「formation region」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

In a display device having an inverted-staggered channel-stop-type thin film transistor, the thin film transistor includes a microcrystalline semiconductor film including a channel formation region, and an impurity region containing an impurity element of one conductivity type is selectively provided in a region which is not overlapped with source and drain electrodes, in the channel formation region of the microcrystalline semiconductor film.例文帳に追加

チャネルストップ型の逆スタガ型薄膜トランジスタを有する表示装置において、該チャネルストップ型の逆スタガ型薄膜トランジスタは、チャネル形成領域を含む微結晶半導体膜を有し、該微結晶半導体膜のチャネル形成領域には、ソース電極及びドレイン電極と重ならない領域に選択的に一導電型の不純物元素を含む不純物領域が設けられている。 - 特許庁

To provide a wiring formation method inhibiting generation of erosion at a region where the dishing of wide wiring and concentration of wiring in the formation of copper-family groove wiring by the chemical mechanical polishing method (CMP polishing method).例文帳に追加

化学機械研磨法（ＣＭＰ研磨法）による銅系溝配線形成における広幅配線のディッシングや配線の密集する領域のエロージョン発生を抑制した配線形成方法を提供する。 - 特許庁

TRANSLUMINAL METHOD AND APPARATUS FOR EXECUTING AT LEAST ONE OF CLOSURE OF ANATOMICAL LUMEN STRUCTURE, FORMATION OF ATTACHMENT SECTION TO ANATOMICAL LUMEN STRUCTURE AND FORMATION OF ANASTOMOSED REGION TO ANATOMICAL LUMEN STRUCTURE例文帳に追加

管腔解剖構造の閉鎖、管腔解剖構造への取付部の形成、及び管腔解剖構造への吻合部の形成のうち少なくともいずれか１つを行うための経管腔的方法及び装置 - 特許庁

Additionally, the irradiation width of the continuous light is set to 10 μm or less, so that the formation of a crystal boundary in a crystal growth region is inhibited.例文帳に追加

また、連続光の照射幅を１０μｍ以下とすることで結晶成長領域の結晶境界の形成を抑える。 - 特許庁

The P^+ source layer 9 is provided in the center part on the left side of the element formation region 20 so that its end part overlaps a gate insulating film.例文帳に追加

Ｐ^＋ソース層９は、端部がゲート絶縁膜とオーバーラップするように、素子形成領域２０の左側中央部に設けられる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that can enhance the planar positioning accuracy of a crystal defect formation region, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

結晶欠陥形成領域の平面位置精度を上げることが可能な半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

When a jam occurs at the image formation region, a transport path of the sheet transport means 12 is opened only by opening the side cover 14.例文帳に追加

作像部位でジャムが発生した場合には側面カバー１４を開放するだけでシート搬送手段１２の搬送路が開放される。 - 特許庁

In the marked area 114, information forbidden or permitted to perform the lamination of the chips is given to the corresponding chip formation region 104.例文帳に追加

マーク付与部１１４には、対応するチップ形成領域１０４にチップを積層することを禁止または許可する情報が付与される。 - 特許庁

Related to the side wall part of a hole which is the formation region of a capacitor, a silicon oxide film and a silicon nitride film are alternately formed to provide a rough form.例文帳に追加

キャパシタの形成領域であるホールの側壁部をシリコン酸化膜とシリコン窒化膜を交互に形成した凹凸形状にする。 - 特許庁

To suppress formation of a non-light-emission region due to In segregation in a light emitting layer when a nitride semiconductor light emitting element is manufactured.例文帳に追加

窒化物半導体発光素子の製造において、発光層中のＩｎ偏析に起因する非発光領域の発生を抑制する。 - 特許庁

In the bonding material formation step S1, the bonding material is formed to have a predetermined shape pattern in a mounting region of a component.例文帳に追加

接合用材料形成工程Ｓ１では、部品の実装領域に、接合用材料を、所定の形状パターンでもって形成する。 - 特許庁

To provide a stable solid-state image pickup element having high sensitivity, that allows formation of a deep photoelectric conversion region even in the miniaturization of an element.例文帳に追加

素子の微細化においても、深い光電変換領域の形成を可能にし、安定して高感度な固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

This method is available for preventing formation of a short circuit between the FUSI and a contact to a source and/or drain region.例文帳に追加

この方法は、ＦＵＳＩとソース及び／又はドレイン領域へのコンタクトとの間の短絡形成を防止するのに使用可能である。 - 特許庁

To suppress threshold voltage drop due to a channel at the end of an element formation region, and to reduce a leak current between adjacent elements.例文帳に追加

素子形成領域の端部のチャンネル起因の閾値電圧低下の抑制や、隣接素子との間のリーク電流の低減を可能にする。 - 特許庁

In the first resist patterning step, a first resist pattern 11 having an opening pattern 111 is formed in a contact hole formation region.例文帳に追加

第１のレジストパターン形成工程では、コンタクトホール形成領域に、開口パターン１１１を有する第１のレジストパターン１１を形成する。 - 特許庁

The p-type well 2 is isolated by the element isolation insulation film 4, and an element formation region 2A for forming memory transistors therein is formed.例文帳に追加

素子分離絶縁膜４によりｐ型ウェル２が分離され、メモリトランジスタが形成される素子形成領域２Ａが形成される。 - 特許庁

A second conductive type high concentration impurity layer 170 is formed in an element formation region 110, and functions as a source and drain.例文帳に追加

第２導電型高濃度不純物層１７０は、素子形成領域１１０に形成されており、ソース及びドレインとして機能する。 - 特許庁

An acquisition layer formation region Y is covered with a silicon oxide film 10 and then, a metal layer 11 is formed on the surface of a silicon substrate 1.例文帳に追加

捕捉層形成領域Ｙをシリコン酸化膜１０で覆ったのち、シリコン基板１の表面に金属層１１を成膜する。 - 特許庁

A post P for emitting a laser beam is separated from a pad formation region 118 by a groove 116 formed on the semiconductor layer.例文帳に追加

レーザ光を出射するポストＰとパッド形成領域１１８とが半導体層に形成された溝１１６によって分離されている。 - 特許庁

To suppress unstable pixel formation even in a low-density region and regions other than it in the gradation processing of image processing.例文帳に追加

画像処理の階調処理において、低濃度領域およびそれ以外の領域においても、不安定な画素形成を抑制する。 - 特許庁

The Vcc line 13a and the GND line 13b are formed continuously across the formation region of a plurality of electrode pads 7.例文帳に追加

Ｖｃｃライン１３ａ及びＧＮＤライン１３ｂは複数の電極パッド７の形成領域にまたがって連続して形成されている。 - 特許庁

A wiring metal layer and a contact are laminated to form a seal ring structure 28 surrounding the element formation region 22 of the semiconductor chip 20.例文帳に追加

配線金属層及びコンタクトを積層して、半導体チップ２０の素子形成領域２２を囲むシールリング構造２８を形成する。 - 特許庁

The impurity regions 104 suppress the expansion of the drain side depletion layer to the channel formation region 103 for preventing the short channel effect.例文帳に追加

この不純物領域１０４がドレイン側空乏層のチャネル形成領域１０３への広がりを抑え、短チャネル効果を防止する。 - 特許庁

The insulating resin layer 5 is formed to cover the wiring layer 3 so that it may have an aperture 5a in the formation region of the pad electrode.例文帳に追加

絶縁樹脂層５は、配線層３を覆うように、パッド電極の形成領域に開口部５ａを有するように形成される。 - 特許庁

A sub-laser beam application circuit 2 applies a sub-laser beam to detect the pre-pit formation region of a phase-change optical disk 1.例文帳に追加

副レーザ光照射回路２は相変化光ディスク１のプリピット形成領域を検出するために副レーザビーム光を照射する。 - 特許庁

The peeled part of the inorganic film 36 is a part which covers a part of the wiring 44 at outside of the formation region of the organic film 46.例文帳に追加

無機膜３６の剥離される部分は、有機膜４６の形成領域の外側で配線４４の一部を覆う部分である。 - 特許庁

To provide a group-III nitride semiconductor light-emitting element where formation of a dark points in a light-emitting region is suppressed, and to provide a manufacturing method for the element.例文帳に追加

発光領域における暗点の形成が抑制された、ＩＩＩ族窒化物半導体発光素子及びその製造方法。 - 特許庁

That is, when the voltage of the battery reaches an upper limit voltage VU of the film formation voltage region R, charge is stopped, and discharge is started.例文帳に追加

すなわち，被膜形成電圧領域Ｒの上限電圧ＶＵに達したら，充電を停止するとともに，放電を開始する。 - 特許庁

The castellation 5 is formed in conformity with a non-film formation portion 6 which is a vacant region with no metal surface layer 3 before being joined by a brazing material.例文帳に追加

このキャスタレーション５はろう材による接合前に金属表層３のない空域となる非成膜部６に合わせて形成される。 - 特許庁

Thus, a semiconductor device is manufactured, where the area of the element formation region 20 is larger with fewer limitations about element layout.例文帳に追加

そのため、素子形成領域２０の面積を大きくできて、素子のレイアウトに関する制限が少ない半導体装置を製造できる。 - 特許庁

In a scribing region for a semiconductor integrated circuit, the formation layer 103 and a buried oxide film 102 are removed.例文帳に追加

半導体集積回路のスクライブ領域は単結晶シリコンデバイス形成層１０３及び埋め込み酸化膜１０２が除去されている。 - 特許庁

The selective layout of the burners inside the furnace enables the formation of the region of deflagration enabling very powerful heating and complete combustion.例文帳に追加

炉内の選択的バーナ配置は極めて強力な加熱及び完全な燃焼を与え得るデフラグレーション地域の形成を可能とする。 - 特許庁

To achieve the welding of nickel base superalloys without inducing high stresses, and thus reducing the formation of cracks within the weld region.例文帳に追加

大きい応力を誘起せずにニッケル基超合金の溶接を可能にし、かくして溶接領域内での亀裂の形成を低減する。 - 特許庁

By this method, prior to formation of a dielectric layer, a thin amorphous region is formed on the upper surface of the silicon base material.例文帳に追加

本発明の方法によれば、誘電体層の形成に先立って、薄いアモルファス領域がシリコン基材の上表面で形成される。 - 特許庁

A trench groove 22 is formed in a diffusion layer formation region A2 and an epitaxial film 4 is formed to fill in the trench groove 22.例文帳に追加

次いで、拡散層形成領域Ａ２にトレンチ溝２２を形成し、このトレンチ溝２２を埋め込むかたちでエピタキシャル膜４を成膜する。 - 特許庁

Following to formation of an SiN film 2 on an Si substrate 1, Si+ ions are implanted into the ion implanting region 3 of the SiN film 2.例文帳に追加

Ｓｉ基板１にＳｉＮ膜２を形成した後に、Ｓｉ^+イオンをＳｉＮ膜２のイオン注入領域３にイオン注入する。 - 特許庁

To provide a crystallization apparatus for simultaneously performing semiconductor film crystallization and alignment mark formation around the periphery of the crystallized region.例文帳に追加

半導体膜の結晶化と結晶化領域の周辺へのアライメントマークの形成とを同時に行うことのできる結晶化装置。 - 特許庁

To reduce local current close formation generated between the end part of the body region of one conductivity type and the end part of a first gate insulation film.例文帳に追加

一導電型ボディー領域の端部と第１のゲート絶縁膜の端部との間で発生する局部電流密集を低減する。 - 特許庁

That is, the continuous formation of the defect region in the same position in the lamination direction of the powder P (Z-axis direction ) is inhibited.例文帳に追加

すなわち、粉体Ｐの積層方向（Ｚ軸方向）で同じ位置に連続して欠陥領域が形成されることを抑制できる。 - 特許庁

To provide a protective film formation apparatus, by which a region of a workpiece to be coated with a protective film can be precisely coated with a protective film.例文帳に追加

被加工物の保護膜を被覆すべき領域に確実に保護膜を被覆することができる保護膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To make the focus error and noise of a low-frequency region of an optical disk lower by averting the formation of rubbing flaws in injection molding.例文帳に追加

射出成形の際の擦れ傷の発生を回避し、光ディスクにおけるフォーカスエラーや低周波数領域のノイズを低減する。 - 特許庁

It can be discerned that the formation of a single market within the EU region has led to greater specialization of the industrial structure of each country (Table 3.4.6).例文帳に追加

欧州域内では、単一市場形成に伴って、各国の産業構造の特化が進んできたことが見て取れる（第3-4-6表）。 - 経済産業省

The semiconductor layer is locally thinned, the channel formation region is provided in the thinned region, and the second insulating layer covers at least the first insulating layer provided on the side surface of the semiconductor layer in the region which overlaps with the gate electrode.例文帳に追加

半導体層は局所的に薄膜化され、薄膜化された領域にチャネル形成領域が設けられており、第２絶縁層は、少なくともゲート電極が重畳する領域の半導体層の側面に設けられた第１絶縁層を覆う。 - 特許庁

A second side portion 20 positioned opposite to the first side portion 14 is formed with a surface structure forming portion 24 in a region 22 corresponding to the friction surface region 16 by the molding of the metal component intended for the formation of the friction surface region 16.例文帳に追加

前記第一の側部１４とは逆に位置する第二の側部２０に、摩擦面領域１６に対応する領域２２に、摩擦面領域１６の形成のためのメタルコンポーネントの成形によって表面構造形成部２４が形成されている。 - 特許庁

Before the trench for SJ is formed in an active region of an epitaxial substrate, a second mask oxide film thinner than a first mask oxide film for formation of the trench for SJ in the active region is formed in a scribe region to form an alignment marker.例文帳に追加

エピ基板の活性領域にＳＪ用トレンチを形成する前に、スクライブ領域に、活性領域へのＳＪ用トレンチ形成のための第一マスク酸化膜の厚さよりも厚い第二マスク酸化膜を形成してアライメントマーカーを形成する。 - 特許庁