例文 (999件) |
process of inspectionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1060件
In the second inspection process, brightness data of the isolated peculiar pixels is removed from the image data and close-packed peculiar pixels consisting of a set of several peculiar pixels is detected.例文帳に追加
第2検査工程では、画像データから孤立特異画素の輝度データが除去され、いくつかの特異画素の集合からなる密集特異画素が検出される。 - 特許庁
RECORDING MEDIUM, RECORDING METHOD, DEVICE AND PROGRAM OF INSPECTION RESULT IN MANUFACTURING PROCESS OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体装置の製造工程中の検査結果の分析方法、分析装置、分析プログラム及び分析プログラムを記録した記録媒体並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁
To permit high-precision inspection by extracting candidate areas through the differentiating process of minimum spatial filters and discriminating color unevenness on the basis of image data of the areas before differentiation.例文帳に追加
最小限の空間フィルタによる微分処理で候補領域を抽出し、該領域の微分前の画像データを基に色ムラを判定し、高精度で検査できるようにする。 - 特許庁
To distinguish easily the deteriorated portion of quality in a packaging substrate and the cause of deterioration of the quality, even when the process for inspection is limited.例文帳に追加
検査を実行する工程が限定される場合でも、部品実装基板に品質が低下している部位やその品質の低下の原因を容易に判別できるようにする。 - 特許庁
(5) The Minister of Land, Infrastructure, Transport and Tourism may, notwithstanding the provisions of the preceding paragraph, omit a part of the inspection for the design or manufacturing process concerning the aircraft listed below. 例文帳に追加
5 前項の規定にかかわらず、国土交通大臣は、次に掲げる航空機については、設計又は製造過程について検査の一部を行わないことができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
To provide a sound-proof chamber for product evaluation capable of enhancing detection ability of a sound-proof chamber for sound evaluation in a production line, and capable of automating an inspection process.例文帳に追加
製品生産ラインでの音評価用の防音室の検出力向上、並びに検査工程の自動化を図った、製品評価用防音室を提供する。 - 特許庁
This method of processing a sample for inspection in inspecting the quality of the semiconductor crystal includes at least an automatic cleaning process 400 for automatically cleaning the sample for inspection, and an automatic heat treatment process 500 for automatically performing the heat treatment to the cleaned sample for inspection.例文帳に追加
半導体結晶の品質を検査する際の検査用サンプルを処理する方法であって、少なくとも、前記検査用サンプルを自動的に洗浄する自動洗浄工程400と、該洗浄された検査用サンプルを自動的に熱処理する自動熱処理工程500とを含むことを特徴とする半導体結晶検査用サンプルの自動処理方法。 - 特許庁
Between a first welding process and a second welding process, the spot welding automatic inspection device 20 performs inspection of a welded position welded by a spot welding machine 3 by the welding inspection machine 21 so as to determine the quality of welding, and carries out rewelding to the welded position in which the determination result is negative by the recovery welding machine 22.例文帳に追加
スポット溶接自動検査装置20は、第一溶接工程と第二溶接工程との間において、溶接検査機21によりスポット溶接機3により溶接された溶接位置の検査を行い溶接の良否を判定するとともに、判定結果が否である溶接位置に対してリカバリ溶接機22による再溶接を実施する。 - 特許庁
To provide: an inspection method capable of specifying the portion where junction leak defect is occurred, by irradiating a semiconductor device with an electron beam at a predetermined interval a plurality of times, and optimizing conditions of junction forming process by carrying out the inspection using wafer under a semiconductor manufacturing process; a device; and the method of manufacturing the semiconductor.例文帳に追加
半導体装置に電子線を所定の間隔で複数回照射して、接合リーク不良発生箇所を特定でき、半導体製造工程途中のウエハで本検査を実行することにより接合形成プロセス条件の最適化を行うことができる検査方法及び装置、半導体の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide the analyzing method of result of inspection in the manufacturing process of the semiconductor device, which predicts quality of chips with high accuracy, based on the result of inspection of a defect, an analyzing device, an analyzing program, a recording medium for recording the analyzing program and the manufacturing method of the semiconductor device.例文帳に追加
欠陥の検出結果に基づいてチップの良/不良を高い精度で予測することができる半導体装置の製造工程中の検査結果の分析方法、分析装置、分析プログラム及び分析プログラムを記録した記録媒体並びに半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To laminate a wafer electrode and a contact by facilitating alignment of the wafer electrode and a contact probe stably over a long term even in a production process employing a large number of inspection boards and a large number of alignment devices when inspection of wafers is conducted in a block.例文帳に追加
ウエハ一括での検査を行う場合に、多数の検査ボード、多数のアライメント装置を用いる生産工程であっても、長期的に安定してウエハ電極とコンタクトプローブの位置合わせを容易に行いコンタクトと貼り合わせることを目的とする。 - 特許庁
To facilitate management of a manufacturing process by supplying inspection data capable of inspecting the electrical characteristics of a TFT formed on the same substrate and the formation defect of a contact hole provided on a transparent organic insulating film to an inspection apparatus.例文帳に追加
同一基板上に形成されたTFTの電気的特性及び透明有機絶縁膜に設けられたコンタクトホールの形成不良を検査可能な検査データを検査装置に供給し、製造プロセスの管理を容易にすることを課題とする。 - 特許庁
The method comprises steps of receiving the occurrence of a failure in each process from the receipt of a part to the shipping thereof; and setting, for a part for which the occurrence of the failure is received, a stop plug for this part in an inspection reference master storing inspection results.例文帳に追加
部品を受け入れてから出荷するまでの各工程で障害の発生を受け付けるステップと、障害の発生を受け付けた部品について、検査結果を保存する検査基準マスタ中の部品のストップフラグをセットするステップとを有する。 - 特許庁
To make a condition set efficiently, to shorten an inspection time, and to enhance reliability of inspection, in a circuit pattern inspection device for inspecting a defect, a foreign matter, a residue or the like in the same design pattern of a semiconductor device on a wafer under a production process for the semiconductor device, by an electron beam.例文帳に追加
半導体装置の製造過程にあるウェハ上の半導体装置の同一設計パターンの欠陥,異物,残渣等を電子線により検査する回路パターン検査装置において、条件設定の効率、検査時間の短縮及び検査の信頼性を向上する。 - 特許庁
To provide an inspection apparatus which has a structure preventing a fracture of a semiconductor device caused by static electricity, an inspection method using the apparatus, and a method for manufacturing an electro-optical device in electrical characteristics inspection performed in a manufacturing process of electro-optical devices such as a liquid crystal display device.例文帳に追加
電気光学装置の製造工程中に行われる電気特性検査において、静電気による半導体素子の破壊を防止する構造を備えた検査装置、その検査装置を用いた検査方法及び電気光学装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
This alarm 1 detecting abnormality generation in a monitoring area to issue an alarm has: an inspection switch 5 operated for starting up prescribed inspection operation in the alarm 1; and an inspection processing part for performing a prescribed process for executing the inspection operation and prescribed operation except the inspection operation according to a method of operation when the inspection switch 5 is operated.例文帳に追加
監視領域における異常発生を検出して警報を行う警報器1であって、当該警報器1における所定の点検動作を起動するために操作される点検スイッチ5と、この点検スイッチ5が操作された場合、当該操作の方法に応じて、点検動作と、当該点検動作以外の所定の動作とを実行するための所定の処理を行う点検処理部とを備える。 - 特許庁
To provide electronic equipment, capable of simplifying the process for inspection and that will not have an inspection program start up carelessly, and an inspection method therefor, as to the electronic equipment having a first substrate, and the second substrate connected to the first substrate and operated in cooperative manner with the first substrate, and to provide the inspection method therefor.例文帳に追加
第1の基板と、第1の基板に接続され、第1の基板と協働して動作する第2の基板とを有する電子機器及びその検査方法に関し、検査のための工程を簡略化でき、かつ、不用意に検査プログラムが起動することがない電子機器及びその検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To enable, in magnetic disk inspection, the total process of inspecting both faces of magnetic disks taken out of a cassette, classifying the disks into grades according to the result of inspection, and returning the classified disks into the cassette to be accomplished in an environment of low dust generation while keeping the throughput high.例文帳に追加
磁気ディスク検査において、カセットから取り出した磁気ディスクの両面を検査し、検査結果に応じたグレード分けをして再びカセットに戻すまでのトータルをスループットを高い状態を維持しつつ、低発塵環境の中で実施することを可能にする。 - 特許庁
The inspection method is constituted so as to inspect the wafer on the way of a processing process and has an analyzing process (step S101) for analyzing the material of foreign matter in the vicinity of the peripheral edge part of the wafer and a judging process (step S102) for judging whether the foreign matter exerts an effect on the processing process on and after the analyzing process.例文帳に追加
本発明に係る検査方法は、加工工程の途中でウェハに対して行う検査方法であって、ウェハの周縁部近傍で異物の材質を分析する分析工程(ステップS101)と、分析工程における分析の結果に基づいて、異物が分析工程以降の加工工程に影響を与えるか否かを判断する判断工程(ステップS102)とを有している。 - 特許庁
In the labeling inspection process, the fluorescence generated by ultraviolet irradiation is captured, and the presence of the label and/or the labeling position is inspected.例文帳に追加
ラベル装着検査工程では、紫外線を照射して発生する蛍光を捉え、ラベルの有無及び/又はラベルの装着位置を検査する。 - 特許庁
To discharge and dry a face cleaning liquid without leaving or splashing the face cleaning liquid in a head including a face cleaning process after shipping inspection during the manufacturing of the head.例文帳に追加
ヘッド製造時に出検後にフェイス洗浄工程を含むヘッドにおいて、フェイス面洗浄液の残留や飛散なく、排出乾燥する。 - 特許庁
To provide a sensor module inspection apparatus or the like for easily measuring the characteristic of each sensor, without requiring an accurate axial alignment process.例文帳に追加
精密な軸合わせの工程を必要とせずに、簡易に個々のセンサの特性を測定することができるセンサモジュール検査装置などを提供する。 - 特許庁
This soldering inspection and this soldering inspection method comprises a cooling process for spraying cooling gas to the solder bonding part, a measuring process for measuring the temperature of the solder bonding part to which the cooling gas is sprayed, and a determination process for determining the quality of the bonding state of the solder bonding part based on the measured temperature of the solder bonding part.例文帳に追加
半田接合部分に冷却気体を吹き付ける冷却工程と、前記冷却気体を吹き付けた半田接合部分の温度を計測する計測工程と、前記計測した半田接合部分の温度に基づいて、前記半田接合部分の接合状態の良・不良を判定する判定工程とを有することを特徴とする半田付け検査及び半田付け検査方法である。 - 特許庁
Owing to such a structure, the resistance value of the thin-film resistance film 5 is measured to conduct the inspection of crack during various stages of a manufacturing process of the semiconductor device.例文帳に追加
このような構成によれば、薄膜抵抗膜5の抵抗値を調べることにより、半導体装置の製造プロセス中の様々な段階においてクラック検査を行うことができる。 - 特許庁
With respect to the substrates whose decision results of the inspection machine of a final soldering process are "good" and "faulty", the histograms of the positional discrepant quantities of the respective components are created which are measured in their positional-discrepant-quantity inspections.例文帳に追加
最終のはんだ付け工程の検査機の判定結果が「良」の基板、「不良」の基板について、それぞれ部品の位置ずれ検査で計測された位置ずれ量のヒストグラムを作成する。 - 特許庁
To provide a defective inspection technique for detecting a shortcircuit and a leakage of a wafer including a pattern of small capacitance as a technique of inspecting the wafer in the mid point of the semiconductor manufacturing process.例文帳に追加
半導体製造工程途中のウエハを検査する技術として、容量の小さいパターンを含むウエハのショートおよびリークを検出する欠陥検査技術を提供する。 - 特許庁
This device can recognize the lot No. or the order of manufacture of a product made on the wafer, the function of the product, the inspection results of the manufacture process and others by reading the ID mark.例文帳に追加
IDマークを読み取ることで、ウェーハに形成された製造物のロット番号もしくは製造順番、製造物の機能、及び製造工程の検査結果などを認識することができる。 - 特許庁
This inspection method has a process for detecting currents which are made to flow through each of the plurality of the pixels 20 respectively by being in contact with common pixel electrode 26 of this active matrix substrate and a process for discriminating defects of the plurality of the pixels 20 on the basis of the detected currents.例文帳に追加
検査方法は、このアクティブマトリクス基板の共通画素電極26にコンタクトして、複数の画素20の各々に流れる電流をそれぞれ検出する工程と、出された電流に基づいて複数の画素20の欠陥を判定する工程とを有する。 - 特許庁
Cleaning and inspection are executed under a state that a probe is fixed by mounting a cleaning unit 11 for removing foreign matters from a probe by means of laser radiation and a work unit 12 for executing an inspection process inside the probe inspection apparatus 1 so that the cleaning unit 11 and the work unit 12 can move.例文帳に追加
プローブ検査装置1の内部に、レーザ照射によってプローブから異物を除去するクリーニングユニット11と検査処理を実行するワークユニット12とを移動可能に設けることでプローブを固定した状態でクリーニングと検査処理とを実行可能とする。 - 特許庁
In the product inspection software 30, a product inspection function 31 acquires the execution time of an executed inspection process, an execution time display function 34 accumulates the execution time in an information storage DB 32, and the accumulated execution time is displayed in a display part 4.例文帳に追加
製品検査ソフトウェア30において、製品検査機能31が、実行した検査工程の実行時間を取得し、その実行時間を実行時間表示機能34が情報蓄積DB32に蓄積し、蓄積された実行時間を表示部4に表示する。 - 特許庁
In the inspection system (50), a nuclear fuel rod manufacturing process (2) may be able to integrate the inspection system (50) for fully or partially automating inspection of all fuel rods (10) produced within a facility for manufacturing the fuel rods.例文帳に追加
検査システム(50)のいくつかの実行において、燃料棒製作施設内で生産された全燃料棒(10)の検査を全自動化または部分的に自動化することにより、核燃料棒製作工程(2)に検査システム(50)を組み入れることが可能となり得る。 - 特許庁
In a manufacturing process of an automaker, or a tire store, a private car inspection site, etc., a comparatively high-pressure carbon dioxide gas prepared beforehand is supplied into the inside of a tire by pressing in a process for expanding tires.例文帳に追加
自動車メーカーの製造工程で、あるいはタイヤ販売店、民間車検場などで、あらかじめ準備された比較的高圧の二酸化炭素ガスを、タイヤをふくらます工程中で、タイヤ内部に圧入する。 - 特許庁
The inspection method of the laminated plate includes a heating process for heating the laminated plate from one side thereof, a photographing process for photographing the other side of the heated laminated plate by an infrared camera and a detection process for detecting the foam present in the laminated plate on the basis of the image photographed by the infrared camera.例文帳に追加
積層板を一面側から加熱する加熱工程と、加熱した積層板の他面側を赤外線カメラにより撮影する撮影工程と、赤外線カメラにより撮影した画像に基づいて積層板の内部に存在する泡を検出する検出工程とを行う。 - 特許庁
To provide a selection method for a driving corrugation for an ink jet device capable of eliminating a process having low work efficiency including measurement of each component and an inspection of printing, or to reduce a time required for the process.例文帳に追加
各部品の寸法測定あるいは印字検査等の作業効率の低い工程を省略し、またはそれらの工程に要する時間を短縮することの出来るインク噴射装置の駆動波形の選択方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for extracting a failure factor in a manufacturing process on the basis of a result of inspection process, which allows a user to quickly acquire the effect of the failure factor improvement before it is performed.例文帳に追加
検査工程の検査結果に基づいて、製造プロセスでの不良要因を抽出する不良要因抽出方法であって、不良要因を改善したときの効果をユーザが事前に迅速に把握できるものを提供すること。 - 特許庁
A pattern inspection device is provided with: an optical image acquiring unit to acquire the optical image of the pattern of an inspection sample; an alignment processing unit to carry out an alignment process including correction processing of the optical image by a reference image; and a comparing unit to compare optical images different from each other subjected to the alignment process.例文帳に追加
被検査試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得部と、光学画像を参照画像により補正処理を含むアライメント処理するアライメント処理部と、アライメント処理部で処理された異なった光学画像同士を比較処理する比較処理部と、を備える、パターン検査装置。 - 特許庁
Next, inspection of areas divided by the grooves 4 in the glass substrate 2 is performed and the birefringent plate 1 is obtained by cutting the glass substrate 2 along the grooves 4 in a cutting process (process ST8).例文帳に追加
次にガラス基板2において溝4で区画された領域の各々について検査した後、切断工程(工程ST8)において溝4に沿ってガラス基板2を切断して複屈折板1を得る。 - 特許庁
The process inspection system includes a data acquisition portion 10, a statistical processor 20 and a process extractor 30, and inspects a plurality of the processes performed by an identical equipment.例文帳に追加
本実施形態に係る工程検査システムは、データ取得部10、統計処理部20および工程抽出部30を備えており、同一設備により実行される複数の工程を検査するシステムである。 - 特許庁
This inspection method of the hollow fibers in the hollow fiber array object 1 includes the process (1) of immersing the hollow fibers in the water dispensed in the wells of a microwell plate 2, the process (2) of introducing water into the hollow parts of the hollow fibers and the process (3) of measuring the amount of the water introduced into the hollow fibers or the amount of the water remaining in the wells.例文帳に追加
中空繊維配列体における中空繊維の検査方法であって、以下の工程;1)マイクロウェルプレートのウェルに分注した水に中空繊維を浸漬する工程、2)前記水を中空繊維の中空部に導入する工程、及び3)中空繊維に導入された水量又はウェルに残存した水量を測定する工程を含む前記方法。 - 特許庁
A first inspection 1 having a plate thickness T2 being equivalent to the allowable maximum value, and a first inspection section C1 having a plate thickness T1 being equivalent to the allowable minimum value of a punch depth, are formed first at the end section of a workpiece 1 in a preliminary process.例文帳に追加
本発明では、先ず予備工程でワーク1の端部に、穿孔深さの許容最小値相当の板厚T1をもつ第一検査部C1と、許容最大値相当の板厚T2をもつ第二検査部C2とを形成しておく。 - 特許庁
The method and the system are achieved in such a way that, in the mass production line of the semiconductor production process, the foreign-body inspection apparatus is miniaturized and that the foreign-body inspection apparatus is placed on a conveyance system between the input port and the output port of a treatment device in a semiconductor production line or between treatment devices.例文帳に追加
半導体製造工程の量産ラインにおいて、異物検査装置を小型にし、半導体製造ラインの処理装置の入出力口あるいは処理装置間の搬送系に載置することにより達成される。 - 特許庁
To provide an inspection method and an inspection device for continuously non-contact-inspecting twist, short circuit, and break of each conductor strand directly before a laminate tape covering process of a tape electric wire, and surely conduct quality assurance of a constant size or long size tape electric wire.例文帳に追加
テープ電線のラミネートテープ被覆工程直前において各導体素線のねじれ、短絡、断線を連続して非接触検査し、定寸又は長尺のテープ電線の品質保証が確実に実施できる検査方法と検査装置を提供する。 - 特許庁
To provide an indicating device capable of effecting the operation and performance validation inspection of the whole of indicating device in a process on the way before assembly process, in which a chassis is attached, and when the operation/performance is determined so as to be not proper by the operation and performance validation inspection, a portion of not proper can be repaired in regardless of the chassis.例文帳に追加
筐体が取付けられる組立工程以前の途中の工程で表示装置全体の動作確認及び性能確認検査を行うことができ、動作確認及び性能確認検査により動作/性能が不適正であった場合においても、筐体と関係なく不適正な箇所を修理することができる表示装置を提供する。 - 特許庁
To simply set optimum conditions of precharge to be carried out before inspection of a pattern formed during a semiconductor device manufacturing process to automatically determine whether the precharge is successful and feed back the results to subsequent operations so as to prevent degradation in reliability of inspection results for constantly stable inspection.例文帳に追加
半導体装置製造プロセスで形成されるパターンの検査前に実行されるプリチャージの最適な条件を簡易に設定できるようにし、プリチャージの良否を自動判定し、その後の動作にフィードバックするようにして、検査結果の信頼性の低下を防ぎ、常に安定した検査ができるようにする。 - 特許庁
To provide an external appearance inspection method for a substrate sealed with the resin, which can effectively solve various problems of an external appearance inspection in response to the external appearance inspections with stability using an external appearance inspection mechanism, which externally inspects an anomalous formation and an anomalous external appearance of a resin surface formation of the substrate sealed with the resin by using an image process.例文帳に追加
樹脂封止済基板の樹脂成形体表面の成形不良や外観不良を画像処理して外観検査する外観検査機構において、安定して外観検査すると共に、外観検査上の諸問題を効率良く解決する、樹脂封止済基板の外観検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a visual inspection apparatus capable of imaging the respective parts of an imaging region at once with a proper quantity of light during an inspection of appearance defectiveness in a PTP sheet manufacturing process and relatively simplifying image processing, and to provide a PTP sheet manufacturing apparatus.例文帳に追加
PTPシートの製造過程における外観不良検査に際し、撮像領域の各部分を適切な光量で一度に撮像可能であり、しかも、撮像処理が比較的簡単な外観検査装置、及び、PTPシートの製造装置を提供する。 - 特許庁
To provide a reticle, an inspection system for an aligner, an inspection method for an aligner, and a method for manufacturing a reticle by which the time required for correcting an optical system can be significantly reduced in the process of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置製造工程において光学系の補正にかかる時間を大幅に短縮することができるレチクル、露光装置検査システム、露光装置検査方法及びレチクルの製造方法を提供する。 - 特許庁
To reduce a burden on a worker at work in an inspection process, complete the inspection and improve quality in a cell production system in which the same worker produces products by a plurality of work processes.例文帳に追加
同一の作業者が複数の作業工程により製品を生産するセル生産システムにおいて、作業中の作業者の検査工程における負担を軽減させると共に、検査の徹底および品質の向上を図る。 - 特許庁
To provide a technology of solving such a problem that there is the case that no acceptable product chips are present on an entire wafer at an early stage of developing a semiconductor since a margin of a process decreases accompanied by the micro-fabrication of the semiconductor and the complexity of the process, it becomes difficult to satisfy conditions in the process, and when fixed point inspection is executed, a suitable reference image for relative inspection cannot be imaged.例文帳に追加
半導体の微細化、プロセスの複雑化に伴いプロセスのマージンは減り、プロセスの条件出しが難しくなっているため半導体の開発初期においてはウェーハ全面において良品チップが存在しない場合があり、定点検査を実行する場合において、比較検査のための適切な基準画像を撮像することができないという課題を解決する技術を提供する。 - 特許庁
To make an inspection of the quality of oxide films using a process monitor correspond to the reliability of the oxide films in a real product and to inspect the quality of the oxide films with a high accuracy by the process monitor to make it possible to raise the reliability of the oxide films.例文帳に追加
プロセスモニターによる検査を実際の製品における酸化膜の信頼性と対応させ、プロセスモニターにより酸化膜の品質を精度よく検査して、その信頼性を向上させることができる半導体装置のプロセスモニター方法を提供する。 - 特許庁
例文 (999件) |
※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
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