「defects inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

Optical scanning equipment based on a confocal optical system inspects the surface of a wafer to be inspected as a sample, identifies the defects or contaminations on the sample surface detected by the inspection according to its type, outputs and displays the position of the identified defects or contaminations on a wafer screen corresponding to the specimen by a symbol indicative of the type of the defects or contaminations.例文帳に追加

検査対象ウエーハである試料の表面をコンフォーカル光学系による光学的走査装置によって検査し、該検査によって検出された該試料表面上の欠陥や異物をその種類別に識別し、該識別された欠陥や異物の位置を各欠陥や異物の種類別を示す記号によって該試料に対応するウエーハ画面上に出力表示するようにした。 - 特許庁

The metal ring inspection apparatus having a defect inspection section for inspecting the surface defects of a metal ring after performing both of or one of perimeter correction and perimeter measurement comprises a determination reference generation means (threshold value selection section 49) for generating generating criteria for inspecting defects at the defect inspection section, on the basis of perimeter correction information or perimeter measurement information or other pieces of information related to the information.例文帳に追加

周長補正と周長測定の両方又はいずれか一方を行った後の金属リングの表面欠陥を検査する欠陥検査部を有する金属リング検査装置において、前記欠陥検査部における欠陥検査のための判定基準を、周長補正情報又は周長測定情報若しくはそれらの情報に密接に関連する他の情報に基づいて発生する判定基準発生手段（しきい値選択部４９）を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The inspection supporting system sorts each defect detected with an inspection apparatus conforming to a plurality of inspecting conditions in accordance with combinations of the inspecting conditions for detecting respective defects, and calculates for each sorting visual distribution of the inspection objects of the defect belonging to each sorting on the basis of the location information of the defect belonging to the relevant sorting.例文帳に追加

本検査支援システムは、複数の検査条件によって検査装置が検出した各欠陥を、その欠陥が検出された検査条件の組み合わせで分類し、各分類ごとに、その分類に属する欠陥の、検査対象の外観上における分布を、当該分類に属する欠陥の位置情報に基づき算出する。 - 特許庁

To provide a titanium alloy billet having excellent defect detectability in an ultrasonic crack inspection test, even in a large-sized billet with a diameter of ≥ϕ150 mm, for which the inspection of internal defects can be performed by a generally used ultrasonic crack inspection method similarly to the case of the other metal products, and which can be mass-produced as well.例文帳に追加

直径がφ１５０ｍｍ以上の大型のビレットであっても、他の金属製品の場合と同様に、一般的に用いられている超音波探傷法で、内部欠陥の検査を行うことができ、しかも、量産することが可能な、超音波探傷試験における欠陥検出能力に優れたチタン合金ビレットを提供する。 - 特許庁

A defect cycle estimator in single object 32 and a defect cycle estimator in a plurality of objects 34 estimate periodicity of a defect in the object of inspection with statistical hypothesis to defect information based on defect information on features of the individual defects, picture information on the object of inspection and information on the object of inspection.例文帳に追加

単一対象内欠陥周期推定部３２および複数対象内欠陥周期推定部３４は、個々の欠陥の特徴に関する欠陥情報、被検査対象の画像情報、および被検査対象に関する情報に基づいて、被検査対象における欠陥の周期性を、欠陥情報に対する統計的仮説検定により推定する。 - 特許庁

To provide a mark erasing device for freely erasing unnecessary displays in a preceding process in a continuous production line or an inspection line even in the case of erroneously displaying caused by the defects of a steel plate inspection device or the like to improve the production efficiency.例文帳に追加

本発明は、鋼板の検査装置等の不具合によって誤って表示を付した場合でも連続生産ラインや検査ライン等の前工程で自由に不要な表示を消去でき、生産効率の向上が期待できるマーク消去装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an apparatus for detailed observation of defects detected by an optical defect inspection apparatus or by an optical visual inspection apparatus capable of placing a defect to be observed into the field of view of an electronic microscope or the like, without fail, and reducing the size of the apparatus.例文帳に追加

光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を電子顕微鏡等で詳細に観察する装置において、観察対象の欠陥を確実に電子顕微鏡等の視野内に入れることができ、かつ装置規模を小さくできる装置を提供する。 - 特許庁

By optical inspection for defects in the glass substrate, it is found that: the substrate 1 has no defect dependent on the propagation direction of the inspection light; the substrate 1 has no stria inside; and flaws present on the substrate surface have the width (length in the direction of the minor axis) smaller than 1 μm.例文帳に追加

光学的なガラス基板の欠陥検査によって、基板１には検査光の進行方向に依存性をもった久陥は存在せず、基板１内部には脈理がなく、また基板１表面に存在する傷は、その幅（短軸方向の長さ）が１μｍより小さいことが確認されたものである。 - 特許庁

The inspection device allows defective image during inspection to be displayed, by searching similar defects on images in case of a plurality of sheets of defective data, performing trend display of a search result, displaying a defective map by designating a sheet on the trend, and designating a defect on the defective map.例文帳に追加

複数枚の欠陥データの場合には、画像上で類似の欠陥を検索、検索結果をトレンド表示すること、トレンド上の１枚を指定することでその欠陥マップを表示し、欠陥マップ上の欠陥を指定することで検査時の欠陥画像の表示を可能とする。 - 特許庁

To provide a release film in which detection of defects, foreign substances, or the like is carried out with high accuracy in a visual inspection by a cross-Nicol method, one of the inspection methods of a polarizing plate, and which is not easily scratched in the production process of the release film or the process in which the release film is used.例文帳に追加

偏光板の検査方法の一つであるクロスニコル法による目視検査において、欠点や異物等の検出を高精度で実施することができ、離型フィルムの製造工程内や離型フィルムが使用される工程内でキズの入りにくい離型フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method and the device capable of distinguishing black stains, non-black stains and tears, without determing pattern as a defect, when performing an inspection of defects, such as stains, tears and defective shape in a sheet-like article that varies widely in color reproducibility (dispersion, color unevenness and/or color fading).例文帳に追加

色の再現性に幅（ばらつき、色ムラおよび／または色あせ）のあるシート状物品における汚れ、破れ、形状不良等の欠陥検査において、模様を欠陥と判定せず、かつ、黒汚れ、非黒よごれおよび破れの判別が可能な検査方法および装置の提供。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for inspecting patterns, capable of preventing incorrect detection of defects while shortening the inspection time by controlling the focal deviation of an electron beam or the deviation of irradiation position, which is caused by the charging phenomenon on the surface of a sample incident to irradiation with an electron beam in the inspection of fine patterns.例文帳に追加

微細なパターンの検査において、電子ビームの照射によって生じる試料表面の帯電現象による電子ビームの焦点ずれや照射位置のずれを抑制し、欠陥の誤検出を防止するとともに、検査時間を短縮できる検査装置，検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device before crimping a wire and a defect inspection method before crimping a wire capable of correctly individually determining presence of respective defects of a crimp blade die, a crimp terminal, a wire core part and a wire covering part before crimping the wire at low cost.例文帳に追加

低コストで、電線の圧着前に圧着刃型、圧着端子、電線芯線部、および電線被覆部のそれぞれの不具合の有無を個別に正確に判断することができる、電線圧着前の不具合検査装置および電線圧着前の不具合検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an efficient product-inspection method and an efficient product-inspection apparatus for shifting to a process for immediately inspecting defects in a container or the contents after filling the liquid contents into the container by positively removing waterdrops and bubbles that are present in the container.例文帳に追加

容器内に存在しうる気泡や水滴を積極的に除去することによって、容器に液体類内容物を充填した後、直ちに容器やその内容物の欠陥を検査する工程に移行することができる効率のよい製品検査方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an inspection method for inspecting fine defects by imaging transmitted light through a light-transmitting body, such as a glass tube, an image processing algorithm of the picked-up image, and to provide a device using them.例文帳に追加

ガラス管等の光の透過体の透過光を撮像し、それにより微細な欠陥を検出する検査方法と、その撮像画像の画像処理アルゴリズムおよびそれらを用いた装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an improved method of defect detection and reporting technique for detecting and differentiating defects of interest that are difficult to detect accurately, using current inspection techniques, while minimizing the reporting of non-defective areas reported as being defective.例文帳に追加

非欠陥の範囲を欠陥として報告することを最小にしながら、現在の検査技術を用いて、正確に検出するのが困難である関心の欠陥を検出し且つ見分ける。 - 特許庁

To provide an inspection method whereby defects such as flaws or the like of a disk surface where a texture composed of countless circular fine grooves is formed can be inspected simply in a short time without being obstructed by the texture.例文帳に追加

円環状の無数の微細溝から成るテクスチャーが形成されたディスク表面の傷等の欠陥をテクスチャに邪魔されることなく、簡単かつ短時間で検査可能な検査方法を提案すること。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a container or its precursor capable of positively detecting even defects hard to detect visually such as an ungelled defect in an inspection of the container or its precursor.例文帳に追加

容器又はこの前駆体の検査において、上記した未ゲル欠陥のような目視では検知しにくい欠陥も確実に検知することができる容器又はこの前駆体の検査方法を提供する。 - 特許庁

The patterns of the test mask are transferred onto a wafer; the certified defect dimension of each kind of defects is determined; and the detection sensitivity of the defect inspection apparatus, with respect to a semitransparent defect, is controlled by using the test mask in the defect inspecting apparatus.例文帳に追加

テストマスクをウェハーへ転写し、各種欠陥の保証欠陥寸法と決定し、欠陥検査装置にて、テストマスクにより半透明欠陥に対する欠陥検査装置の検出感度調整する。 - 特許庁

To provide a defect detector which attains improvement in defect detection output and reliability by highly accurately detecting various defects to occur on the surface of an inspection object.例文帳に追加

検査対象物の表面上に発生する様々な欠陥を高精度に検出可能とすることで、欠陥検検出力及び信頼性の向上を図った欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁

To improve inspection efficiency by reliably preventing defects in the attachment and removal of tube members due to liquid surface tension in a dispensing apparatus using a mechanism for attaching and removing tube members.例文帳に追加

管部材の着脱機構およびそれを用いた分注装置において、液体の表面張力による管部材の脱着不良を確実に防止し、検査効率を向上することができるようにする。 - 特許庁

To provide a device and a method capable of perfect optical inspection of point shaped, linear shaped or laminar defects at a plane surface area, wherein dimensions are in a submicron range.例文帳に追加

滑面における点状、線状又は面状の欠陥に関する完璧な光学的検査が可能となり、その場合のディメンションがサブミクロンの範囲となるような装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

To carry out inspection with high accuracy without causing any pseudo defects by performing the pattern data collation corresponding to a small change of the pattern generated by an etching process of the pattern formed on a photo mask.例文帳に追加

フォトマスク上に形成されるパターンのエッチングプロセスによって生じるパターンの微妙な変化に対応したパターンデータの合わせを行い、疑似欠陥の発生を招くことなく精度良い検査を行う。 - 特許庁

To provide a defect reviewing system, a defect reviewing method, a defect analyzing method and a method of manufacturing a semiconductor device by which the purpose of inspection can be limited and a process that generates defects can be easily specified.例文帳に追加

検査目的を限定でき、欠陥の発生する工程を特定することが容易になる欠陥レビュー装置、欠陥レビュー方法及び欠陥解析方法、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since an integration process is used, the highly sensitive position detector, identification inspection device for defects or existence/nonexistence of a conductor, torque sensor, or the like resistant against noise intrusion even when the microscopic constant difference is amplified can be realized.例文帳に追加

積分過程によるので微小定数差の増幅でもノイズ混入に強く，高感度の位置検出装置，導体の欠陥或いは有無の識別検査装置，トルクセンサ等を実現できる。 - 特許庁

To enable the product inspection of a resin laminate consisting of two kinds of different resin, to elucidate causes for defects found therein, and to determine the long-term reliability of the resin laminate.例文帳に追加

互いに異なる２種類の樹脂からなる樹脂積層体の製品検査及びそれに伴う不良原因の解明を可能にし、かつ、樹脂積層体の長期信頼性の判定を可能にする。 - 特許庁

Semiconductor wafers each of which has the number of LPDs (Light Point Defects) per wafer equal to or smaller than a prescribed number are selected, and non-defective wafers are determined by visual inspection on the basis of a haze map of the selected semiconductor wafers.例文帳に追加

ウェーハあたりのＬＰＤの個数が所定の個数以下である半導体ウェーハを選別し、更に選別した半導体ウェーハのヘイズマップに基づいて目視により良品のウェーハを判定する。 - 特許庁

To surely detect defects by surely equalizing an image quality condition of an image to be inspected and a reference image as pre-conditioning a pattern inspection through comparison of the image to be inspected which is a multi-valued image with the reference image.例文帳に追加

多値画像である被検査画像と参照画像との比較によるパターン検査の前処理として両画像の画質条件を確実に等しくすることにより確実に欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a steel sheet defect inspection device capable of identifying the kinds of defects generated on a surface and in a surface layer, a defect generated in an inside, and a hole defect.例文帳に追加

本発明は、表面及び表層に発生する欠陥、内部に発生する欠陥、及び穴欠陥の種類を識別することが可能な鋼板欠陥検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a nondestructive inspection method of a structure containing conductive material to reliably detect defects (internal structures) of a reinforced concrete structure such as a tunnel and other structures containing conductive material.例文帳に追加

トンネル等の鉄筋コンクリート構造物及びその他の導電体含有構造物内の欠陥（内部構造）を確実に検出できる導電体含有構造物の非破壊検査方法を実現する。 - 特許庁

Thereafter, the image processing means 12 images the transmitted light from the illumination emission part 8 by the line sensor camera 1, and processes the taken image to determine the pattern of the inspection area and defects of the peripheral part.例文帳に追加

その後、画像処理手段１２は、ラインセンサカメラ１で照明発光部８からの透過光を撮像し、撮像した画像を処理して当該検査エリアのパターンと周辺部の欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

To provide reticle inspection technology with which the positional relation between patterns can be evaluated for patterns that may be turned into defects on exposure to a sample such as wafer in double patterning technology in the same layer.例文帳に追加

同一レイヤーへのダブルパターニング技術において、ウエハ等の試料への露光時に欠陥となりうるパターンについてパターン間の位置関係の評価を可能にするレチクル検査技術を提供する。 - 特許庁

To provide a flaw inspection device which can continuously detect the defects of a porous hollow yarn film which travels easily, even for hydrophobic and hydrophilic porous hollow yarn film.例文帳に追加

疎水性及び親水性のいずれの多孔質中空糸膜についても、走行する多孔質中空糸膜の欠陥を連続的に容易に検出することができる欠陥検出装置の提供。 - 特許庁

To provide a method appropriate for wafer edge observation using an electron microscope for investigating generation factors of foreign substances or the like, when these foreign substances or defects are discovered in wafer inspection.例文帳に追加

ウェハ検査において異物や欠陥を見つけた場合に、これら異物等の発生原因を探求するための電子顕微鏡を用いたウェハエッジ観察に関する好適な方法を提供する。 - 特許庁

Consequently the influence of defects formed on the lower layer parts to a space image can be removed and a visible light inspection result of the uppermost reflection layer and a result about the quality of the space image can be made coincide with each other.例文帳に追加

これにより、下層部の欠陥の空間像への影響をなくすことができるとともに、最上層の反射層の可視光検査結果と空間像良否の結果とを一致させることができる。 - 特許庁

To provide an ultrasonic inspection method in which the position and the size of partial defects existing unevenly in the circumferential direction due to corrosion or pitting can be specified for a rod-like or planar metallic member.例文帳に追加

棒状、板状金属部材に対して、腐食、孔食などにより周方向に不均一に存在する部分的欠損の位置および大きさを特定できる超音波検査方法の提供。 - 特許庁

To provide a method of inspecting pattern defects which automatically detects coating defects in fluorescent material coated on a glass substrate of a plasma display or the like, without being influenced by a coating pattern, such as a lattice-like fluorescent coating film, is easily installed in a production line of a panel, and realizes low-priced and high-speed defect inspection.例文帳に追加

プラズマディスプレイ等のガラス基板に塗布された蛍光体の塗布欠陥を格子状蛍光体塗布膜等の塗布パターンに影響されず高感度に自動検出し、また、パネルの製造ラインに容易に設置でき、低価格、高速度の欠陥検査を実現したパターン欠陥検査方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an electronic circuit device which does not contain solder defects and whose reliability is high by a method, where a solder joint shape is detected by a nondestructive inspection method and the solder unmelted defects of a solder bonded part is detected in the electronic circuit device, in which an electronic component and a circuit board are soldered and jointed by facing electrodes.例文帳に追加

電子部品と回路基板が対向する電極ではんだ接合する電子回路装置において、非破壊検査方法で、はんだ接合形状を検出しはんだ接合部のはんだ未溶融不良を検出しはんだ接合不良のない信頼性の高い電子回路装置を提供する。 - 特許庁

Or the detection of the untrue defects can be suppressed and the pattern can be rapidly inspected by setting the selected area to reference data by using a conversion part, reading a predetermined threshold corresponding to inspection accuracy of each area and determining and detecting the defects.例文帳に追加

また、本発明によれば、変換部で基準データに選択エリアを設定し、欠陥判定部でアルゴリズムを用いて、各エリアの検査精度に応じた所定のしきい値を読み出し、欠陥の判定、検出を行うことにより、擬似欠陥の検出を抑制しつつ、かつ迅速なパターン検査をすることが可能である。 - 特許庁

To provide an inspection device for display images and an inspection method of the display images, capable of improving the inspection accuracy of the display image by preventing erroneous matching decision, when a template image is a video that contains defects that are to be essentially detected or is an image that is not set as a template image or when the difference between template images is small.例文帳に追加

テンプレート画像が本来検出すべき不良を含む映像である場合、テンプレート画像として設定していない画像である場合、テンプレート画像同士に差異が少ない場合、いずれの場合においても誤ったマッチング判定を防止することで、表示画像の検査精度を向上することができる表示画像の検査装置及び表示画像の検査方法を提供すること。 - 特許庁

For example, when three defects 5a, 5b and 5c are detected by the defect inspection, only the defect 5a which has influence on the circuit pattern in the DSA region 8 out of them is sorted out.例文帳に追加

例えば欠陥検査で３つの欠陥５ａ，５ｂ，５ｃが検出されている場合には、それらの中からＤＳＡ領域８内の配線パターンに影響を及ぼす欠陥５ａのみを選別することが可能になる。 - 特許庁

Display defects are inspected by arranging a flat panel display device 1, an object to be inspected, in the inspection apparatus in such a way that the normal to a display surface of the flat panel display device 1 is perpendicular to the direction of gravitation.例文帳に追加

検査対象物である平面表示装置１を平面表示装置１の表示面の法線が重力方向と垂直になるように検査装置内に配置した状態で表示欠陥を検査する。 - 特許庁

To provide a substrate inspecting device for inspecting substrates of semiconductor circuit elements, liquid crystal display elements and the like, in an effort to detect defects quickly and surely, by combining the advantages of a plurality of inspection methods.例文帳に追加

本発明は、半導体回路素子や液晶表示素子等の基板を検査する基板検査装置に関し、複数の検査方式の長所を組み合わせて欠陥検出を迅速，確実に行うことを目的とする。 - 特許庁

To provide an inspection data analysis method and an information system therefor for estimating sources of defects of products such as an integrated circuit, a liquid crystal display device, an optical transceiver, and a thin film magnetic head manufactured via a great number of steps.例文帳に追加

集積回路、液晶ディスプレイ、光トランシーバ、薄膜磁気ヘッドなど多数の工程を経て形成される製造物の不良の発生源を推定するのための検査データ解析方法やその情報システムを提供する。 - 特許庁

Since the set period of the periodic cell counter is modified according to the inspection section of the film, it is possible to efficiently detect various periodic defects through the use of a few number of periodic defect detectors 27.例文帳に追加

フィルムの検査区間に応じて、周期セルカウンタの設定周期を変更するため、少ない個数の周期性欠陥検出部２７を用いて、多様な周期性欠陥を効率よく検出することができる。 - 特許庁