「defects inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a mold release film comprising a polyester film which acheives high accuracy without having such deficiencies that foreign matters or defects are likely not to be viewed or to be overlooked in the inspection of a polarizing plate by a cross-Nicol method.例文帳に追加

偏光板の検査をクロスニコル法により実施する際に、異物や欠陥が見にくくなったり、それらを見逃しやすくなったりするというような不具合がなく、高度な精度を実現することのできるポリエステルフィルムからなる離型フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a surface layer part property measuring method for accurately detecting/discriminating defects doing harm after processes from inspection onward (after rolling and plating processes, for example), a surface layer defect determination method using the same, and a metallic band manufacturing method.例文帳に追加

検査以降の工程後(例えば、冷延、鍍金工程後)に有害となる欠陥を正確に検出・弁別する表層部性状測定方法及びそれを用いた表層欠陥判定方法、並びに金属帯の製造方法を提供する。 - 特許庁

The data processing circuit 45 has: a memory for storing inputted control data; and a control section for selectively storing control data on a peripheral region including the position of defects in a memory, based on the defect data obtained by a defect inspection machine.例文帳に追加

データ処理回路４５は、入力された制御データを格納するためのメモリと、欠陥検査機で得られた欠陥データに基づき、欠陥の位置を含む周囲領域に関する制御データを選択的にメモリに格納させる制御部とを備えている。 - 特許庁

Defects can be found in a stage before the light emission device is completed by inspecting a TFT(Thin Film Transistor) formed in a pixel on an element substrate and a TFT formed in a peripheral driving circuit using the inspection device.例文帳に追加

本発明の検査装置を用いて、素子基板上の画素に形成されたＴＦＴ、及び周辺駆動回路に形成されたＴＦＴを検査することにより、発光装置を完成させる前の段階で不良を発見することが出来る。 - 特許庁

To provide an image processing method, an image processing device, a program, and a recording medium capable of detecting defects of irregularities and stabilizing inspection, independently of the type of tire, the state of tire surface, and positional relation of illumination.例文帳に追加

タイヤの種類、タイヤ表面の状態および照明の位置関係に依存することなく、凹凸欠陥を検出することができ、検査の安定化を図ることができる画像処理方法、画像処理装置、プログラムおよび記録媒体を提供する。 - 特許庁

A substrate is lithographed under three conditions including a normal condition, a safe condition hardly causing a defect, and an acceleration condition easily causing a defect and, after forming a resist pattern, the number of defects is counted with respect to each area using the defect inspection device.例文帳に追加

基板に対して、通常条件、欠陥を発生し難い安全条件、欠陥を発生し易い加速条件の３条件で描画を行い、レジストパターンを形成した後、欠陥検査装置を用いて領域毎の欠陥数を求める。 - 特許庁

To provide a device and method for inspection of a hard disk media, capable of reducing a stray light component included in spectral reflection intensity, and capable of accurately detecting a pattern shape on the pattern disk surface, or surely pattern defects.例文帳に追加

本発明は、分光反射強度に含まれる迷光成分を低減し、パターンドディスク表面のパターン形状を精度よくまたはパターン欠陥を確実に検出できるハードディスクメディアの検査装置または検査方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a review apparatus positively, highly accurately and efficiently conducting automatic defect review (ADR) and automatic defect classification (ADC) by aligning defects detected in an upstream inspection apparatus in a short time, for the review apparatus.例文帳に追加

上流の検査装置で検出された欠陥を、レビュー装置に対して確実に、高精度に、しかも短時間にアライメントをして効率よく、詳細再検査（ＡＤＲ）や欠陥分類（ＡＤＣ）を行うことができるようにしたレビュー装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus for detecting finer defects with high sensitivity by varying illumination conditions for irradiating a sample with light arbitrarily and easily, and further by changing the transmittance of a pupil filter at a detection side and by changing phase conditions.例文帳に追加

試料に照明する照明条件を任意かつ容易に可変でき、さらに検出側の瞳フィルタの透過率、位相条件を変えることによって、より微細な欠陥を高感度に検出することができる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a foreign matter inspection method for wafers capable of detecting foreign matters, particularly, on a wafer in carrying on the real-time base, and a foreign matter inspecting device for preventing a large quantity of defects to keep a yield in a mass production line of a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

特に搬送途中のウェハ上の異物を実時間で検出できるウェハの異物検査方法、および半導体製造工程の量産ラインにおいて、大量の不良を未然に防ぎ、歩留りを維持させるための異物検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for inspecting glossy surface for automatically inspecting defects on the surfaces of dry batteries, drink and liquid crystal panels, and for improving the inspection accuracy and speed, and implemented on the line of a mass production process.例文帳に追加

乾電池、飲料、液晶パネル等の表面欠陥の自動的な検査が可能であり、検査精度及び検査速度が格段に高く、大量生産工程のオンライン上で行うことができる光沢面検査装置の提供を目的とするものである。 - 特許庁

A focus deviation detection device according to the present invention detects the focus deviation of an imaging device in a surface defect inspection device inspecting surface defects based on image data that is produced by imaging the surface of a test subject being transported with the imaging device.例文帳に追加

本発明の焦点ズレ検出装置は、搬送される被検査体の表面を撮像装置により撮像した画像データに基づいて、表面欠陥を検査する表面欠陥検査装置において、撮像装置の焦点ズレを検出する。 - 特許庁

To prevent stray light, such as lens-reflected light reaching an image surface from disturbing the inspection sensitivity in a dark field defect detection method by high elevation angle illumination for detecting groove bottom short-circuit defects or scratch, after the completion of etching.例文帳に追加

エッチング完了後の溝底ショート欠陥やスクラッチを検出するための高仰角照明による暗視野欠陥検出方法において、レンズ反射光などの迷光が像面に到達することによる検査感度を阻害することを防止する。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a defect in a semiconductor single crystal, which is capable of observing and inspecting a harmful minute crystal defect securely, without generating defects such as color change in a surface of an inspection target like a semiconductor single-crystal wafer.例文帳に追加

半導体単結晶ウェハのような被検査物の表面に変色などの欠陥を生じせしめることなく、有害な微細結晶欠陥を確実に観察・検査することが可能な、半導体単結晶中の欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

The protection of a geographical indication of spirit drinks shall be revoked if the designated inspection authority establishes serious defects, in relation to the product specification, in the use of the geographical indication, which cannot be remedied in any other way.例文帳に追加

指定された調査当局が，生産品明細書との関係で，地理的表示の使用において，他の方法では是正することができない重大な欠陥を認定した場合は，蒸留酒の地理的表示の保護は権利取消とされる。 - 特許庁

To provide a device and a method for detecting a hole defect detecting accurately existence of a hole defect and the position if a hole defect exists, by preventing surely excessive detection of hole defects of an inspection object by a light receiving part.例文帳に追加

受光部による被検査物の穴欠陥の過剰検出を確実に防止して、穴欠陥の有無、及び穴欠陥があった場合のその位置の検出を精度良く行うことができる穴欠陥検出装置及び穴欠陥検出方法を得る。 - 特許庁

The measuring part 15 can transmit (vibrate), for example a laser beam, ultrasonic waves, electromagnetic waves and the like on a surface of a structure 3 to be a test object; accept (receive) the reflected laser beam, ultrasonic waves, electromagnetic waves and the like; and detect the defects of an inspection object portion.例文帳に追加

測定部１５では、例えばレーザー、超音波、電磁波等を検査対象の構造体３表面に発信（発振）するとともに、反射したレーザー、超音波、電磁波等を受信（受振）し、検査対象部の欠陥を検出することが可能である。 - 特許庁

To provide a defect correction device of an electronic circuit pattern, the correction device actualizing defect species which are difficult to be recognized by observation using a conventional correction device relative to defects detected by an electric inspection or the like, and normalizing a pixel or forming a semi-black point therefrom.例文帳に追加

電気検査等で検出された欠陥に対して、従来の修正装置での観察では認識が困難であった欠陥種を顕在化し、画素を正常化あるいは半黒点化できる電子回路パターンの欠陥修正装置の提供。 - 特許庁

To propose a circuit capable of detecting a minute constant of a coil or capacitor and a minute constant difference of two coils or two capacitors, and to realize and provide a position detector, an identification inspection device for defects or existence/nonexistence of a conductor, a torque sensor, or the like using it.例文帳に追加

コイル，コンデンサの微小定数，二つのコイル或いは二つのコンデンサの微小定数差を検出出来る回路を提案し，それを用いた位置検出装置，導体の欠陥或いは有無の識別検査装置，トルクセンサ等を実現提供する。 - 特許庁

Another computer-implemented method includes detecting defects on a wafer by analyzing data generated by inspection of the wafer in combination with data representative of a reticle, which includes designations identifying different types of portions of the reticle.例文帳に追加

もう１つのコンピュータで実施される方法に、ウェハの検査によって生成されたデータを、レチクルの部分の異なるタイプを識別する指定を含むレチクルを表すデータと組み合わせて分析することによって、ウェハ上で欠陥を検出することを含む。 - 特許庁

To provide a method of inspecting pattern forming material which can be applied when patterns having different wettability are formed, and by which the defects of the pattern having different wettability can be detected easily by applying the conventional inspection device.例文帳に追加

濡れ性の異なるパターンを形成した場合に適用することができ、かつ従来の検査装置を適用することが可能であることから容易に濡れ性の異なるパターンの欠陥を検出することができるパターン形成体の検査方法を提供する。 - 特許庁

A defect extraction part 13 discriminates defects in inspection target regions including the secondary defect candidate region, using a difference between a gradation value of picture elements in the secondary defect candidate region and a gradation value of picture elements around the secondary defect candidate region.例文帳に追加

欠陥抽出部１３は、二次欠陥候補領域を含む検査対象領域において二次欠陥候補領域に含まれる画素の濃淡値と二次欠陥候補領域の周辺の画素の濃淡値との差分を用いて欠陥を判別する。 - 特許庁

The quality control is conducted properly, correcting the difference in inspection sensitivity for each equipment by finding in advance a relative correction factor at each equipment and correcting the inspected results of the product from each equipment for the number or density of defects, by using the correction factor.例文帳に追加

装置毎の検査感度の違いを、予め装置毎に相対的な補正係数を求めておき、各装置による製品の検査結果をこの補正係数を用いて欠陥数あるい密度を補正する事により正しく品質管理を行う。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for observation of a sample by which, upon detailed inspection of a defective part of the sample by means of magnification or the like, the amount of stage movement is reduced as little as possible to shorten image acquiring time thereby effectively observing defects.例文帳に追加

欠陥部分を拡大するなどして詳細に検査する時に、ステージの移動量をできるだけ少なくして、画像取得時間を短縮し、効率よく欠陥を観察することができる資料の観察方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

Distribution state of defects is analyzed based on a defect position coordinate detected by an inspection equipment and classified into one distribution feature category of repetitive defect, aggregated defect, linear distribution defect, annular block distribution defect or random defect.例文帳に追加

検査装置によって検出された欠陥位置座標に基づいて欠陥の分布状態を解析し、繰り返し欠陥、密集欠陥、線状分布欠陥、環・塊状分布欠陥、ランダム欠陥のうちいずれかの分布特徴カテゴリに分類する。 - 特許庁

To provide a vessel production line which can check defects by checking the liquid level by an X-ray liquid volume inspection apparatus, grasp the time chart of carrying vessels, and determine in which filler valve a filling defect occurs.例文帳に追加

Ｘ線液量検査装置により液面のレベルのチェックによる不良確認と同時に、容器の運搬のタイムチャートをも把握したので、どのフィラーバルブにおいて充填の不良がおきているかを判別できる容器生産ラインを提供する。 - 特許庁

In a method for analyzing time-series distribution information of defects within the surface of a wafer obtained in an identical inspection process of a manufacturing process of a thin film device for forming the thin film device by sequentially processing the wafer, the occurrence of abnormality in the manufacturing process is determined on the basis of a judgement of local variations in distribution of the defects within the wafer.例文帳に追加

基板を順次処理して薄膜デバイスを形成する薄膜デバイスの製造工程において同一の検査工程にて時系列に得られた欠陥の前記基板面内での分布情報を解析する方法において、前記欠陥の基板面内での分布の局所的な粗密変動を判定基準として前記製造工程において異常が発生したことを判定するようにした。 - 特許庁

To provide a defect inspecting method and apparatus with easy sensitivity adjustment capable of both inspecting locational deviation in an image to be inspected, image distortion, etc., by considering brightness between the images and of reducing misreports and highly sensitively detecting defects only by setting a threshold value in defect inspection for comparing the image to be inspected with a reference image and detecting the defects from their difference.例文帳に追加

検査対象画像を参照画像と比較してその差異から欠陥を検出する欠陥検査において、対象画像内の位置ずれや画像歪み等について、画像間の明るさを合わせ込んで検査を行うとともに、しきい値設定のみで虚報の低減と欠陥の高感度検出を両立させ、感度調整が容易な欠陥検査方式及び装置を提供する。 - 特許庁

In an inspection method of surface defects of a transparent resin film, by using a reflection optical system composed of an irradiation device 1 for ultraviolet rays having a wavelength of 350 to 380 nm and a detection device 5 having the detection capability for the wavelength, defects on the surface of a resin film 2 on the ultraviolet irradiation side, which is transparent in visible light and opaque at the wavelength, are detected.例文帳に追加

波長３５０〜３８０ｎｍの紫外線の照射装置１と、当該波長に検出能力を有する検出装置５からなる反射光学系を用い、可視光において透明な樹脂フィルム２であって当該波長において不透明な樹脂フィルムの紫外線照射側表面にある欠点を検出する透明樹脂フィルムの表面欠陥の検査方法。 - 特許庁

To provide an optical semiconductor wafer inspecting apparatus and a method therefor, which carry out an inspection so as to discriminate defects, such as a foreign substance, a scratch and a void occurring in a flattening working process using a polishing or grinding technique employed in manufacturing a semiconductor.例文帳に追加

半導体製造する際に用いられる研磨または研削加工技術による平坦化加工工程において生じるスクラッチやボイド、異物等の欠陥を弁別して検査する光学式半導体ウェハ検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

In the present invention, to make corrective matching thereof, it is designed as follows; position effect of defects coordinates, which are output from an inspection apparatus, is allowed, coordinates of inspected data are mutually corrected, and a state of coincidence or non-coincidence among a plurality sets of inspected data is output or displayed.例文帳に追加

本発明では、これらを正確に合せるために、検査装置から出力される欠陥座標の姿勢の影響を許容し、相互に検査データの座標を補正し、複数検査データ間の一致ないし不一致状態を出力或いは表示することにした。 - 特許庁

To provide a voltage distribution detecting device having a simple structure that highly accurately detects the voltage distribution of a circuit board, by applying electrooptic effect, and to provide an inspection device that inspects electric defects of the circuit board by using the voltage distribution detecting device.例文帳に追加

簡単な構造で、電気光学効果を応用して回路基板の電圧分布を高精度に検出する電圧分布検出装置、及び当該検出装置を使用して回路基板の電気的不良を検査するための検査装置を提供することにある。 - 特許庁

This inspection method has a process for detecting currents which are made to flow through each of the plurality of the pixels 20 respectively by being in contact with common pixel electrode 26 of this active matrix substrate and a process for discriminating defects of the plurality of the pixels 20 on the basis of the detected currents.例文帳に追加

検査方法は、このアクティブマトリクス基板の共通画素電極２６にコンタクトして、複数の画素２０の各々に流れる電流をそれぞれ検出する工程と、出された電流に基づいて複数の画素２０の欠陥を判定する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a fluid suction method and a fluid suction apparatus capable of effectively discharging residual air bubbles in a fluid jet head to prevent the development of printing defects in the fluid jet head and to improve the accuracy of printing inspection including the fluid suction method.例文帳に追加

流体噴射ヘッド内の残留気泡を効果的に排出し得る流体吸引方法、流体吸引装置を提供し、流体噴射ヘッドにおける印字不良の発生を防止して流体吸引方法を含む印字検査の精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a round rod inspection apparatus and a method of inspecting a round rod for easily detecting surface defects, such as a flaw and a smear in an outer peripheral surface of a round rod including an extremely thin pipe shape by a simple device consisting of only a laser light source and a light receiving sensor.例文帳に追加

レーザ光源と受光センサのみの簡易な装置で容易に極細のパイプ形状を含む丸棒の外周面の疵や汚れ等の表面欠陥を検出することができる丸棒検査装置及び丸棒検査方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for inspecting an electronic element, which can easily determine small-scale defects such as short circuits without the need of providing an electronic element characteristic inspection apparatus that tests characteristics of an electronic element in an energized state.例文帳に追加

電子素子を検査する場合、通電状態で特性を試験する電子素子の特性検査装置を設ける必要がなく、また、短絡等の小規模の不良を判定することが容易である電子素子の検査装置および検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To obtain a charged particle beam device which conducts an inspection at high speed with high sensitivity by acquiring an observation image of high resolution and high contrast through efficiently detecting a secondary signal without increasing aberration of a primary electron beam, and by detecting defects from the observation image.例文帳に追加

一次電子線の収差を増やさずに二次信号を効率よく検出することにより高分解能でかつ高コントラストな観察像を取得し、観察像により欠陥を検出することにより検査速度を高速・高感度にする荷電粒子ビーム装置を得る。 - 特許庁

To provide an inspection method of an optical film capable of accurately inspecting the defects of an optical film including a liquid crystal film, satisfying Re≤20 nm and |Rth|≥20 nm, when an in-plane phase difference is set to Re and a phase difference in the thickness direction is set to Rth.例文帳に追加

面内位相差をＲｅ、厚さ方向の位相差をＲｔｈとしたとき、Ｒｅ≦２０ｎｍかつ｜Ｒｔｈ｜≧２０ｎｍを満たす液晶フィルムを含む光学フィルムの欠陥の検査を的確に行うことができる光学フィルムの検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image inspection device which inspects defects of a picked-up image by comparing the picked-up image with a reference image, and has a mechanism which is not affected by three-dimensional distortion such as warpage or flexion when occurring in a read object.例文帳に追加

撮像画像と基準画像とを比較することにより撮像画像の欠陥を検査する画像検査装置において、読取対象物に反りや撓みなどの３次元状の歪み生じている場合であっても、その影響を受けることのない仕組みにする。 - 特許庁

To provide an visual inspection device for accurately detecting the defects developed on each face, independently of the surface shape of each face, where the surface of an inspected body is formed out of a multitude of faces, and in particular, where each developed on a corner part formed out of two faces.例文帳に追加

被検査体の表面が多数の面で形成されている場合、各面の表面形状に関係なく、各面に発生した欠陥、特に、面と面とで形成される角部に発生した欠陥を正確に検出できる外観検査装置を提供する。 - 特許庁

To rapidly detect printing defects such as doubled image and thin spot and also a printing defect due to the abnormal balance of ink and water and an unstable factor in a platemaking process during the quality inspection and control of printed matter and thus prevent wasteful printing from being carried out.例文帳に追加

印刷物の品質を検査あるいは管理する際に、ダブリやスラーといった印刷不良、インキ・水バランス異常による印刷不良、さらに版作成工程の不安定要因に起因する印刷不良を速やかに検知し、無駄な印刷を防ぐことを目的とする。 - 特許庁

This is the system which utilizes temperature of a covering object nearly in stable state, in cooperation with an optical inspection system to selectively find defects and characteristics of the object through its covering, without the need for temporary heating, that is, infrared irradiation and reflective imaging.例文帳に追加

光学的検査システムと協働して被覆された対象物の略安定状態の温度を利用するシステムが開示され、一時的な加熱、即ち赤外線照射及び反射撮像の必要なくして、被覆の下の対象物の欠陥と特徴を選択的に見る。 - 特許庁

An inspection tool in an embodiment includes a light irradiation source generating scattered light including scattered light from the defects of a workpiece, which caused by guiding a light beam on the workpiece, scattered light according to a normal scattering pattern of the workpiece.例文帳に追加

検査ツールの実施形態は、光ビームをワークピース上に導くことによって、前記ワークピースの欠陥から散乱された光、および前記ワークピースの通常の散乱パターンにしたがって散乱された光を含む、散乱された光を発生する照射源を含む。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a substrate, which can reduce the number of pseudo-defects that are erroneously detected and detect a real defect that should normally be detected without deteriorating a defect detection sensitivity, and a method for creating a filter image for the substrate inspection.例文帳に追加

誤って検出される擬似欠陥の数を低減できるとともに、欠陥の検出感度を落とすことなく、本来検出されるべき真の欠陥を検出できる基板検査方法及びその基板検査用のフィルタ画像の画像作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printed board inspection device constituted to make a defect appear clearly on a photographed image, as to the defect with a length direction thereof near to a moving direction of a printed board in the same direction, out of the defects such as flaws existing on a surface of the printed board.例文帳に追加

プリント基板の表面に存在する傷など欠陥のうち、その欠陥の長さ方向がプリント基板の移動方向と同一方向に近似するものについて、その欠陥が撮影画像上に明確に表れるようにしたプリント基板検査装置の提供 - 特許庁