「defect inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a display defect inspection device for accurately inspecting defect on the outermost side of a lighting region of a display, and to provide a display defect inspection method, and a display defect inspection program.例文帳に追加

ディスプレイの点灯領域の最も外側においても精度良く欠陥を検出することができる、ディスプレイ欠陥検査装置、ディスプレイ欠陥検査方法、ディスプレイ欠陥検査プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection method and defect inspection device capable of stably detecting a defect occurring on the surface of an inspecting object.例文帳に追加

被検査物の表面上に発生する欠陥を安定して検出することができる欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

The position on which a defect position specified by the non-lighting inspection part is superimposed on a defect position specified by the lighting inspection part is decided as a real defect position.例文帳に追加

非点灯検査部で特定した欠陥位置と点灯検査部で特定した欠陥位置とが重なる位置を真の欠陥位置と判定する。 - 特許庁

To shorten an inspection time by improving an inspection throughput in a surface defect inspection of a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の表面の欠陥検査において検査スループット向上させ、検査時間を短縮する。 - 特許庁

A defect image being not an inspection excluding defect is selected, and the overall defect is detected by discriminating an image on the basis of this defect image.例文帳に追加

検査除外欠陥でない欠陥画像を選択し、これに基づいて画像を判別することによって全体の欠陥を検出する。 - 特許庁

UNEVENNESS DEFECT DETECTION METHOD AND DEVICE, SPATIAL FILTER, UNEVENNESS DEFECT INSPECTION SYSTEM, AND PROGRAM FOR UNEVENNESS DEFECT DETECTION METHOD例文帳に追加

ムラ欠陥検出方法及び装置、空間フィルタ、ムラ欠陥検査システム並びにムラ欠陥検出方法のプログラム - 特許庁

LINE DEFECT INSPECTION METHOD, LINE DEFECT DETECTION DEVICE, LINE DEFECT DETECTION PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM FOR RECORDING PROGRAM例文帳に追加

線欠陥検査方法、線欠陥検出装置、線欠陥検出プログラム、このプログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

To provide a defect classification device for easily predicting a defect occurrence rate, based on defect inspection results.例文帳に追加

欠陥検査結果から不良発生率を容易に予測することが可能な欠陥分類装置を提供すること。 - 特許庁

The defect is searched by using the SEM apparatus based on coordinates of the defect specified by the defect inspection apparatus.例文帳に追加

欠陥検査装置で特定された欠陥の座標に基づき、ＳＥＭ装置を用いて欠陥を探索する。 - 特許庁

To attain a stable inspection for a defect even though sensitivity in the defect inspection is different for every inspection head, in the defect inspection method of a disk storage medium such as a magnetic disk.例文帳に追加

磁気ディスクなどのディスク記憶媒体の欠陥検査方法に関し，検査ヘッドごとのＤｅｆｅｃｔ検出感度に差があっても，安定した欠陥検査を可能にすることを目的とする。 - 特許庁

Further, defect inspection data wherein the defect inspections ensitivity and defect inspection positions are defined for the specific pattern of the mask having a plurality of inspection areas are prepared and photomask inspection is performed according to the data.例文帳に追加

また、複数の検査領域を有するフォトマスクの所定のパターンに対する欠陥検査感度と欠陥検査位置とを定義した欠陥検査データを用意しこのデータに基づいてフォトマスク検査を行う。 - 特許庁

To provide a glass substrate defect inspection device or a glass substrate defect inspection method or a glass substrate defect inspection system attaining accurate inspection by securing flatness over the entire surface of a separated glass substrate.例文帳に追加

分ガラス基板の全面亘って平坦性を確保し、精度よく検査できるガラス基板欠陥検査装置またはガラス基板欠陥検査方法あるいはガラス基板欠陥検査システムを提供する。 - 特許庁

To provide a defect-inspection optical system and a surface-defect inspection apparatus wherein a recess defect and a protrusion defect can be discriminated and inspected with high accuracy regarding an irregular defect on the surface of a face plate.例文帳に追加

面板表面の凹凸欠陥について凹部欠陥と凸部欠陥を精度よく区別して検出することができる欠陥検出光学系および表面欠陥検査装置を提供することにある。 - 特許庁

According to the patterns A and B of the photomask 10, defect inspection is performed with desired inspection sensitivity to enable necessary and sufficient defect inspection.例文帳に追加

フォトマスク１０の各パターンＡ、Ｂに応じて所望の検査感度で欠陥検査をすることにより必要十分な欠陥検査が可能になる。 - 特許庁

To provide a defect inspection device and method to quickly and accurately perform a defect inspection even when inspecting inspection faces of both upper and lower sides of an inspection object.例文帳に追加

検査対象物の上下両側の検査面を検査する場合でも、欠陥検査を迅速に且つ精度良く行うことができる欠陥検査装置及び方法を提供する。 - 特許庁

IMAGE CORRECTION DEVICE, PATTERN INSPECTION DEVICE, IMAGE CORRECTION METHOD, AND PATTERN DEFECT INSPECTION METHOD例文帳に追加

画像補正装置、パターン検査装置、画像補正方法、及び、パターン欠陥検査方法 - 特許庁

To provide an etching defect inspection method of a piezoelectric vibration chip wafer, and an inspection system.例文帳に追加

圧電振動片ウェハのエッチング欠陥検査方法、及び検査システムを提供する。 - 特許庁

COLOR FILTER DEFECT INSPECTION METHOD, INSPECTION APPARATUS, AND COLOR FILTER MANUFACTURING METHOD USING IT例文帳に追加

カラーフィルタ欠陥検査方法、及び検査装置、これを用いたカラーフィルタ製造方法 - 特許庁

IMAGING CONDITION DETERMINATION METHOD FOR PERIODIC PATTERN, DEFECT INSPECTION METHOD, AND DEFECT INSPECTING DEVICE例文帳に追加

周期性パターンの撮像条件決定方法、欠陥検査方法、および欠陥検査装置 - 特許庁

To prevent a pseudo defect due to an alignment defect from being induced in a sample inspection apparatus.例文帳に追加

試料検査装置において、位置合わせ不良による擬似欠陥の誘発を防止する。 - 特許庁

METHOD OF INSPECTING SURFACE DEFECT OF AUTOMOBILE BODY, AND INSPECTION APPARATUS OF SURFACE DEFECT OF THE AUTOMOBILE BODY例文帳に追加

自動車ボディ表面欠陥検査方法、及び自動車ボディ表面欠陥検査装置 - 特許庁

To provide a defect inspection method capable of improving accuracy of defect detection.例文帳に追加

欠陥検出の精度を向上させることのできる欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To re-detect a defect previously detected by a defect inspection device with a high throughput.例文帳に追加

欠陥検査装置により予め検出された欠陥を高いスループットで再検出する。 - 特許庁

In review work, the defect is extracted in a defect extracting part 3 of an appearance inspection device.例文帳に追加

レビュー作業では外観検査装置の欠陥抽出部３で欠陥抽出を行なう。 - 特許庁

Thus, the defect occurrence rate is easily predicted based on the defect inspection results.例文帳に追加

したがって、欠陥検査結果から不良発生率を容易に予測することが可能となる。 - 特許庁

A pattern for defect inspection formed of the circuit pattern and a produced defect of a predetermined dimension is formed on the semiconductor wafer, the pattern for defect inspection is detected, prior to the defect inspection of the circuit pattern, and the inspection sensitivity is adjusted, based on the inspection result.例文帳に追加

半導体ウェーハ上に回路パターンとともに所定寸法の作り込み欠陥からなる欠陥検査用パターンを形成し、該回路パターンの欠陥検査に先立って該欠陥検査用パターンを検出し、その検出結果に基づいて検査感度の調整を行う。 - 特許庁

DEFECT INSPECTION METHOD FOR DISCRETE TRACK TYPE MAGNETIC DISK MEDIUM例文帳に追加

ディスクリート・トラック型磁気ディスク媒体の欠陥検査方法 - 特許庁

ILLUMINATING DEVICE, DEFECT INSPECTION DEVICE USING THE SAME AND DEFECT INSPECTION METHOD, AND HEIGHT MEASURING DEVICE AND HEIGHT MEASURING METHOD例文帳に追加

照明装置並びにそれを用いた欠陥検査装置及びその方法並びに高さ計測装置及びその方法 - 特許庁

DEFECT INSPECTION METHOD AND APPARATUS THEREFOR, AND PRODUCTION METHOD OF MASK例文帳に追加

欠陥検査方法及びその装置、マスクの製造方法 - 特許庁

PROBE NAVIGATION METHOD AND DEVICE AND DEFECT INSPECTION DEVICE例文帳に追加

プローブナビゲーション方法及び装置並びに不良検査装置 - 特許庁

COMMON DEFECT PROCESSING METHOD IN COLOR-FILTER PATTERN INSPECTION MACHINE例文帳に追加

カラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DEFECT INSPECTION FOR PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置 - 特許庁

ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE AND DEFECT INSPECTION METHOD OF THE SAME例文帳に追加

有機発光表示装置及びその欠陥検査方法 - 特許庁

REPETITIVE PATTERN ERASING METHOD, DEFECT INSPECTION METHOD AND DEVICE例文帳に追加

繰り返しパターン消去方法、欠陥検査方法及び装置 - 特許庁

MASK DEFECT INSPECTION METHOD AND MASK DESIGN DATA FORMING METHOD例文帳に追加

マスク欠陥検査方法及びマスク設計データ作成方法 - 特許庁

To provide an inspection apparatus and an inspection method for simultaneously detecting a phase defect and a pattern defect or a foreign substance.例文帳に追加

位相欠陥と、パターン欠陥または異物とを、同時に検出可能な検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

DEFECT INSPECTION METHOD AND DEFECT INSPECTION DEVICE OF MASK SUBSTRATE, MANUFACTURING METHOD OF PHOTO MASK, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスク基板の欠陥検査方法及び欠陥検査装置、フォトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

ADJUSTING METHOD FOR PHOTOGRAPHING TIMING IN SURFACE DEFECT INSPECTION例文帳に追加

表面欠陥検査における撮影タイミングの調整方法 - 特許庁

TFT ARRAY INSPECTION DEVICE AND DEFECT INTENSITY CALCULATION METHOD例文帳に追加

ＴＦＴアレイ検査装置および欠陥強度算出方法 - 特許庁

SURFACE DEFECT INSPECTION DEVICE AND CONTROL PROGRAM RECORDING MEDIUM例文帳に追加

表面欠陥検査装置及び制御プログラム記録媒体 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTION OF SURFACE DEFECT例文帳に追加

表面欠陥検査方法及び表面欠陥検査装置 - 特許庁

SPECIFYING METHOD AND INSPECTION SYSTEM FOR PERIODIC DEFECT OCCURRENCE PART例文帳に追加

周期欠陥発生箇所の特定方法および検査システム - 特許庁

AUTOMATIC WELDING DEFECT DETECTING METHOD IN RADIOGRAPHIC INSPECTION例文帳に追加

放射線透過検査における溶接欠陥自動検出法 - 特許庁

ILLUMINATING DEVICE AND DEFECT INSPECTION DEVICE USING SAME例文帳に追加

照明装置およびこの装置を用いた欠陥検査装置 - 特許庁

METHOD AND PROGRAM FOR DETECTING DEFECT AND INSPECTION APPARATUS例文帳に追加

欠陥検出方法、欠陥検出プログラムおよび検査装置 - 特許庁