「formation region」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

An element formation substrate 2 is connected to a predetermined region of each of the wiring portions 5, 9 on the same plane.例文帳に追加

同一面内配線部５，９の所定の領域のそれぞれには、素子形成基板２が接続される。 - 特許庁

Then, as shown in figure (G), a part 7 near a base formation region is oxidized by annealing to form a p-type base 9.例文帳に追加

そして、図２（Ｇ）に示すように、ベース形成付近７をアニール酸化してｐ型ベース９を形成する。 - 特許庁

To provide a thin film capacitor with high moisture resistance without reducing a dielectric formation region.例文帳に追加

誘電体形成領域を減少させることなく、高い耐湿性を有する薄膜コンデンサを提供する。 - 特許庁

To improve electric characteristics of a thin film transistor including a channel formation region composed of a microcrystalline semiconductor.例文帳に追加

微結晶半導体でなるチャネル形成領域を有する薄膜トランジスタの電気特性を向上させる。 - 特許庁

This consequently improves moisture absorption resistance in circuit formation region, thereby preventing deterioration in reliability.例文帳に追加

その結果、回路形成領域の吸湿耐性を向上させ、信頼性の劣化を防止することができる。 - 特許庁

A channel formation region of the transistor is formed using an oxide semiconductor in which a hydrogen concentration is reduced.例文帳に追加

該トランジスタのチャネル形成領域は、水素濃度が低減された酸化物半導体によって構成される。 - 特許庁

Whether the divider is ought to be subjected to image formation processing or not (S20) and the place of a non-image region are discriminated (S22).例文帳に追加

仕切紙に画像形成処理を行なうか否（Ｓ２０）と、無画像領域の場所を判別する（Ｓ２２）。 - 特許庁

The circumferential part of the pattern formation inhibition region 19 is provided to suppress global flare.例文帳に追加

パターン形成禁止領域１９の周囲の部分はグローバルフレアを抑制するために設けられている。 - 特許庁

To provide a composite image formation system for accurately separating a hand-written region from an image captured by a scan unit.例文帳に追加

スキャンユニットの画像から手書領域を正確に分割する合成画像形成システムを提供する。 - 特許庁

A plurality of wiring patterns 2 made of a copper foil are formed in the metal foil pattern formation region 4.例文帳に追加

金属箔パターン形成領域４には、銅箔から成る複数の配線パターン２を形成している。 - 特許庁

As seen in a plane, the protective element formation region (7) is arranged inside the bonding pad portion (20).例文帳に追加

平面的に見て、保護素子形成領域（７）はボンディングパッド部分（２０）の内側に配置されている。 - 特許庁

Further, a channel stopper is formed simultaneously with a high concentration diffusion region instead of the formation of a field oxide film.例文帳に追加

更に、フィールド酸化膜の形成に代え、チャネルストッパーを高濃度拡散領域と同時に形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can correctly measure a wiring shape and a film thickness and a film quality of a wiring interlayer film in a monitor mark formation region which has less deviation with a function element formation region, and correctly measure overlay deviation between a lower layer pattern and an upper layer pattern in the monitor mark formation region.例文帳に追加

機能素子形成領域との乖離が少ないモニター用マーク形成領域において、配線形状並びに配線層間膜の膜厚・膜質を正確に計測し、かつモニター用マーク形成領域における下層パターンと上層パターンとの重ね合わせずれの正確な測定が可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁

To suppress, as much as possible, the formation of a difference in shapes of elements formed in each region to prevent the breakage of a gate oxide film for simultaneously etching the region where a doped dopant is different, and the region where the amount of doping is different as in the case of an n-type region and a p-type region.例文帳に追加

ｎ型領域とｐ型領域などのように，ドープされたドーパントの異なる領域又はドープ量の異なる領域を同時にエッチングする際に，各領域に形成された素子の形状差の発生を極力抑え，ゲート酸化膜破れを防止する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device for forming a uniform, flat element isolation region, without depending on the formation pattern of the element isolation region.例文帳に追加

素子分離領域の形成パターンに依存せず、均一で平坦な素子分離領域を形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The second interlayer insulating film is formed by avoiding a pad formation region consisting of a region where the pad is formed and the peripheral reign of the pad.例文帳に追加

第２層間絶縁膜は、上記パッドが形成される領域と当該パッドの周辺の領域とからなるパッド形成領域を避けて形成されている。 - 特許庁

The impurity is the same type of an electric conductive impurity introduced into a channel region CH as an element formation region AA of the silicon substrate 2.例文帳に追加

この不純物は、シリコン基板２の素子形成領域ＡＡのチャネル領域ＣＨに導入された不純物と同一導電型の不純物である。 - 特許庁

To provide a thin-film transistor that has a region of high crystallization in a channel formation region, and ensures a high electric effect mobility and a large on-current.例文帳に追加

チャネル形成領域に結晶化率の高い領域を配し、電界効果移動度が高く、オン電流が大きい薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁

P-type impurities for determining the conductive type of a channel region in an SOI substrate 11 and fluorine are introduced to a channel formation planned region 23.例文帳に追加

ＳＯＩ基板１１のチャネル領域の導電型を決定するｐ型不純物、及びフッ素をそれぞれチャネル形成予定領域２３に導入する。 - 特許庁

In a region 4 positioned at the center section in the element formation region 2, width at right angle to the direction of crystal growth is limited to 20 μm or less.例文帳に追加

素子形成領域２の中央部に位置する領域４は、結晶成長方向に対して直角方向の幅が２０μｍ以下に制限されている。 - 特許庁

The embedded n-type impurity region is ion-implanted before the formation of the channel layer, so that an impurity profile of the effective channel region is not influenced.例文帳に追加

埋め込みｎ型不純物領域は、チャネル層形成前にイオン注入するため、実効チャネル領域の不純物プロファイルに影響を与えない。 - 特許庁

For the pixel group divided this time, whether or not dot formation is performed for each pixel in the region is determined on the basis of a multi-valued result value of each region.例文帳に追加

このとき分割された画素群については各領域の多値化結果値に基づいて、該領域内の各画素についてのドット形成有無を決定する。 - 特許庁

A circular cylinder is formed on a silicon oxide film 51 in the other region surrounding one region among a plurality of regions which become formation positions for holes 511 and 512.例文帳に追加

ホール５１１、５１２の形成位置となる複数領域の内、一の領域を囲む他の領域のシリコン酸化膜５１上に円柱を形成する。 - 特許庁

The dielectric layer 3 is formed in a region on the outer peripheral surface of the anode body 1 different from the formation region of the anode lead-out layer 2.例文帳に追加

誘電体層３は、陽極体１の外周面の内、陽極引出し層２の形成領域とは異なる領域上に形成されている。 - 特許庁

In addition, a pad electrode 2 is disposed in an outside region of a region in which the bump electrode 20 is disposed in the element formation surface of the semiconductor element 1.例文帳に追加

また、半導体素子１の素子形成面において、バンプ電極２０が配置される領域の外側の領域には、パッド電極２が配置されている。 - 特許庁

After the formation of the first metal silicide film 115 in the gate electrode region, a first metal film 117 is formed in the p-channel MISFET region.例文帳に追加

先ず、第１の金属シリサイド膜１１５をゲート電極領域に形成した後、ＰチャネルＭＩＳＦＥＴ領域に第１の金属膜１１７を形成する。 - 特許庁

A high concentration boron is diffused to a region of the polycrystal silicon film 2 excluding a region corresponding to a pressure chamber formation part of the substrate 1.例文帳に追加

多結晶シリコン膜２の、基板１における圧力室形成部分に対応する領域を除いた領域に、高濃度のボロンが拡散される。 - 特許庁

After an Si_3N_4 film and a second SiO_2 film are formed on an intrinsic base layer, a surronding region of the intristic base layer is etched to form an external base formation region.例文帳に追加

真性ベース層上にＳｉ_3Ｎ_4膜と第２のＳｉＯ_2膜を形成後、真性ベース層の周辺領域をエッチングして外部ベース形成領域を形成する。 - 特許庁

To provide a high performance organic photoelectric conversion material by which application film formation is made possible, and which has photoelectric conversion capability to a long wavelength region (near infrared region), and to provide a high performance organic thin-film photoelectric conversion element.例文帳に追加

塗布成膜が可能で、長波長域（近赤外域）まで光電変換能を有する高性能な有機光電変換材料を提供する。 - 特許庁

Land price forming factor data which is employed in a land price calculation model is separated from geographical space data in a region range having an effect on land price formation in the known region (S3).例文帳に追加

地理空間データから、既知地域の地価形成に影響する地域範囲で、地価算定モデルで採用される地価形成要因データを分離する（Ｓ３）。 - 特許庁

To solve a problem occurring due to formation of an isolation film having double depth at the boundary of a cell region and a peripheral circuit region.例文帳に追加

セル領域と周辺回路領域との境界部分に二重の深さの素子分離膜を形成することにより発生する前記問題点を解決する。 - 特許庁

To provide an image forming method where an image formation of high image quality can be carried out even when a region of high picture dot density and a region of low picture dot density are co-existent.例文帳に追加

画点密度が高い領域と低い領域とが共存する場合にも、高画質な画像形成が可能な画像形成方法を提供すること。 - 特許庁

In a matrix formation unit 22, a matrix of 3×3 is formed based on the region value k obtained from the region value calculation unit 21 and the D factor value from the microcomputer 27.例文帳に追加

マトリクス生成部２２は、領域値演算部２１からの領域値kとマイクロコンピュータ２７からのD係数値に基づいて、３×３のマトリクスを生成する。 - 特許庁

To prevent an insulating film buried in a trench separation region from being dug down, and to prevent a substrate leak accompanied by the silicide formation of an active region edge sidewall.例文帳に追加

トレンチ分離領域内に埋め込まれた絶縁膜の掘れ下がりを防止し、活性領域端部側壁のシリサイド形成に伴う基板リークを防止する。 - 特許庁

A magnetic sensor 10 includes a rectangular pattern formation region 21 having a first region 21d where a resistance change rate of a pattern 22 becomes high and a second region 21e where the resistance change rate becomes lower than that in the first region 21d.例文帳に追加

磁気センサ１０は、パターン２２の抵抗変化率が大きくなる第１領域２１ｄ、及び抵抗変化率が第１領域２１ｄよりも小さくなる第２領域２１ｅを有する矩形のパターン形成領域２１を備える。 - 特許庁

To prevent the breakdown voltage between an emitter and a collector and a breakdown yield from lowering by forming a base region on the surface of a semiconductor substrate other than a selective oxidation silicon film formation region and forming a second-conductive type emitter region in the base region.例文帳に追加

超高速動作用の微細な構造とするために、選択酸化シリコン膜とエミッタ領域が接してもエミッタ−コレクタ間の耐圧や耐圧歩留りが劣化することがない半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a photo diode 40 formation region, the first p-type semiconductor layer 12 constitutes part of an anode region, and the n-type semiconductor layer 14 constitutes a cathode region 42 and a high concentration cathode region 45.例文帳に追加

フォトダイオード４０が形成される領域において、第１のｐ型半導体層１２はアノード領域の一部分を構成し、ｎ型半導体層１４はカソード領域４２及び高濃度カソード領域４５を構成している。 - 特許庁

After this, a second heating treatment is performed and the catalyst element is gettered in the gettering region, whereby the catalyst element can be efficiently moved from a semiconductor layer, specially a region which is used as a channel formation region, to the gettering region.例文帳に追加

この後、第２加熱処理を行い、前記ゲッタリング領域に触媒元素をゲッタリングすることにより、効率的に触媒元素を半導体層、特にチャネル形成領域となる領域からゲッタリング領域に移動させることができる。 - 特許庁

Depending on those steps, N content of the HfAlON film can be reduced in the pMIS formation region 1A, and N content of the HfLaON film can be increased in the nMIS formation region.例文帳に追加

かかる工程によれば、ｐＭＩＳ形成領域１Ａにおいては、ＨｆＡｌＯＮ膜のＮ含有量を少なくでき、ｎＭＩＳ形成領域１Ｂにおいては、ＨｆＬａＯＮ膜のＮ含有量を多くできる。 - 特許庁

A height h2 of a gate electrode 11 on an isolation film 6 is made smaller than a height h1 of the gate electrode 11 on an element formation region by leaving a first silicon layer 3 in an element formation region without removing it.例文帳に追加

第１のシリコン層（３）を除去せずに素子形成領域に残すことで、素子分離膜（６）上のゲート電極（１１）の高さｈ２を素子形成領域上のゲート電極（１１）の高さｈ２に比べて低くする。 - 特許庁

After that, the doped silicon oxide film 109 is subjected to wet etching by using photoresist 110 coating the non-silicide formation region R_nsi as a mask, and a protective insulating film 109a coating the non-silicide formation region R_nsi is formed.例文帳に追加

その後、非シリサイド化領域Ｒ_ｎｓｉを覆うフォトレジスト１１０をマスクとして、ドープドシリコン酸化膜１０９をウェットエッチングすることにより、非シリサイド化領域Ｒ_ｎｓｉを覆う保護絶縁膜１０９ａを形成する。 - 特許庁

The rigid wiring board 142 is arranged such that the back surface side of the formation region of a terminal 143 to be the object to be connected with the formation region of the terminal 151 of a flexible board 150, is abutted to the elastic sheet 103.例文帳に追加

また、リジッド配線基板１４２は、フレキシブル基板１５０の端子１５１形成領域と接続する対象となる端子１４３形成領域の裏面側が、弾性シート１０３に当接するように配置される。 - 特許庁

To attain both the miniaturization of an element and the performance enhancement of a sensor part, by securing compatibility between a formation process of a sensor region which needs sufficient heat treatment and a formation process of other region which requires control of heat treatment.例文帳に追加

十分な熱処理を必要とするセンサ領域の形成工程と、熱処理を抑制したいその他の領域の形成工程とを両立し、素子の小型化とセンサ部の高機能化の双方を達成する。 - 特許庁

The protective film 41 also covers a region R3 sandwiched between the formation area R1 of the first electrode layer 31 and the formation region R2 of the second electrode layer 31 in the surface of the dielectric layer 2.例文帳に追加

そして、保護膜４１は、誘電体層２の表面の内、第１電極層３１の形成領域Ｒ１と第２電極層３２の形成領域Ｒ２とによって挟まれた領域Ｒ３を被覆している。 - 特許庁

In a manufacturing process of a semiconductor device 1, a silicon substrate 2 is separated into an NMOS formation region 8 and a PMOS formation region 9, and a high-permittivity insulation film 31 is formed on the surface of the silicon substrate 2.例文帳に追加

半導体装置１の製造工程において、シリコン基板２を、ＮＭＯＳ形成領域８とＰＭＯＳ形成領域９とに分離し、そのシリコン基板２の表面に高誘電率絶縁膜３１を形成する。 - 特許庁