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「formation region」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索
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formation regionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1711



例文

A gate insulation film 8 is formed, straddling the surface of a channel formation region 5 and the surface of the N-type epitaxial layer 3 adjacent to the surface of the channel formation region 5 on the N-type epitaxial layer 3.例文帳に追加

N型エピタキシャル層3上には、ゲート絶縁膜8が、チャネル形成領域5の表面およびチャネル形成領域5の表面に隣接するN型エピタキシャル層3の表面に跨って形成されている。 - 特許庁

By spraying an inert gas to the element formation region (7) of the semiconductor wafer (4), the atmosphere of the inert gas is formed at the element formation region (7), thus preventing deterioration of the surface characteristics of the semiconductor wafer (4).例文帳に追加

半導体ウエハ(4)の素子形成領域(7)に不活性なガスを吹き付けることにより、素子形成領域(7)に不活性なガスの雰囲気を形成して、半導体ウエハ(4)の表面特性の劣化を防止することができる。 - 特許庁

On the same semiconductor substrate 10 composed of a N-type silicon substrate, the pixel formation region 4 on which a plurality of pixel cells including a photodiode 2 are two-dimensionally formed and the peripheral circuit formation region 20 are formed.例文帳に追加

N型のシリコン基板から成る同一の半導体基板10に、フォトダイオード2を含む複数の画素セルが2次元状に形成された画素形成領域4と、周辺回路形成領域20とが形成されている。 - 特許庁

The heater layer 140C has an area along a coil formation region in which the conductor patterns 142B_1 are formed, and the heater 144 extending in the layer via an area along a non-coil formation region.例文帳に追加

ヒータ層140Cは、複数の導線パターン142B_1が形成されたコイル形成領域に沿った箇所と、コイル非形成領域に沿った箇所とを経由して層中を延びたヒータ144を有するものである。 - 特許庁

例文

By forming a convex part or a trench (groove) in an insulation layer and providing a channel formation region of a semiconductor layer in contact with the convex part or the trench, the channel formation region is extended in a substrate vertical direction.例文帳に追加

絶縁層に凸状部またはトレンチ(溝部)を形成し、該凸状部またはトレンチに接して半導体層のチャネル形成領域を設けることで、チャネル形成領域を基板垂直方向に延長させる。 - 特許庁


例文

The silicon nitride film and the first thermal oxide film of the isolation structure formation region 10a are removed, and a groove 14 is formed from the surface of a substrate which is an isolation structure formation region to the inside of the substrate.例文帳に追加

素子分離構造部形成領域10aの、シリコン窒化膜及び第1熱酸化膜を除去し、かつ素子分離構造部形成領域である基板の表面から基板内に至る溝部14を形成する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method in which a partial erase of a pattern in a pattern formation region can be prevented, a projected portion which projects from the pattern formation region can be easily removed, and to provide a production method of a member having a pattern region.例文帳に追加

パターン形成領域におけるパターンの部分的消失を防ぐことができ、パターン形成領域からはみ出した、はみ出し部分を容易に除去することが可能となる基板の加工方法、パターン領域を有する部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

A polycrystalline group IV semiconductor layer 2 is deposited on an insulating substrate 1, ions of any one of group IV element or rate gas element 3 are implanted at least into a source/drain formation region and a channel formation region in the layer to amorphize the region, and then ions of conduction type determining impurities 5 are implanted into the amorphized source/drain formation region of the group IV semiconductor layer 4.例文帳に追加

絶縁性基板1上に多結晶IV族半導体層2を堆積したのち、少なくともソース・ドレイン形成領域及びチャネル形成領域にIV族元素或いは希ガス元素3のいずれかをイオン注入してアモルファス化したのち、アモルファス化したIV族半導体層4のソース・ドレイン形成領域に導電型決定不純物5をイオン注入する。 - 特許庁

To expose respective gate electrode formation films and gate wiring formation films formed on an active region and an element separation region with high accuracy, without being affected by the level difference between the active region and the element separation region, in a method for manufacturing a semiconductor device having a full-silicified gate electrode.例文帳に追加

フルシリサイド化されたゲート電極を有する半導体装置の製造方法において、活性領域と素子分離領域との段差による影響を受けることなく、活性領域上と素子分離領域上とに形成されたそれぞれのゲート電極形成膜及びゲート配線形成膜の露出を精度良う。 - 特許庁

例文

In the case the coating film is formed so as to cover the uneven efficient pattern region E of the substrate 1 having the efficient pattern region E, a surrounding part 3 is formed in the outside of the efficient pattern region E so as to surround the pattern region E by pattern formation on the substrate 1, and in such a situation, a coating film formation material is applied.例文帳に追加

凹凸状の有効パターン領域Eを有する基板1に有効パターン領域Eを覆う状態で塗膜を形成する際に、基板1上へのパターン形成により、有効パターン領域Eの外側にこれを取り囲むように囲い部3を設け、この状態で塗膜形成材料を塗布する。 - 特許庁

例文

After barriers 40a and 40b limiting color mixing of coloring ink are formed in a gap region 55 on a transparent substrate 21, the coloring ink is stuck on a pixel formation region 54 to reach the gap region 55 from the pixel formation region 54 beyond the barriers 40a and 40b, thereby colored parts 31A to 35A are formed.例文帳に追加

透明基板21の間隙領域55に、着色インクの混色を制限する隔壁40a,40bを形成した後、画素形成領域54から隔壁40a,40bを越えて間隙領域55に到達するように、画素形成領域54に着色インクを付着させて着色部31A〜35Aを形成する。 - 特許庁

To prevent copper clogging of a dicing blade in a method of manufacturing a semiconductor apparatus having a required semiconductor apparatus formation region 22a by cutting a semiconductor wafer which has the required semiconductor apparatus formation region 22a and an unrequired semiconductor apparatus formation region 22b and 22c that have a different size from each other with the dicing blade, along a dicing street 23 that is along four sides of the required semiconductor apparatus formation region 22a.例文帳に追加

サイズが異なる必要半導体装置形成領域22aおよび不必要半導体装置形成領域22b、22cを有する半導体ウエハを、必要半導体装置形成領域22aの4辺に沿うダイシングストリート23に沿ってダイシングブレードで切断することにより、必要半導体装置形成領域22aを有する半導体装置を得る半導体装置の製造方法において、ダイシングブレードに銅の目詰まりが生じないようにする。 - 特許庁

The semiconductor device 1 has, on an N^--type silicon substrate 2 (the drain region), a field clamp diode structure formed by forming an active region 4 as a functional element formation region provided in an inner region and a P^+-type low-resistance region 5 formed at the outermost peripheral portion of the active region 4 that continuously surrounds the active region 4.例文帳に追加

この半導体装置1は、N^-型のシリコン基板2(ドレイン領域)の上に、内方の領域に設けられた機能素子形成領域であるアクティブ領域4と、アクティブ領域4の最外周部に、アクティブ領域4を取り囲むように連続して形成されたP^+型の低抵抗領域5とが形成されてなるフィールドクランプダイオード構造を有している。 - 特許庁

To provide a thin-film transistor having a region of high crystallization in a channel formation region and a high resistance region between a source and a drain, and thus having a high electric effect mobility and a large on-current.例文帳に追加

チャネル形成領域に結晶化率の高い領域を配し、ソースとドレインの間に高抵抗な領域を配し、電界効果移動度が高くオン電流が大きい薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which has an element isolation region by trench isolation, and which can eliminate a step difference between a surface of an element region of a semiconductor substrate and a surface of the element isolation region prior to formation of a gate electrode.例文帳に追加

トレンチ分離による素子分離領域を有する半導体装置において、ゲート電極形成前の半導体基板の素子領域の表面と、素子分離領域の表面との段差を無くす。 - 特許庁

A pixel 10P is composed so that the area of a light emitting region of an organic EL element E1 is smaller than the area of a formation region of a black resin layer 12 excluding the light emitting region.例文帳に追加

画素10Pでは、有機EL素子E1の発光領域の面積が、その発光領域を除いた黒色樹脂層12の形成領域の面積よりも小さくなるように構成されている。 - 特許庁

To provide an immunoglobulin (Ig) light chain transgene formation containing DNA sequence coding human variable (V) region, joining (J) region and constant region of human immunoglobulin (Ig) protein.例文帳に追加

ヒト免疫グロブリン(Ig)タンパク質のヒト可変(V)領域、連結(J)領域、および定常領域をコードするDNA配列を含む、免疫グロブリン(Ig)軽鎖トランスジェン構成物を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing cost can be suppressed by forming the island semiconductor film which is to be the channel formation region and the semiconductor film which is to be the source region or the drain region without using a doping device.例文帳に追加

チャネル形成領域となる島状半導体膜とソース領域又はドレイン領域となる半導体膜をドーピング装置を用いないで形成することにより、製造コストを抑制することができる。 - 特許庁

In the method of manufacturing a semiconductor device using CMOS structure, the above theme is solved by the method of manufacturing a semiconductor device including a process of implanting ions for formation of each region, sharing a mask for formation of a well region and formation of source/drain regions.例文帳に追加

CMOS構造を用いた半導体装置の製造方法において、ウェル領域形成とソース/ドレイン領域形成のためのマスクを共用し、それぞれの領域形成のためのイオンを垂直に注入する工程を含む半導体装置の製造方法により上記課題を解決する。 - 特許庁

The online formation meter 15 is placed in a traveling region of paper Web P before completing scrolled paper S in a process after predryer 4, so as to capture the formation state of the paper Web P and to supply the formation data to a controlling means 16.例文帳に追加

プレドライヤ4以降の工程であって巻取紙Sに完成する前の紙匹Pの走行域にオンライン地合計15を設置し、紙匹Pの地合の状態を捕捉し、地合データを制御手段16に提供する。 - 特許庁

To prevent the inversion of a conductive type of an n type channel formation region due to B(boron) diffusion.例文帳に追加

B(ボロン)の拡散によってn型のチャネル形成領域の導電型が反転してしまうことを防止する。 - 特許庁

The insulating layer 18 is provided so that it surrounds the entire side of the circuit formation region A1.例文帳に追加

この絶縁領域18は、回路形成領域A1の側面全体を包囲するように設けられている。 - 特許庁

To limit the formation region for an LDD(lightly doped drain) structure and prevent an increase in the space factor of a semiconductor substrate.例文帳に追加

LDD構造の形成領域を制限して半導体基板の占有面積の増加を防止する。 - 特許庁

To prevent external diffusion in drive-in diffusion of impurities added for isolation region formation of a P-N junction.例文帳に追加

PN接合の分離領域形成用に添加された不純物のドライブイン拡散での外方拡散を防止する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which can uniformly apply a pretreatment liquid to an image formation region of a recording medium.例文帳に追加

記録媒体の画像形成領域に前処理液を一様に塗布できる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The projecting part is formed by avoiding a tangent line in the back-channel portion drawn from a source or a drain to a channel formation region.例文帳に追加

該凸部は、ソースまたはドレインからチャネル形成領域まで引いたバックチャネル部の接線を避けて設けられる。 - 特許庁

The liquid droplet discharging device includes 3×3 pieces of substrates 2 on a mother substrate 2A, and a cord formation region S provided on the substrate 2.例文帳に追加

マザー基板2A上に3×3個の基板2を備え、その基板2上にコード形成領域Sを設けた。 - 特許庁

A plurality of grooves arranged in parallel to one another are formed in an insulation part formation region formed in a base material 100 [Fig.1(a)].例文帳に追加

母材100(a)に設けた絶縁部形成領域に平行配列する複数の溝を形成する(b)。 - 特許庁

Holes are provided in the vicinity of long sides of the front plate, to avoid the region of electrode formation, and further inside of the glass frit for fusing.例文帳に追加

前面板の長辺近傍に電極形成部を避け、封着用ガラスフリットよりも内側に穴を設ける。 - 特許庁

The substrate 6 and the epitaxial layer 8 are divided into a plurality of element formation regions by a separation region 3.例文帳に追加

基板6及びエピタキシャル層8は、分離領域3により複数の素子形成領域に区画されている。 - 特許庁

In addition, the area of the channel formation region can be increased by making a channel width longer than a channel length.例文帳に追加

また、チャネル幅の長さをチャネル長の長さよりも長くすることでチャネル形成領域の面積を大きくする。 - 特許庁

The constitution of one display region and the formation of its shape to nearly a trapezoidal shape or nearly sectorial shape are equally well.例文帳に追加

なお、表示領域を1つとし、その形状をほぼ台形状あるいはほぼ扇形状としてもよい。 - 特許庁

An image based on the designated image information is drawn in the second formation region in the drawn convex section.例文帳に追加

また描画された凸部内の第2形成領域に、指定された画像情報に基づく画像を描画する。 - 特許庁

To sufficiently secure a formation region of an identification mark, even when a semiconductor package is made to be more compact.例文帳に追加

半導体パッケージの小型化が進められても、識別マークの形成領域を十分に確保できるようにする。 - 特許庁

Thanks to the region 11, re-coupling of a charge carrier reduces, preventing formation of an inactive layer.例文帳に追加

離間した領域11によって、電荷担体の再結合が減少し不活性層の形成が防止される。 - 特許庁

In addition, area of the channel formation region can be increased by making channel width longer than channel length.例文帳に追加

また、チャネル幅の長さをチャネル長の長さよりも長くすることでチャネル形成領域の面積を大きくする。 - 特許庁

A sealant 18 composed of, for example, a mold resin is formed in a formation region of the bonding wire W.例文帳に追加

このボンディングワイヤーWの形成領域に例えばモールド樹脂からなる封止材18が形成される。 - 特許庁

Consequently, the resistance to moisture absorption of a circuit formation region is improved, and the deterioration of reliability can be prevented.例文帳に追加

その結果、回路形成領域の吸湿耐性を向上させ、信頼性の劣化を防止することができる。 - 特許庁

Gate insulating films 3 (or 6) are formed on the semiconductor substrate 1 in the transistor formation region 220, 230.例文帳に追加

そして、トランジスタ形成領域220,230の半導体基板1上に、ゲート絶縁膜3(または6)を形成する。 - 特許庁

Droplets to be the source electrode and the drain electrodes are jetted on the formation region based on droplet jetting data.例文帳に追加

この形成領域に、ソース電極およびドレイン電極となる液滴を、打滴データに基づいて打滴する。 - 特許庁

A resist 7 that covers the p-type MIS transistor formation region RTp is then formed on the polysilicon film 6.例文帳に追加

その後、ポリシリコン膜6上に、p型MISトランジスタ形成領域RTpを覆うレジスト7を形成する。 - 特許庁

The third electrically conductive film 273 is made to be in contact with the second electrically conductive film 272 in the pad formation region.例文帳に追加

第3導電膜273は、当該パッド形成領域内において第2導電膜272と接触する。 - 特許庁

A preliminary region is provided so that the inferior formation of the EL layer caused by mask deviation can be prevented.例文帳に追加

また、予備領域を設けることでマスクずれ等により生じるEL層の形成不良を防ぐことができる。 - 特許庁

On the object 1 for thin film formation, resist frames 21 and 22 demarcating a thin film forming region 12 are formed.例文帳に追加

薄膜形成対象物1に、薄膜形成領域12を画定するレジストフレーム21、22を形成する。 - 特許庁

To shorten the time for completion by simplifying the steps of well formation and element isolation region formation, and to reduce the manufacturing cost by decreasing the number of costly lithographic steps.例文帳に追加

ウェルの形成と素子の分離領域の形成の工程を簡略化して、工期の短縮を可能にし、高価なフォトリソ工程を減らしてコスト削減を可能にする。 - 特許庁

The epitaxial layers 7, 8 are divided into a plurality of element formation regions by separation regions 3, 4, 5, and an npn transistor 1 is formed at one element formation region.例文帳に追加

エピタキシャル層7、8は、分離領域3、4、5により複数の素子形成領域に区分され、素子形成領域の1つには、NPNトランジスタ1が形成されている。 - 特許庁

A slack formation region 21 for forming a slack 1s where the interconnector wire 1 has a slack is provided between the wire supply reel 2 and the interconnector formation 3.例文帳に追加

線材供給リール2とインターコネクタ形成部3との間には、インターコネクタ線材1が弛みを有する弛み部1sが形成される弛み形成領域21を備える。 - 特許庁

To perform stable image formation by providing a roll paper terminal detecting means, in a sheet carrying device having a carrying means for carrying roll-shaped sheets to an image formation region.例文帳に追加

画像形成領域にロール状シートを搬送する搬送手段を有するシート搬送装置において、ロール紙終端検知手段を設け安定した画像形成を行う。 - 特許庁

Since a contact angle outside of the predetermined pattern region is infinitely larger than that in the predetermined pattern region that is the hydrophilic region 4, a coating part outside of the predetermined pattern region of the hit sol-gel droplets 5 is sucked into the desired patten region and is levelled in the desired formation pattern.例文帳に追加

所定パターン領域外は、親水性領域4である所定パターン領域内より接触角が非常に大きいので、着弾したゾルゲル液滴5の所定パターン領域外の塗布部分は所望パターン領域内へ吸い寄せられ、所望の形成パターン内にてレベリングされた。 - 特許庁

例文

In manufacture, an unwanted portion on the STI film in the second polycrystalline silicon film for formation of the floating gate electrode and the unwanted portion on the source formation region are removed separately by the first mask covering the whole surface of the stripe-form active region and the second mask covering the whole surface of the drain formation region in place of being removed in one process.例文帳に追加

製造時には、フローティングゲート電極形成用の第2の多結晶シリコン膜におけるSTI膜上の不要部分及びソース形成領域上の不要部分を一度の工程で除去する代わりに、ストライプ形状の活性領域の全面を覆う第1のマスクと、ドレイン形成領域の全面を覆う第2のマスクとにより別々に除去する。 - 特許庁




  
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