「formation region」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To further miniaturize an inter-element isolation region in not only a peripheral circuit formation region but also a pixel formation region while suppressing the noises of a solid-state image sensing device on an image signal.例文帳に追加

固体撮像素子において、画像信号に対するノイズを抑制しながら、周辺回路形成領域のみならず画素形成領域においてもさらに素子間分離領域を微細化する。 - 特許庁

The semiconductor device includes an element formation region 1A in which an element is formed on the semiconductor wafer 1, and the scribe region 3 formed in a periphery of the element formation region 1A on the semiconductor wafer 1.例文帳に追加

半導体装置は、半導体ウエハ１に素子が形成された素子形成領域１Ａと、半導体ウエハ１における素子形成領域１Ａの周囲に形成されたスクライブ領域３とを有している。 - 特許庁

FORMATION OF DISPLAY DEVICE HAVING CONDUCTIVE PICTURE REGION ON OPTICAL MODULATION LAYER例文帳に追加

光変調層上に導電性の画像領域を持つ表示装置形成方法 - 特許庁

The electrode pads 23s, 23d are arranged at a driver transistor formation region 5.例文帳に追加

電極パッド２３ｓ，２３ｄはドライバートランジスタ形成領域５に配置されている。 - 特許庁

The polysilicon film 4 can avoid etching damages to the transistor formation region 29.例文帳に追加

トランジスタ形成領域２９へのエッチングダメージをポリシリコン膜４によって阻止できる。 - 特許庁

The silicon dioxide region which is formed allows formation of a mask on a silicon substrate.例文帳に追加

形成された二酸化シリコン領域によりシリコン基板上にマスクが形成される。 - 特許庁

A light-shielding pattern 15 is provided in a pattern formation inhibition region 19 and its circumference, the region where formation of an opening pattern is inhibited to prevent exposure light from intruding.例文帳に追加

遮光パターン１５は、露光光の回り込みを防止するために開口パターンの形成が禁止されたパターン形成禁止領域１９、及びその周囲に設けられている。 - 特許庁

Thereafter, a silicide protection mask 21 is formed in a portion which becomes a non-silicide region 24 in a formation region of an ESD protection element simultaneously with formation of gate sidewall films 20a, 20b.例文帳に追加

その後、ゲート側壁膜２０ａ，２０ｂの形成と同時に、ＥＳＤ保護素子の形成領域の非シリサイド領域２４となる部位に、シリサイド保護マスク２１を形成する。 - 特許庁

A first transistor 202 and a second transistor 204 are formed in a first element formation region 12, and a third transistor 302 are formed in a second element formation region 13.例文帳に追加

第１素子形成領域１２には第１トランジスタ２０２及び第２トランジスタ２０４が形成され、第２素子形成領域１３には第３トランジスタ３０２が形成される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device provided with a silicide formation region capable of controlling increase of bonding leak and a non-silicide formation region, and to provide a method for manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

接合リークの増大を抑制することができるシリサイド化領域と非シリサイド化領域とを備えた半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In a non-volatile memory in which a channel formation region, a tunnel insulating film, and a floating gate are stacked in this order, the channel formation region is formed using an oxide semiconductor layer.例文帳に追加

チャネル形成領域、トンネル絶縁膜及び浮遊ゲートを順に積層した不揮発性メモリにおいて、チャネル形成領域を酸化物半導体層により構成する。 - 特許庁

The first transistor may have a channel formation region formed by an oxide semiconductor, and the second transistor may have a channel formation region formed by silicon.例文帳に追加

第１のトランジスタはチャネル形成領域が酸化物半導体により形成され、第２のトランジスタはチャネル形成領域がシリコンにより形成されたものを用いることができる。 - 特許庁

A semiconductor is manufactured by using a template 1 formed with a pattern 11 for circuit pattern formation in a pattern formation region, and formed with a convex section 15 in a peripheral region.例文帳に追加

パターン形成領域に回路パターン形成用のパターン１１が形成され、周辺領域に凸部１５が形成されたテンプレート１を使用して半導体装置を製造する。 - 特許庁

A surface which is exposed after the second substrate 200 is removed is in level in a lens formation region 20a and a non-lens-formation region 20b at its periphery.例文帳に追加

第２基板２００が除去されることによって露出する面は、レンズ形成領域２０ａ及びその周囲の非レンズ形成領域２０ｂに渡って面一である。 - 特許庁

Thus, the crystal defects are eliminated in an MOS (element) formation region, and the crystal defects are left at the part different from the MOS formation region.例文帳に追加

これにより、ＭＯＳ（素子）形成領域では結晶欠陥を無くし、ＭＯＳ形成領域とは異なる部分で結晶欠陥を残存させた構成を得ることができる。 - 特許庁

O_2 ions are poured into the whole surface of the substrate including a silicide formation scheduled region to obtain an oxygen concentration of 0.05-5 atom% in Si of the silicide formation scheduled region.例文帳に追加

シリサイド化予定領域を含んだ基板全面にＯ_２をイオン注入し、シリサイド化予定領域のＳｉ中の酸素濃度が０．０５〜５ａｔｏｍ％になるようにする。 - 特許庁

The N+-type silicon layer 2 is formed over the entire formation region Z2 of a lateral element and is formed selectively in the formation region Z1 of an IGBT.例文帳に追加

Ｎ^+ 型シリコン層２は、ラテラル素子の形成領域Ｚ２においては全面に形成されるとともに、ＩＧＢＴの形成領域Ｚ１においては選択的に形成されている。 - 特許庁

The second recess 103 is extended to the dummy region 103 adjacent to the wiring board region 102 for formation.例文帳に追加

第２の凹部１０３は、配線基板領域１０２に隣接するダミー領域１０３に延出して形成されている。 - 特許庁

An element formation region 30 surrounded by a dicing line region 50 is positioned on the surface of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置表面には、ダイシングライン領域５０によって取囲まれた素子形成領域３０が配置されている。 - 特許庁

An element formation region is formed in a region of a semiconductor substrate 1 between element isolation regions 61.例文帳に追加

素子分離領域６１によって挟まれた半導体基板１の領域に素子形成領域が形成されている。 - 特許庁

The land price forming factor is separated from the geographical space data in a region range having an effect on land price formation in the unknown region (S8).例文帳に追加

地理空間データから未知地域の地価形成に影響する地域範囲で地価形成要因を分離する（Ｓ８）。 - 特許庁

In addition, germanium is not diffused into a channel-region formation region 1i and its peripheral regions such as 1k and 1m.例文帳に追加

また、ゲルマニウムは、チャネル領域形成予定領域１ｉやその周辺の領域１ｋ、１ｍなどに拡散しない。 - 特許庁

To avoid the damage within an element region in formation of a contact, and also to process a cell region and a control system circuit region around a cell into gates at the same time.例文帳に追加

コンタクトの形成における素子領域内のダメージを回避するとともに、セル領域とセル周辺制御系回路領域とを同時にゲート加工できる。 - 特許庁

A semiconductor substrate 10 having the SOI structure has a first region A and a second region B as a region used in a substantial device formation.例文帳に追加

ＳＯＩ構造を有する半導体基板１０は、実質的なデバイス形成に用いられる領域として、第１領域Ａ、第２領域Ｂを有する。 - 特許庁

Prior to the formation of the metal silicide layer a boundary region between the single crystal region and the polycrystalline region is made amorphous, and then the metal silicide layer is formed.例文帳に追加

金属シリサイド層の形成前に、単結晶領域と多結晶領域との境界領域をアモルファス化し、その後、金属シリサイド層を形成する。 - 特許庁

That is, a channel formation region, a source region and a drain region can be formed in a self-alignment manner without using an impurity introduction step.例文帳に追加

すなわち、不純物導入工程を用いることなく、自己整合によりチャネル形成領域、ソース領域及びドレイン領域を形成することができる。 - 特許庁

An element formation semiconductor layer 4 having side walls 5, 5a is formed in the element formation region 1 by etching the semiconductor layer 11.例文帳に追加

素子形成領域１に、半導体層１１をエッチングして側壁５、５ａを有する素子形成半導体層４を形成する。 - 特許庁

To provide a film-formation treatment system efficiently performing film formation treatment by moving a carrying region by a carrying means.例文帳に追加

搬送領域を搬送手段が移動することで、成膜処理を効率的に行う成膜処理システムを提供すること。 - 特許庁

Here, the equivalent oxidation film thickness of the gate insulating film 5 in the low-voltage transistor formation region A is thinner than the equivalent oxide film thickness of the gate insulating film 5 in the high-voltage transistor formation region B, and the substrate surface height in the low-voltage transistor formation region A is higher than the substrate surface height in the high-voltage transistor formation region B.例文帳に追加

低電圧系トランジスタ形成領域Ａのゲート絶縁膜５の等価酸化膜厚は、高電圧系トランジスタ形成領域Ｂのゲート絶縁膜５の等価酸化膜厚よりも薄く、低電圧系トランジスタ形成領域Ａの基板表面高さは、高電圧系トランジスタ形成領域Ｂの基板表面高さよりも高い。 - 特許庁

A substrate 12 is mounted on an electrode plate 18 inside a film formation chamber 14 with a pattern formation region negatively charged and a non-pattern formation region positively charged by a variable DC power supply 38.例文帳に追加

基板１２は、パターン形成領域がマイナスに帯電させてあり、成膜チャンバ１４内の電極板１８に装着され、非パターン形成領域が可変直流電源３８によってプラスに帯電させてある。 - 特許庁

An amorphous silicon film is patterned for forming a growth source region 1 where a catalysis should be added, an element formation region 2 that is isolated from the growth region 1 and does not have the catalysis, and a path 3 for connecting the growth source region 1 to the element formation region 2.例文帳に追加

触媒を添加すべき成長源領域１と、成長源領域１に対して隔離されて触媒が非添加の素子形成領域２と、成長源領域１と素子形成領域２とを繋ぐ経路３とを、非晶質珪素膜をパターニングすることにより形成する。 - 特許庁

In the channel formation region, a region where the impurity element for providing the conductivity is not added is provided between the impurity region, in which the impurity element is added, and a source region and a drain region.例文帳に追加

チャネル形成領域において該不純物元素の添加領域である不純物領域とソース領域及びドレイン領域との間には、該一導電型を付与する不純物元素の非添加領域が設けられている。 - 特許庁

The oxide film 112 in an unnecessary part is removed by etching, and drain/source formation regions wherein a drain region and a source region are to be formed are opened each in an element formation region of a high withstand voltage nMOS region HVn.例文帳に追加

レジストＲ１５Ａを用いて、不要な部分の酸化膜１１２をエッチングにより除去して、高耐圧ｎＭＯＳ領域ＨＶｎの素子形成領域に、ドレイン領域およびソース領域を形成すべきドレイン／ソース形成領域をそれぞれ開口する。 - 特許庁

A thermal insulation thin film 25 (warm junction formation region) is provided on the cavity part 24.例文帳に追加

空洞部２４の上には熱絶縁性薄膜２５（温接点形成領域）を設ける。 - 特許庁

The wiring 44 is formed inside and outside of a formation region of the organic film 46.例文帳に追加

配線４４は、有機膜４６の形成領域の内側及び外側に形成する。 - 特許庁

FORMATION METHOD OF DEEP PIT REGION AND MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL RECORDING MEDIUM USING SAME例文帳に追加

深穴領域の形成方法及びそれを用いた光記録媒体の製造方法 - 特許庁

FORMATION METHOD OF DOPED REGION OF SOLAR CELL, SOLAR CELL, AND MANUFACTURING METHOD OF SOLAR CELL例文帳に追加

太陽電池のドープ領域の形成方法、太陽電池及び太陽電池の製造方法 - 特許庁

Using the photo mask 34, openings for bottom electrodes of a capacitor are formed in an insulating layer in a memory cell array formation region, and grooves are formed in the insulating layer in a boundary between the memory cell array formation region and a peripheral circuit formation region.例文帳に追加

このようなフォトマスク３４を用いて、メモリセルアレイ形成領域における絶縁層に、キャパシタの下部電極が形成される開口部を形成し、メモリセルアレイ形成領域と周辺回路形成領域との境界における絶縁層に溝を形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that can reduce a bonding pad formation region.例文帳に追加

ボンディングパッド形成領域を縮小することが可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁

To suppress the quantity of spreading of an alignment film outside a film formation region on a substrate.例文帳に追加

基板上の膜形成領域外への配向膜の広がり量を抑制すること。 - 特許庁

The substrate-side line conductor 10 is so disposed that the end part extends from a border BL between the formation region and the non-formation region 12' of the ground conductor 11 to the non-formation region 12' side, with the antenna line conductor 3 connected to the end of an extension part 10e.例文帳に追加

基板側線路導体１０は、接地用導体層１１の形成領域と非形成領域１２’との境界ＢＬから該非形成領域１２’側に末端部が延出する形で配置され、その延出部１０ｅの末端にアンテナ線路導体３が結合される。 - 特許庁

To decrease a formation area by improving the isolating feature of a device isolating region.例文帳に追加

素子分離領域の分離機能を向上して形成面積の縮小を可能とする。 - 特許庁

In the Kinai region, the formation of soson was tremendous and the common people's tendency for solidarity and independence was strong. 例文帳に追加

畿内では惣村の形成が著しく、民衆の団結・自立の傾向が強かった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The light rays repeat total reflections inside the light guide plate 7 and are emitted as illumination light 12, from a region selected by an optical deflection region formation element 8 and an optical deflection region formation element 10 as an illumination light.例文帳に追加

導光板７内部で全反射を繰り返す光は、光偏向領域形成体８と光偏向領域形成体１０によって選択される領域から照明光１２として出射する構成からなる。 - 特許庁

Constituent materials of a multilayer film 41 are successively deposited on a semiconductor substrate (b), and a plug formation scheduled region and the region surrounding the plug formation scheduled region are removed from the deposited multilayer film 41 (d).例文帳に追加

半導体基板上に、多層膜４１の構成材料を順次堆積し（ｂ）、堆積された多層膜４１のうちプラグ形成予定領域及び当該プラグ形成予定領域を囲繞する領域を除去する（ｄ）。 - 特許庁