲が広いジルコニウム錯体を提供する。 - 特許庁

To obtain a polyester resin composition having a good brightness feeling, a high reflectance and good metal adhesion even when vapor deposition of a photoreflective metal layer is directly carried out on a resin molded product without carrying out undercoating and usable for a photoreflective molded product having heat resistance capable of maintaining the characteristics even during use at high temperatures.例文帳に追加

アンダーコートせずに樹脂成形品に直接光反射金属層を蒸着しても良好な輝度感、高反射率ならびに良好な金属密着性を有し、且つ高温使用下でもこれらの特性を維持できる耐熱性を有した光反射成形品に用いられるポリエステル樹脂組成物を得ること。 - 特許庁

The semiconductor base material comprises: a base material of an amorphous, a polycrystal, a metal or the like; the crystal nucleus of SiGe or Ge formed on the base material by a heat CVD method using a germanium halide and silanes as raw materials; and a Si polycrystal film formed on the crystal nuclei by a vapor phase deposition method.例文帳に追加

また、本発明の半導体基材は、非晶質、多結晶あるいは金属などの基材と、該基材上にハロゲン化ゲルマニウムとシラン類を原料とする熱ＣＶＤ法で形成されたＳｉＧｅあるいはＧｅの結晶核と、該結晶核上に気相堆積法で形成されたＳｉ多結晶膜とを有する。 - 特許庁

To provide a barrier laminated film which has the optimized chemical and physical properties of a metallic oxide vapor deposition layer in order to make it possible to develop a high barrier performance, even when the film is combined with ORMOCER showing the outstanding reproducibility and stability of a coating liquid.例文帳に追加

すでに提案されている塗工液の再現性や安定性に優れるＯＲＭＯＣＥＲと組合せた場合も、高度なバリア性能の発現が可能となるように金属酸化物蒸着層の化学的、物理的性状を最適化したバリア性積層フィルムを提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

A hydrogen-containing amorphous carbon (DLC) film layer is formed on the surface of a probe core material by means of high-frequency plasma chemical vapor deposition method, using a hydrocarbon gas as a source gas to form an electricity-insulating and highly hard protective film layer of a uniform thickness in the microprobe.例文帳に追加

プローブ芯材の表面に、炭化水素ガスをソースガスとして用いた高周波プラズマ化学気相析出法によって水素含有アモルファス状炭素（ＤＬＣ）膜層を形成することにより、電気絶縁性、かつ高硬度性をもった均一な厚さの保護膜層を形成してなるマイクロプローブを実現できる。 - 特許庁

To provide a composite material uniform even in a local region, reduced in the content of an impurity component other than a metal seed being a target component, continuously reduced in flaw from its surface including a different kind of a metal interface to its bottom surface and particularly suitable as a target material of dry process vapor deposition, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

局所領域でも均一であって、目的成分とする金属種以外の不純物成分が少なく、異種金属界面を含む表面から底面まで連続して欠陥の少ない複合材、特にドライプロセス蒸着のターゲット材として好適な複合材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method for forming an atom layer by using a group IV metal precursor which employs N-alkoxy-β-keto iminate for a ligand of a group IV metal and has high reactivity with a reacting gas, along with having thermal-chemical stability in a carrier gas atmosphere, and can be easily removed of the ligand from the metal.例文帳に追加

Ｎ−アルコキシ−β−ケトイミネートをＩＶ族金属の配位子として適用し、移送気体雰囲気中で熱的−化学的安定性を有すると共に反応気体との反応性が大きくて金属からの配位子の除去が容易なＩＶ族金属前駆体を用いた原子層蒸着法を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method for the radiological image transformation panel, a stimulable phosphor layer with a film thickness of 50 μm or more is formed on a support by a vapor phase deposition method and treated by heating.例文帳に追加

支持体上に、膜厚５０μｍ以上の輝尽性蛍光体層を気相堆積法により形成し、加熱処理する放射線画像変換パネルの製造方法において、加熱処理前後の輝尽性蛍光体の輝尽発光波長における透過率が０．５≦Ｔ／Ｔ_0≦１０であることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。 - 特許庁

A glaze layer 2 being a material hardly decomposable by photocatalytic action due to photocatalyst particles is applied to the surface of a tile substrate 1 and an ultraviolet reflecting layer 8 comprising a vapor deposition aluminum powder or magnesia is formed on the glaze layer 2 and a photocatalyst layer is formed on this ultraviolet reflecting layer 8.例文帳に追加

タイル素地１の表面に光触媒粒子による光触媒機能によって分解されにくい材料である釉薬層２が形成され、この釉薬層２の上に蒸着アルミニウム粉末やマグネシア等からなる紫外線反射層８が形成され、この紫外線反射層８の上に光触媒層３が形成されている。 - 特許庁