「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(100ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of manufacturing the catalyst layer for the fuel cell comprises a process of growing a carbonaceous porous material as a carrier of a catalyst layer having a nano-sized structure like carbon nano-wall (CNW), by vapor deposition; and a process of making the catalytic component and/or the electrolyte component to be carried/dispersed on the carrier of the catalyst layer.例文帳に追加

触媒層用担体としてカーボンナノウォール（ＣＮＷ）等のナノサイズ構造を有する炭素系多孔性材料を気相成長させる工程と、触媒成分及び／又は電解質成分を該触媒層用担体上に担持・分散させる工程とを含む燃料電池用触媒層の製造方法。 - 特許庁

To provide a method of producing a plate-shaped precision metal component, e.g. a metal mask such as a vapor deposition mask by which level difference caused by swelling owing to plating does not occur, deterioration in the accuracy of etching is not caused, and a base material is not eroded and thus can be repeatedly reutilized.例文帳に追加

メッキによる盛り上がりによる段差が生じることのない、エッチングの精度悪化を伴わない、母材を侵食することなく繰り返して再利用することが出来る、蒸着マスク等のメタルマスク等のプレート状の精密金属部品の製造方法を提供することが本発明の目的である。 - 特許庁

An organic electroluminescent element 100 has a luminous layer 104 formed by attaching or distributing particles 104b, 104d of the guest material discontinuously and a molecular state in host material layers 104a, 104c, and the attachment of the particles of the guest material is controlled by vapor deposition time.例文帳に追加

発光層１０４が、ホスト材料層１０４ａ、１０４ｃに、ゲスト材料の粒子１０４ｂ、１０４ｄが不連続に分子状に付着若しくは分布してなる構造を有していることを特徴とする有機電界発光素子１００と、蒸着時間によってゲスト材料の粒子の付着を制御する製造方法。 - 特許庁

A transparent electrode 12 is formed in a predetermined shape from a transparent electrode material, such as ITO(indium tin oxide), on the surface of a transparent substrate 10 of glass or resin, etc., and an emission layer made from an organic EL(electroluminescent) material is laminated over the transparent electrode 12 by vacuum thin film formation techniques such as vapor deposition.例文帳に追加

ガラスや樹脂等の透明な基板１０の表面にＩＴＯ等の透明な電極材料により所定の形状となるように透明電極１２を形成し、この透明電極１２に有機ＥＬ材料からなる発光層２２を蒸着等の真空薄膜形成技術により積層する。 - 特許庁

The multilayered molded product comprises at least a thermoplastic polyester layer (A) obtained from a molten polyester after melt polycondensation reaction and a thermoplastic polyester layer (B) with a cyclic trimer content of 8,000 ppm or below, wherein an amorphous carbon vapor deposition layer is laminated to a content contact surface.例文帳に追加

少なくとも、溶融重縮合反応後の溶融物から得られる熱可塑性ポリエステル（Ａ）層と、環状３量体含有量が８０００ｐｐｍ以下の熱可塑性ポリエステル（Ｂ）層とを含む多層成形体であり、内容物接触面にアモルファスカーボン蒸着層が積層されていることを特徴とする多層成形体。 - 特許庁

The method for forming electrical isolation includes a step of forming multiple wiring lines 16 on the surface of the substrate, and that of a primary layer 48 composed of amorphous carbon by PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) method so that air may be filled and air gap may be arranged between adjoining wiring lines under the primary layer 48 on the wiring lines 16.例文帳に追加

複数の配線ライン１６を基板表面の上に形成すること、および前記配線ライン１６の上に、第１層４８の下であって隣りあう配線間には、空気が満たされ空隙を設けるように、非晶質炭素である第１層４８をプラズマ助長化学気相（ＰＥＣＶＤ）により形成すること、を含む。 - 特許庁

A mirror-like film for a reflective plate of a fluorescent lamp is provided where there are laminated a base film 1 comprising a plastic film, a metal vapor-deposition layer 2, a film layer 3 comprising ceramics containing a metal oxide, a reinforcing film layer 6, as required, an adhesive layer 4, and a release paper 5.例文帳に追加

プラスチック製のフィルムからなるベースフィルム１と、ミラー状に形成された金属蒸着層２と、金属酸化物から成るセラミックスを含有する被膜層３と、必要に応じて補強フィルム層６と、接着剤層４と、剥離紙５が積層されてなる蛍光灯の反射板用のミラー状フィルムからなる。 - 特許庁

Firstly, a silicon film having the suitable thickness, is formed on the surface of the steel material in the general film forming method, such as vapor-deposition, spattering, ion-plating and the silicon is diffused into the inner part of the steel material by heating and holding this in the vacuum or in the inert gas atmosphere to form the silicon permeated layer on the surface layer of the steel material.例文帳に追加

先ず、鋼材の表面上に蒸着、スパッタリング、及びイオンプレーティング等の一般的な成膜方法で適切な厚さの珪素皮膜を形成し、これを真空中又は不活性ガス雰囲気中で加熱保持して珪素を鋼材内部へ拡散させ、鋼材の表層部に珪素浸透層を形成する。 - 特許庁

In the rubber composition obtained by formulating a rubber component with fullerenes, the fullerenes are produced by an arc discharge method or CVD (chemical vapor deposition) method and the rubber component includes a rubber component (a) containing at least one kind of heteroatom among nitrogen, tin and silicon in the molecule.例文帳に追加

ゴム成分とフラーレン類とを配合してなるゴム組成物において、該フラーレン類がアーク放電法或いはＣＶＤ（化学蒸着）法により製造されたものであり、該ゴム成分がその分子内に窒素、スズ、及び珪素の内の少なくとも１種のヘテロ原子を含有するゴム成分（ａ）を含むことを特徴とするゴム組成物。 - 特許庁

A deposited semiconductor surface layer is treated and annealed in the alkyl environment of a chemical vapor deposition chamber to passivate the surface layer of a semiconductor, by combining an adhesive alkyl termination chemical object to silicon on the semiconductor surface layer to accelerate the passivation of the surface.例文帳に追加

蒸着した半導体表面層は、表面の脱ヒドロキシル化を促進する目的で、半導体表面層上で、シリコンに付着アルキル終端化学的物体を結合することによって半導体の表面層を不動態化するために、化学蒸着チャンバのアルキル環境内で処理され、焼き鈍される。 - 特許庁

The radiological image conversion panel having a stimulable phosphor layer on a substrate has at least one stimulable phosphor layer, having a thickness of 50-20μm and formed by vapor deposition process, and the substrate is made of an Al base plate coated with an oxide film.例文帳に追加

支持体上に輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルにおいて、少なくとも１層の該輝尽性蛍光体層が気相法により５０μｍ〜２０ｍｍの膜厚を有するように形成され、該支持体が酸化被膜形成処理されたＡｌ基板にて形成されていることを特徴とする放射線像変換パネル。 - 特許庁

After the temperature of the reforming reaction zone 1 attains to the carbon deposition temperature T3 or above, during temperature up of the temperatures of the reforming reaction zone 1 and the conversion reaction zone 2 to respective predetermined reaction temperatures T4, T5, a gaseous mixture of raw fuel gas and water vapor is supplied to the reforming reaction zone 1.例文帳に追加

改質反応部１の温度が炭素析出温度Ｔ３以上となった後、改質反応部１と変成反応部２の温度をそれぞれ所定の反応温度Ｔ４，Ｔ５まで昇温する間は、前記改質反応部１に原燃料ガスと水蒸気との混合ガスを供給する。 - 特許庁

This waterproof rubber packing is obtained by coating the surface of the waterproof rubber packing with a polyparaxylilene membrane having an aromatic ring in its molecule by using a chemical vapor deposition method for reducing the gas permeability such as steam, etc., widely improving its chemical resistance and heat resistance, and capable of maintaining an excellent waterproof property for a long period.例文帳に追加

防水ゴムパッキン表面を、化学蒸着法により、分子内に芳香環を含有するポリパラキシリレン膜をコーティングすることで、水蒸気などのガスの透過性が低減し、さらに耐薬品性および耐熱性が格段に向上し、優れた防水性を長期間維持する防水ゴムパッキンを提供することができる。 - 特許庁

The method for forming the hard carbon nitride film on the surface of a material to be treated comprises heating and sublimating raw material hydrocarbons by utilizing a hollow cathode discharge within a process chamber while introducing nitrogen gas into the process chamber and forming the hard carbon nitride film by vapor deposition on the surface of the material to be treated.例文帳に追加

被処理材の表面に硬質窒化炭素膜を形成するための方法であって、処理室内において、窒素ガスを導入しながら、原料炭素類をホローカソード放電を利用して加熱、昇華させ、前記被処理材の表面に硬質窒化炭素膜を蒸着形成することを特徴とする。 - 特許庁

To prevent a polymer film from floating from a cooling roll and from receiving a thermal damage by radiation heat from a molten metallic magnetic material even if there is a power source off by an abnormal discharge specific to an electron gun relating to the manufacture of a magnetic recording medium by vacuum vapor deposition.例文帳に追加

真空蒸着による磁気記録媒体の製造に関するものであって、電子銃特有の異常放電によって電源ＯＦＦがあっても、高分子フィルムが冷却ロールから浮き上がらないようにし、溶融した金属磁性材料からの輻射熱による熱的ダメージを受けないようにすること。 - 特許庁

When forming a superconducting oxide layer on a metal tape by using a vapor deposition method like a laser evaporation method (PLD method), if the tape is conveyed with a speed of not less than 5m/h, and a distance between the tape and a target on which the oxide is to be formed is 100 mm or less, a large critical current density can be obtained.例文帳に追加

レーザー蒸着法（ＰＬＤ法）等の気相法を用いて、金属テープに酸化物超電導層を製造する時に、前記テープの搬送速度が、５ｍ／ｈ以上であり、該テープと酸化物作成用ターゲットとの距離が、１００ｍｍ以下であると、大きい臨界電流密度を得られる。 - 特許庁

The bond magnet is produced, with which after surface-coating with aluminum film having 0.005-2μm film thickness on the HDDR magnet powder having 50-150μm average grain diameter with physical vapor-deposition method, this powder applying the heat treatment at 450-600°C and thermoplastic resin, are kneaded, and heated and molded in the magnetic field.例文帳に追加

平均粒子径が５０〜１５０μmのＨＤＤＲ磁石粉末に物理蒸着法により０．００５〜２μmの膜厚のアルミニウム被膜で表面被覆した後、４５０℃〜６００℃で熱処理を行った粉末と、その粉末と熱可塑性樹脂を混練し磁界中で加熱成形し製造されたボンド磁石。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin composition that can be used in a microwave oven, is not restricted to use in food applications and can easily and inexpensively produce a molded product such as a light shielding film of heat reflecting capability, because of no need for an equipment for metal vapor deposition such as aluminum and avoidance of cost elevation due to increasing steps.例文帳に追加

アルミ等の金属蒸着のために設備が必要であったり工程の増加によるコスト上昇を避け、電子レンジでの使用が可能で、食品用途でも使用が制限されない、容易に且つ安価に熱線反射性能が発揮される遮光性フィルム等成形品が得られる、熱可塑性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

This method for producing a III group metal nitride thin film comprises carrying out chemical vapor deposition of activated nitrogen atom, especially activated nitrogen atom generated by dielectric barrier discharge and one or more kinds of organometallic compounds of III group metals on a substrate heated to 700°C to 1,000 which is a temperature lower than that in conventional MOCVS method.例文帳に追加

化学蒸着反応器内で、活性化窒素原子、特に誘電体障壁放電により発生させた活性化窒素原子およびIII族金属の有機金属化合物１種以上を、従来のＭＯＣＶＤ法におけるよりも低温の７００℃〜１，０００℃に加熱した基板上に化学蒸着させる製造方法である。 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition device provided with a clean ing means capable of importantly removing reaction products deposited on a gas dispersion board and capable of reducing the frequency of wet cleaning for the gas dispersion board executed per film formation of the prescribed number and remarkably improving the working ratio of the device.例文帳に追加

ガス分散板に堆積する反応生成物を重点的に除去することができるクリーニング手段を設け、所定枚数の成膜ごとに行っているガス分散板のウエットクリーニングの回数を減少させ、装置の稼働率を大幅に向上させることができる化学的気相成長装置を提供すること。 - 特許庁

In the gas phase synthesis of diamond by a heat filament CVD (chemical vapor deposition) process, a plurality of gas introduction ports 46, 47 are provided, hydrogen and oxygen 48 are introduced from the other gas introduction port 47 far from a sample 3 and a filament 2, and a carbon-containing gas 45 such as methane is introduced from the first gas introduction ports 46 near the sample or the like.例文帳に追加

熱フィラメントＣＶＤ法でのダイヤモンドの気相合成において、複数のガス導入口４６，４７を設け、試料３及びフィラメント２から遠い他のガス導入口４７より水素及び酸素を導入４８し、試料等に近い第一のガス導入口４６よりメタン等炭素を含むガス４５を導入する。 - 特許庁

This vapor deposition apparatus comprises: a first viewport 40 arranged at a position facing the substrate 28 to be treated; a second viewport 60; and a masking shield 39 which is arranged so as to be movable on a way between a state of intercepting a way between the substrate 28 and the first viewport 40 and a state of opening the way, and is provided with a mirror surface.例文帳に追加

被処理基板２８に対向する位置に配設された第１のビューポート４０と、第２のビューポート６０と、被処理基板２８と第１のビューポート４０との間を遮蔽する状態と遮蔽しない状態との間を移動可能に配設され、鏡面を有する遮蔽板３９とを備えている。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser bar fixing tool capable of reliably depositing a reflective film to an end part in the longitudinal direction of a laser bar while performing vapor deposition of a large number of laser bars at the same time without any damage or deformation by holding each laser bar by one fixing tool even when the lengths of a plurality of laser bars are different from each other.例文帳に追加

複数のレーザーバーの長さが異なっても一つの固定用治具で各レーザーバーを保持して、損傷、変形が起こることなく一度に多数のレーザーバーの蒸着が行えながら、レーザーバーの長手方向端部まで確実に反射膜が形成できる半導体レーザーバーの固定用治具を提供する。 - 特許庁

In the electron beam vapor deposition system provided with a pierce type electron gun, sensors for catching electrons sprung from or result from electron beams are installed in the vicinities of beam paths, and electric current and/or voltage based on the electrons caught by the sensors is detected, thus the state of the beam is monitored.例文帳に追加

本発明の電子ビーム蒸着装置は、電子ビームに起因乃至由来する電子を捕捉するためのセンサがビームパスの近傍に設置され、センサによって捕捉された電子に基づく電流および／または電圧を検出することで、ビーム状態をモニタするようにしたピアス式電子銃を備えてなることを特徴とする。 - 特許庁

The liquid crystal panel comprises a pair of substrates (10, 30) opposing to each other and laminated with a sealing material (40), wherein a vapor deposition film (16) is disposed on at least one substrate of the pair of substrates, and a projection (38) is laid in a part where the sealing material (40) is disposed on the one substrate.例文帳に追加

一対の基板（１０，３０）を対向してシール材（４０）を介して貼り合わせた液晶パネルであって、前記一対の基板のうち、少なくとも一方の基板には蒸着膜（１６）が配置されており、前記一方の基板上における前記シール材（４０）が配置されている部位には突起（３８）を設けた。 - 特許庁

In a method for manufacturing an organic EL display device, an organic compound layer is formed by vapor deposition after a layer used for patterning the organic compound layer has been formed, and thereby, the organic compound layer such as a luminous layer is formed at a uniform film thickness without being affected by the surface tension at a side face of the layer used for patterning the organic compound layer.例文帳に追加

有機化合物層をパターニングするための層を設けた後は、有機化合物層を蒸着法により形成することで、有機化合物層をパターニングするための層の側面部の表面張力の影響を受けずに、均一な膜厚で発光層などの有機化合物層を形成する。 - 特許庁

The packaging laminate is constituted by integrally stacking at least an inorganic vapor deposition thin film layer and an inorganic filler-containing resin thin film layer 5 between a plastic base material 2 for an inner layer and a plastic base material 1 for an outer layer so that the inorganic filler-containing resin thin film layer 5 is positioned on the side of the plastic base material for the outer layer.例文帳に追加

少なくとも無機蒸着薄膜層と無機フィラー含有の樹脂薄膜層とが内層用のプラスチック基材と外装用のプラスチック基材との間に前記無機フィラー含有の樹脂薄膜層が前記外装用のプラスチック基材側に位置するように積層、一体化されていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor element for lowering contact resistance, improving the leakage current characteristic of a junction part and manufacturing an ultrahigh integrated semiconductor element by increasing the thickness of Ti vapor deposition and making Si atom consumption in the junction part to be minimum.例文帳に追加

ＴｉＳｉ_2層の形成時、Ｔｉ蒸着厚さを厚くし且つ接合部内のＳｉ原子消耗を最小化することにより、コンタクト抵抗を低め接合部の漏洩電流特性を向上させて超高集積半導体素子の製造を実現することができる半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A magnetic layer 2 having a ferromagnetic metal thin film having film thickness of 100 nm or less is formed at a main plane of a non-magnetic supporter of long-length, a protective layer 3 containing carbon formed by the chemical vapor deposition utilizing an ion source including the hollow cathode is formed on its upper layer.例文帳に追加

長尺状の非磁性支持体１の一主面に、１００ｎｍ以下の膜厚を有する強磁性金属薄膜を有する磁性層２が形成され、その上層に、ホローカソードを含むイオン源を利用する化学気相成長法により形成された炭素を含有する保護層３が形成された構成の磁気記録媒体とする。 - 特許庁

In this method of manufacturing the radiation image conversion panel having at least one photostimulable phosphor layer formed on a support by a vapor phase deposition method, at least one photostimulable phosphor layer is formed through a process for heating one face of the support while cooling the other face of the support, in applying the vapor flow including the photostimulable phosphor material to the support.例文帳に追加

支持体上に、気相堆積法により形成された、少なくとも１層の輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルの作製方法において、輝尽性蛍光体原料を含む蒸気流を該支持体に入射する時に、前記支持体の一方の面を加熱しながら、且つ、前記支持体のもう一方の面を冷却する工程を経て、該輝尽性蛍光体層の少なくとも１層が形成されることを特徴とする放射線画像変換パネルの作製方法。 - 特許庁

When a distance between a vapor deposition source for forming the organic layer and a surface of the luminescent layer is defined as L(cm), the vapor deposition of the organic layer is performed under a condition satisfying 2.0≤Tb/L^2≤80.例文帳に追加

陽極、発光層、発光層に隣接する有機層、陰極をこの順に含む有機電界発光素子の作製方法であって、 前記発光層上への前記有機層の蒸着による形成に際し、 前記有機層を構成する成分のうち、１×１０^−２Ｐａにおける昇華開始温度が最も高い成分について、その昇華開始温度Ｔｂ（℃）が、前記発光層に最も多く含まれる成分のガラス転移温度をＴｅｍ（℃）とした時に、０．６０≧Ｔｅｍ／Ｔｂ≧０．３０を満足し、 前記有機層を製膜する際の蒸着源と前記発光層の表面との距離をＬ（ｃｍ）とした時、２．０≦Ｔｂ／Ｌ^２≦８０を満足する条件にて、前記有機層の蒸着を行うことを特徴とする有機電界発光素子の作製方法。 - 特許庁

The method comprises the step of forming an SiO_2 film of a substrate having a photocatalytic film on the surface by chemical vapor deposition with a raw material gas containing a monosilane and an alcohol to obtain a substrate fitted with a hydrophilic film and having the TiO_2 film and the SiO_2 film on the substrate in the given order.例文帳に追加

表面に光触媒性のＴｉＯ_２膜を有する基板の前記ＴｉＯ_２膜上に、モノシランおよびアルコールを含有する原料ガスを用いて、化学蒸着法によりＳｉＯ_２膜を形成させて、基板上にＴｉＯ_２膜およびＳｉＯ_２膜をこの順に有する親水膜付き基板を得る工程を具備する、親水膜付き基板の製造方法。 - 特許庁

The organic EL element sealing film 11 has a vapor deposition membrane 13 of silicon oxide or aluminum on the surface of a gas barrier resin film 12 and is laminated with a moisture absorption resin film 14 having dispersed moisture absorbent on its rear surface, and an adhesive layer 15 is provided on the surface of this moisture absorption resin film.例文帳に追加

本発明による有機ＥＬ素子用封止用フィルム１１は、ガスバリヤ性樹脂フィルム１２の表面にケイ素酸化物又はアルミニウムの蒸着膜１３を有せしめると共に、裏面に吸湿剤を分散させた吸湿性樹脂フィルム１４を積層し、この吸湿性樹脂フィルムの表面に接着剤層１５を有せしめてなることを特徴とする。 - 特許庁

The advanced encryption standard (AES) analyzing apparatus comprises an electron gun 4 for emitting a specific electron beam against the insulating material sample 10, an electron energy analyzer 5 for analyzing the energy of an Auger electron emitted from the sample 10 and a vapor deposition source 6 for forming a lithium conductive film on the sample 10.例文帳に追加

本発明のＡＥＳ分析装置は、真空槽２内に、絶縁性試料１０に対して所定の電子ビームを照射するための電子銃４と、絶縁性試料１０から放出されたオージェ電子のエネルギーを分析する電子エネルギー分析器５と、絶縁性試料１０に対してリチウム導電膜を形成するための蒸着源６とを有する。 - 特許庁

By this method for depositing a thin film on a supporting body 20 by performing vacuum vapor deposition, a reactive gas is introduced using a nozzle 40 composed of an assembly of a plurality of thin tubes, the heated reactive gas is introduced to the part for depositing the thin film as an assembly of divided gas flux.例文帳に追加

反応性ガスを導入しながら真空蒸着を行なうことにより支持体２０上に薄膜を製造する方法であって、複数の細管の集合体からなるノズル４０を用い、加熱された前記反応性ガスを分割されたガス流束の集合体として前記反応性ガスを前記薄膜の形成部分へ導入する。 - 特許庁

To reduce wear of a high-sensitivity magnetoresistance effect type magnetic head capable of obtaining high sliding durability without generating magnetic spacing loss and increasing the capacity, in a magnetic tape in which a carbon protective film 3 is formed on a metal magnetic film 2 on a nonmagnetic support body, by a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

非磁性支持体上の金属磁性膜２に、化学的気相成長法によってカーボン保護膜３を形成した磁気テープにおいて、磁気的スペーシング損失を発生させることなく高耐摺動性が得られるとともに、高容量化が実現できる感度の高い磁気抵抗効果型の磁気ヘッドの摩耗を軽減することができるようにする。 - 特許庁

The polymiide multilayer endless belt that is useful as the intermediate transfer member for the image forming apparatus includes: (A) a substrate layer made from polyimide, whose surface is activated by a physical activating means; and a surface layer made of a polyimide thin film formed on the surface of the substrate layer by a vapor deposition polymerization of pyromellitic anhydride and diamine.例文帳に追加

（イ）表面が物理的活性化手段によって活性化されたポリイミドで構成される基体層と、（ロ）該基体層の表面に無水ピロメリット酸及びジアミンの蒸着重合によって形成されたポリイミド薄膜で構成される表面層と、を有する画像形成装置用の中間転写体として有用なポリイミド多層無端ベルトとする。 - 特許庁

The production method for the carbon composition material for the reducing atmosphere furnace is carried out by using metal Ta as a target material and the reactive gas containing C and forming the tantalum carbide coating film on the graphite substrate having the above thermal expansion coefficient as the characteristic value by an arc ion plating (AIP) type reactive vapor deposition method.例文帳に追加

また、本発明の還元性雰囲気炉用炭素複合材料の製造方法は、ターゲット材としての金属Ｔａ及びＣを含む反応ガスを使用してアークイオンプレーティング（ＡＩＰ）式反応性蒸着法により上記の熱膨張係数を特性値として有する黒鉛基材の表面に炭化タンタルの皮膜を形成する。 - 特許庁

Of radiological image conversion panels having a photostimulable phosphor layer containing alkali metal halide based phosphors prepared by the vapor-phase deposition method on a supporting medium, the radiological image conversion panel is characterized by indicating 1.0 to 1.5 of alkali/halaide ratio in surface elementary composition of the alkali metal halide based phosphors concerned.例文帳に追加

支持体上に気相堆積法により設けられたアルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体を含有する輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、該アルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体の表面元素組成におけるアルカリ／ハライド比率が１．０〜１．５であることを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁

To provide electrode structure for a piezoelectric vibration element and a frequency adjusting method which never uses a precise and expensive mask and unnecessitates the element value adjustment of each circuit element after incorporating it in an oscillation circuit in the case of adjusting a resonance frequency by a method of adding mass to one exciting electrode by a vapor deposition device.例文帳に追加

蒸着装置により一方の励振電極に質量を付加する手法によって共振周波数を調整する際に、高精度で高価なマスクを使用することなく、また発振回路に組み込んだ後での各回路素子の素子値調整も不要な圧電振動素子の電極構造及び周波周調整方法を提供する。 - 特許庁

In particular, a skin of biocompatible metal is formed on a polymer foam by low temperature arc vapor deposition, the polymer foam and the metal skin are heated above the decomposition temperature of the polymer foam in an inert gas atmosphere, and the polymer foam is decomposed to obtain an unsintered metal foam.例文帳に追加

具体的に、ポリマー発泡体に生物学的適合性を有する金属の薄膜を低温アーク蒸着法によって形成し、ポリマー発泡体と金属薄膜を不活性雰囲気内においてポリマー発泡体の分解温度よりも高い温度に加熱することによってポリマー発泡体を分解し、未焼結金属発泡体を作製する。 - 特許庁

This metal vapor deposition apparatus comprises an evaporation part 1 for sequentially evaporating a metallic wire rod 5 of a predetermined dimension in a case C of a vacuum state, and a supplying part 2 for sequentially supplying the metallic wire rod 5 to the evaporation part 1, while forming the metallic wire rod 5 by cutting a wire-shaped raw material 6 into the predetermined dimension in the case C of the vacuum state.例文帳に追加

真空状態のケーシングＣ内で所定寸法の金属線材５を順次蒸発させる蒸発部１と、真空状態のケーシングＣ内において線材状の素材６を所定寸法に切断して金属線材５を形成しながら蒸発部１に金属線材５を順次供給する供給部２と、を備えている。 - 特許庁

This repair method for corrosion-proof coating of the steel structure is characterized in that a resin sheet or a resin sheet with an inorganic layer of metallic foil, metal vapor deposition, or the like is bonded to a defect part through an adhesive sheet when a defect such as a hit mark of a corrosion-proof coating occurs in the corrosion-proof coating of the steel structure installed underwater.例文帳に追加

水中に設置された鉄鋼構造物の防食被覆に、防食皮膜の打痕等の欠陥が生じた際に、粘着シートを介して、樹脂シート、又は、金属箔あるいは金属蒸着等の無機物層を有する樹脂シートをこの欠陥部位に接着することを特徴とする鉄鋼構造物の防食被覆の補修方法である。 - 特許庁

The main control unit 80 fluctuates an amount of supply of the atmosphere gas from an atmosphere gas supply source 106 in a direction where the pressure fluctuation within the vacuum chamber 10 due to the evaporation of the vapor deposition material or the introduction of a process gas is mitigated during the course of the changeover of the heating state between the film-forming state and the non film-forming state.例文帳に追加

そして、主制御装置８０は、成膜状態と非成膜状態との間における加熱状態の切り替え途上において、蒸着材料の蒸発やプロセスガスの導入による真空チャンバ１０内の圧力変動を緩和する方向に、雰囲気ガス供給源１０６からの雰囲気ガスの供給量を変動させる。 - 特許庁

In the radiation image conversion panel having a stimulable phosphor layer on a support, at least one layer of the stimulable phosphor layer is formed with a gas phase method (also referred to vapor phase deposition method) and a contact layer having SiOx (x=1.3 to 1.7) is provided in between the stimulable phosphor layer and the support.例文帳に追加

支持体上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、少なくとも１層の輝尽性蛍光体層が気相法（気相堆積法ともいう）により形成され、該輝尽性蛍光体層と支持体との間にＳｉＯｘ（ｘ＝１．３〜１．７）を有する接着層を有することを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁