例文 (999件) |
wiring regionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2147件
The part of each corner of the power supply ring formed in the profile along an electric power supply region is constituted by the wiring layer of the direction different from the wring layer containing the wiring of the oblique direction passing each corner of the power supply region from the inside of the region to the outside of the region.例文帳に追加
電力供給領域に沿った形状に形成するとともに、電源リングの各角の部分を、該電力供給領域の各角を領域内から領域外へ通過する斜め方向の配線を含む配線層とは異なる方向の配線層で構成する。 - 特許庁
In the second filling via conductor forming step, an isolated-region filling via conductor 110c and isolated-region wiring 150 are formed and, at the same time, a surrounding conductor layer 160 which surround the isolated-region land section 110c through a gap is formed along the isolated region wiring 150 with a gap in between.例文帳に追加
さらに、2回目の充填ビア導体形成工程では、疎領域充填ビア導体110c及び疎領域配線150を形成すると共に、疎領域ランド部110cを間隙を介して囲みつつ、疎領域配線150に間隙を介して沿う包囲導体層160を形成する。 - 特許庁
Then, the wiring direction of inter- SRAM marco digit line is detected (S3), and the wiring direction of the wiring limiting region is set as a direction orthogonally crossing the direction of digit line (S4, S5).例文帳に追加
次に、SRAMマクロ内部のデジット線の配線方向を検出し(S3)、デジット線の方向に直交する方向に配線制限領域の配線方向を設定する(S4、S5)。 - 特許庁
Even if the metallic wiring 16 is formed wide to raise allowable current ability, a wiring area ratio of a first wiring layer in an I/O region can be kept low.例文帳に追加
前記金属配線16の幅を、許容電流能力を高めるように広く形成した場合であっても、I/O領域における第1配線層の配線面積率を低く維持できる。 - 特許庁
To achieve the reduction of a workload and the shortening of a design period by automating wiring with wiring length satisfying circuit characteristics of specifications in a prescribed wiring region.例文帳に追加
所定の配線領域内における仕様の回路特性を満たす配線長の配線を自動化することにより、作業負担の軽減化および設計期間の短縮化を図ること。 - 特許庁
So, the wiring route of the source wiring 213 is not limited by the route of the inter-drain wiring 224, and is wired to cover the common source diffusion region 301 more widely.例文帳に追加
従って、ソース配線213の配線経路は、ドレイン間配線224の経路に制約を受けることが無く、共有ソース拡散領域301上をより広く覆うように配線できる。 - 特許庁
The first and the second wiring patterns are connected via interlayer connection parts near both ends of the printed wiring board connection part, so that the second wiring pattern is not required in this empty region.例文帳に追加
プリント配線板接続部の両端近傍で層間接続部を介して、第1、第2の配線パターンを接続することで、この空領域で第2の配線パターンを不要としている。 - 特許庁
To stably and electrically connect a wiring layer to an electrode pad by reliably preventing a wiring layer from disappearing from an electrode pad formation region even if thinning the wiring layer.例文帳に追加
配線層を薄くした場合にも電極パッド形成領域で配線層がなくなることを確実に防止できるようにし、配線層と電極パッドとを安定して電気的に接続させる。 - 特許庁
Thus, wiring 9 is formed, and dummy wiring 10 is formed inside the film 2 through the film 3 within a prescribed range from a region where wiring 9 is formed.例文帳に追加
これにより配線9を形成するとともに、配線9が形成されている領域から所定の範囲内で膜3を貫通して膜2の内部にかけてダミー配線10を形成する。 - 特許庁
To provide a multiple patterning wiring substrate which allows electronic components to be accurately mounted in respective wiring substrate regions and can be accurately divided into each wiring substrate region.例文帳に追加
多数個取り配線基板について、各配線基板領域に電子部品を正確に搭載することができるとともに、各配線基板領域ごとに正確に分割することを可能とする。 - 特許庁
Since the semiconductor elements 1 are connected with the wiring board through wiring, the region between the semiconductor elements 1 is eliminated and the wiring length can be shortened.例文帳に追加
これによって、半導体素子1と配線基板とを配線により接続するための、半導体素子1間の領域は不要となるとともに、配線長を短くすることができる。 - 特許庁
A wiring path with wiring width unique to each network group going from the start point coordinates to end point coordinates unique to each network group in the wiring region of a design target circuit is retrieved.例文帳に追加
設計対象回路の配線領域内の各ネットグループ固有の始点座標から終点座標に辿り着くまでの各ネットグループ固有の配線幅の配線経路を探索する。 - 特許庁
The shortest distance Lnch from a pn junction interface between the n^- region 1 and the p^+ region 2 to the joint between the wiring layer 11 and the n^- region 1 is shorter than the diffusion length Lp of a hole in the n^- region 1.例文帳に追加
n^-領域1とp^+領域2とのpn接合界面と配線層11およびn^-領域1の接合部との最短距離Lnchが、n^-領域1における正孔の拡散長Lpよりも短い。 - 特許庁
A semiconductor device comprises a chip region 16, a scribe region 15, a first seal ring 18 and a second seal ring 17 doubly arranged, and wiring lines 60 extending from the chip region 16 to the scribe region 15.例文帳に追加
半導体装置は、チップ領域16と、スクライブ領域15と、2重に配置された第1シールリング18及び第2シールリング17と、チップ領域16からスクライブ領域15まで延伸する配線60と、を有する。 - 特許庁
On the upper surface of the wiring board 11, a rough surface portion 14 is provided in a region of constant width along an outer periphery of the wiring board 11.例文帳に追加
配線基板11の上面のうち、配線基板11の外周に沿った一定幅の領域には粗面部14が設けられている。 - 特許庁
The elongated holes 30 are arranged in the region of narrow linear part of the pattern wiring 22 following a contact pin 22a, in parallel with the pattern wiring 22.例文帳に追加
長孔30はコンタクトピン22aに続くパターン配線22の狭幅の直線部29の領域にパターン配線22と平行に配列する。 - 特許庁
Furthermore, a wiring storage region 17 for storing the wiring between the respective terminals 51, 52 is provided inside the lighting fixture body 100.例文帳に追加
また器具本体100の内部には、各端子51、52の間に配線を収納するための配線収納領域17が設けられている。 - 特許庁
Similarly, a writing wiring pattern W2 is divided into two wiring parts W2a and W2b separated from each other in a predetermined region.例文帳に追加
同様に、書込用配線パターンW2は、所定の領域において互いに離間した2本の配線部W2a,W2bに分離している。 - 特許庁
To provide a design method for a semiconductor integrated circuit that achieves suitable wiring even in a region congested with wiring lines.例文帳に追加
配線が混雑する領域であっても最適な配線をすることができる半導体集積回路の設計方法を提供することである。 - 特許庁
To provide a structure capable of both expanding a region capable of arranging a wiring of a wiring board, and maintaining a mechanical stability of a semiconductor chip.例文帳に追加
配線基板の配線の配置可能な領域の拡大と、半導体チップの機械的安定性の維持とを両立した構造を提供する。 - 特許庁
The wiring pattern 122 is arranged in the mounting region 12 of the flexible wiring base material 11 in addition to a plurality of at least the inner leads 121.例文帳に追加
フレキシブルな配線基材11の実装領域12は、少なくとも複数のインナーリード121に加えて配線パターン122を配している。 - 特許庁
At least the protection film 8 on the wiring inside a region overlapping the bonding pad 14 is bridged with the protection film 8 on its adjacent wiring.例文帳に追加
少なくともボンディングパッド14と重なる領域内の上記配線上の保護膜8は、隣合う配線上の保護膜8と橋架している。 - 特許庁
A switching element is formed on a unit pixel region demarcated by gate wiring adjacent to each other and data wiring adjacent to each other.例文帳に追加
スイッチング素子は、互いに隣接するゲート配線と互いに隣接するデータ配線によって画定される単位ピクセル領域に形成される。 - 特許庁
In a semiconductor substrate 1, a window 20 which exposes a first wiring 3 is formed only in a region where the first wiring 3 exists.例文帳に追加
半導体基板1において、第1の配線3が存在する領域のみに、第1の配線3を露出し得るウィンドウ20を形成する。 - 特許庁
Also, the second wiring layer 8 and the leading-out wiring layer 10A are electrically coupled by a fourth connection part 9B in the contact region.例文帳に追加
また、第2配線層8と引出配線層10Aとは、コンタクト領域において、第4接続部9Bにより電気的に連結されている。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a wiring board in which a space above a surface region including at least a portion of a wiring line can securely be sealed.例文帳に追加
少なくとも配線の一部を含んだ表面領域の上方の空間を確実に密閉可能な配線基板の製造方法を得る。 - 特許庁
To obtain an automatic wiring design method capable of effectively mitigating a degree of wiring congestion of a wiring channel region surrounding a memory cell, by calculating an optimum wiring path of a functional inter-block wiring in the form of taking in a degree of freedom in a method for taking a line connection position.例文帳に追加
結線位置の取り方の自由度を取り込んだ形で機能ブロック間配線の最適な配線経路の計算をできる様にすることで、効果的にメモリセル周辺の配線チャネル領域の配線混雑度を緩和できる自動配線設計方法を得る。 - 特許庁
At the end of the chip, a region 22A consisting of an insulating film 10a without the wiring film 9 and a region 22B consisting of an insulating film 10a without the wiring film 9 on the light-receiving section 2a adjacent to the light-receiving section 2b are formed in the wiring layer 8, wherein an interval of the region 22A is wider than the interval of the region 22B.例文帳に追加
チップの端部において、配線層8内には、配線膜9が存在しない絶縁膜10aからなる領域22Aと、受光部2bと隣り合う受光部2a上における配線膜9が存在しない絶縁膜10aからなる領域22Bとが形成されており、領域22Aの間隔は、領域22Bの間隔よりも広い。 - 特許庁
The power supply apparatus includes: the printed wiring board 1 including a first region with AC circuit components and a second region with DC circuit components and being formed to have a longitudinal direction; a first heat dissipation board 2 erected in the first region on the printed wiring board; and a second heat dissipation board 3 erected in the second region on the printed wiring board 1.例文帳に追加
交流回路部品が実装される第1領域および直流回路部品が実装される第2領域を含み、長手方向を有するように形成されるプリント配線板1と、プリント配線板1上の第1領域に立設される第1放熱板2と、プリント配線板上の第2領域に立設される第2放熱板3とを備える。 - 特許庁
Intra-region wiring 31 comprises wiring parts 31a to 31c arranged inside the magnetic material layer 8 along the first magnetic layer 41 so that intra-region wiring 31 passes one face of the first magnetic layer 41 of the TMR element 4, and wiring parts 31d and 31e which are disposed inside a wiring layer 7 and connect the wiring parts 31a to 31c in series.例文帳に追加
領域内配線31は、領域内配線31がTMR素子4の第1磁性層41の一方の面上を複数回通過するように、第1磁性層41に沿って磁性材料層8の内部に配設された配線部分31a〜31cと、配線層7の内部に配設され、配線部分31a〜31cを互いに直列に連結する配線部分31d及び31eとを含む。 - 特許庁
The write wiring pattern W2 and read wiring patterns R1, R2 are formed on a body region 51 of the base insulating layer 41, and the write wiring pattern W1 is formed on an auxiliary region 52 of the base insulating layer 41.例文帳に追加
書込用配線パターンW2および読取用配線パターンR1,R2は、ベース絶縁層41の本体領域51上に形成され、書込用配線パターンW1は、ベース絶縁層41の補助領域52上に形成されている。 - 特許庁
For a portion including the unit arrangement, wirings are alternately drawn in a first region 51 and a second region 52 from adjacent pads, and thus, a layout in which the DQ wiring is sandwiched by the VDDQ wiring and the VSSQ wiring can be easily obtained.例文帳に追加
かかる単位配列を含む部分は、隣接するパッドから第1領域51と第2領域52に交互に配線を引くことにより、容易にDQ配線をVDDQ配線とVSSQ配線とで挟んでなるレイアウトを得ることができる。 - 特許庁
A contact wiring 120, for electrically connecting one of the n^+-type source/drain region to one of the p^+-type source/drain region, is formed.例文帳に追加
n^+ 型ソース/ドレイン領域の一方とp^+ 型ソース/ドレイン領域の一方とを電気的に接続するコンタクト配線120が形成されている。 - 特許庁
The rewiring pattern 4 has a protrusion region 5a where the protrusion section 4a is provided and a wiring region 5b extended that is connected to this.例文帳に追加
再配線パターン4は突起部4aが設けられた突起領域5aとこれに連続して延在する配線領域5bとを有する。 - 特許庁
The upper wiring layer has a first region overlapping the characteristic check element and a second region not overlapping the characteristic check element.例文帳に追加
前記上部配線層は、前記特性チェック素子に重なる第1領域と、前記特性チェック素子に重ならない第2領域とを備える。 - 特許庁
Moreover, a second electroconductor electrically connects a second semiconductor region different from the first semiconductor region to wiring.例文帳に追加
さらに、第2の導電体によって、第1の半導体領域とは異なる第2の半導体領域と配線とが電気的に接続されている。 - 特許庁
Virtual wirings via the virtual blank region are arranged, virtual repeaters are arranged in the virtual blank region, and the virtual repeaters and the virtual wiring are coupled.例文帳に追加
仮想空領域を経由する仮想配線を配置し、仮想空領域に仮想リピータを配置し、仮想リピータと仮想配線を接続する。 - 特許庁
The insulator region has a large thickness compared with a thin insulating film for wiring to be formed on a typical integrated circuit element region.例文帳に追加
この絶縁領域は、通常の集積回路素子領域上に形成される配線用の薄い絶縁膜より大きな膜厚を有する。 - 特許庁
A dummy pattern 18 is formed of a first layer metal wiring layer along the boundary of a memory cell region contiguous to a peripheral circuit region.例文帳に追加
周辺回路領域に隣り合うメモリセル領域の境界に沿って第1層目金属配線層によるダミーパターン18が形成されている。 - 特許庁
To lower the relative permittivity of an insulating film in a region where wiring is formed without reducing the mechanical strength in a region where a bonding pad is formed.例文帳に追加
ボンディングパッド形成領域下の機械的な強度を損なわずに、配線が形成される領域の絶縁膜を低誘電率化する。 - 特許庁
A wiring layer 23 is formed so as to partially cover each of the source region 22b and the drain region 22c on the polysilicon layer 22.例文帳に追加
ポリシリコン層22上には、ソース領域22b及びドレイン領域22cのそれぞれ一部を覆うように配線層23が形成されている。 - 特許庁
The wiring portion 9 includes second emitter electrodes 6a, 6b and 6c, first resistance region groups 8a and 8b, and a second resistance region 8c.例文帳に追加
配線部9は、第2のエミッタ電極6a、6b、6cと、第1抵抗領域群8a、8bと、第2抵抗領域8cを備えている。 - 特許庁
This insulation region has a film thickness that is larger than a thin insulation film for wiring formed on a normal integrated circuit element region.例文帳に追加
この絶縁領域は、通常の集積回路素子領域上に形成される配線用の薄い絶縁膜より大きな膜厚を有する。 - 特許庁
A planar substrate 21 for recording head having a plurality of wiring layers is provided with a heater forming region 1, a power transistor forming region 2, and a driving logic circuit region 3.例文帳に追加
複数の配線層を有する板状の記録ヘッド用基体21にヒーター形成領域1、パワートランジスタ形成領域2および駆動用ロジック回路領域3が設けられている。 - 特許庁
The wiring insulating film has a conducting plug electrically connected to the element and through electrode in the center region and a peripheral plug surrounding the center region in the peripheral region.例文帳に追加
配線絶縁膜は、中央領域に素子及び貫通電極と電気的に接続された導電プラグ、及び、周辺領域に、中央領域を取り囲む周辺プラグを有している。 - 特許庁
This connection is made such that a region exposed on a flexible printed wiring board layer 211 and a region exposed in a rigid printed wiring board 113 are in contact with each other as terminal regions.例文帳に追加
この接続は、フレキシブルプリント配線層211において露出した領域とリジッドプリント配線層113において露出した領域とが、端子領域として互いに接触するように行われる。 - 特許庁
A wiring section 15 is connected to the moving section 13 and the detecting section 14 and the wiring section 15 extends from the element-forming region DA hermetically sealed to an external region of the outside thereof.例文帳に追加
可動部13や検出部14には、配線部15が接続されており、この配線部15は、気密封止されている素子形成領域DAから外側の外部領域に延在している。 - 特許庁
The first multilayer wiring layer 110 has a first external connecting terminal 140 in the non-opposed region, while the second multilayer wiring layer 210 has a second external connecting terminal 240 in the non-opposed region.例文帳に追加
第1多層配線層110は、非対向領域に第1外部接続端子140を有しており、第2多層配線層210は、非対向領域に第2外部接続端子240を有している。 - 特許庁
To lower the upper/lower side inner region and the right/left side inner region of a semiconductor chip in wiring resistance than usual and to make areas located at a symmetrical position in the upper/lower part and the right/left part of the chip equivalent in wiring resistance to each other.例文帳に追加
半導体チップの上下辺と左右辺の内部領域の配線抵抗を従来より低くすると共に、チップ上下辺と左右辺の対称位置の配線抵抗を同等にする。 - 特許庁
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