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「defects inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索
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defects inspectionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 657



例文

To provide an inspection apparatus, an inspection method, and a sensor output correction method that image a target to be inspected by a one-dimensional or two-dimensional photoelectric conversion image sensor, improving the contrast of a detection image to be detected, reducing the non-detection and a false report of defects, and also detecting fine defects.例文帳に追加

被検査対象から一次元もしくは二次元の光電変換イメージセンサで撮像して検出される検出画像のコントラストを向上させて欠陥の見逃しや虚報を低減し、微細な欠陥も検出可能にした検査装置及び検査方法並びにセンサ出力補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a color filter for a liquid crystal display device, with which errors in detecting shape defects are reduced without sacrificing inspection efficiency in detecting the translucent patterned shape defects such as photo-spacers, alignment control protrusions and so on formed on the color filter by using a visual inspection device for the color filter.例文帳に追加

カラーフィルタ用の外観検査機を用いてカラーフィルタ上に形成されたフォトスペーサーや配向制御突起など半透明パターンの形状欠陥を検出する際に、検査の効率を犠牲にせず、形状欠陥の検出のエラーを減少させる液晶表示装置用カラーフィルタの検査方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a crystal defect inspection method and a crystal defect inspection apparatus capable of detecting the positions of dislocation and lamination defects precisely and speedily with high sensitivity, when inspecting the in-plane distribution of dislocation and lamination defects existing in the epitaxial film of a silicon carbide single-crystal wafer for manufacturing a semiconductor element by an electroluminescence method.例文帳に追加

エレクトロルミネッセンス法により半導体素子製造用の炭化珪素単結晶ウェハのエピタキシャル膜に存在する転位や積層欠陥の面内分布を検査する際に、転位や積層欠陥の位置を高感度かつ高精度で、さらに高速で検出可能な結晶欠陥検査方法および装置を提供する。 - 特許庁

A non-destructive inspection apparatus is provided with a defect scanning means 20 for scanning the internal defects of the specimen 3 and a defect width changing means 10 for applying a predetermined action to the specimen 3, and forcibly changing the width of the closed internal defects to be within predetermined dimensions, and scans the defects.例文帳に追加

被検査体3の内部欠陥を探傷する欠陥探傷手段20と、前記被検査体3に所定の作用を施して、前記内部欠陥のうち所定寸法以下の幅に閉ざされた内部欠陥の幅を強制的に変化させる欠陥幅変化手段10とを備えた非破壊検査装置で欠陥を探傷する。 - 特許庁

例文

The second wafer inspection step is to re-inspect characteristics of the semiconductor devices while shifting the position of the probe card with respect to the semiconductor wafer from the position in the first wafer inspection step based upon a distribution of semiconductor devices, determined in the first inspection step to have characteristic defects, on the semiconductor wafer.例文帳に追加

第2ウエハ検査工程は、第1ウエハ検査工程によって特性不良と判定された半導体装置の半導体ウエハ上の分布に基づいて、プローブカードの半導体ウエハに対する位置を第1ウエハ検査工程の位置からずらして、半導体装置の特性を再検査する。 - 特許庁


例文

Defect inspection, with high sensitivity, is made possible by irradiating the optical film, while scanning it with inspection light across the transparent film 30 to sense changes in intensity of reflected inspection light, is sensed, and determining the number of defects in the optical film plane, on the basis of information about changes in the intensity of reflected light.例文帳に追加

そして、光学膜に透明膜30を介して検査光を走査させながら照射して検査光の反射光強度の変化を検知し、反射光強度の変化情報に基づいて光学膜面内の欠陥数を求めると、高感度での欠陥検査が可能となる。 - 特許庁

To provide a method of inspecting the surface of an inspection object and an inspection apparatus capable of discriminating the surface indentation which exists in the inspection object and is derived from cutting work or grinding work from the indentation coming from other wounds and the defects of substrate.例文帳に追加

本発明は、検査対象物に存在する切削加工あるいは研削加工に由来する表面凹凸と、それ以外の傷や基体欠陥に起因する凹凸を弁別できる検査対象物表面検査方法及び検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a treating agent which is used to decrease the surface defects, so-called, defects, caught by a specific inspection apparatus relating to the resist patterns formed by using a chemical amplification type positive resist and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

化学増幅型ポジ型レジストを用いて形成したレジストパターンについて、特定の検査装置によりキャッチされる表面欠陥、いわゆるディフェクトを減少させるために用いられる処理剤、及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The number of defects on the surface (film forming surface) of a quartz substrate 11 to be used for the manufacture of a photomask blank is measured by use of a surface inspection device to obtain the number of defects having a predetermined size (such as a diameter of 0.1 to 0.5 μm) on the film forming surface.例文帳に追加

フォトマスクブランクの製造に用いる石英基板11の表面(成膜面)の欠陥数を表面検査装置を用いて計測し、成膜面上の所定のサイズ(例えば、直径0.1〜0.5μm)の欠陥数を求める(基板検査工程)。 - 特許庁

例文

To provide a TFT array inspection device which detects defects of a gate drive circuit on a substrate having two gate drive circuits in a TFT array region, even in the case that one of the gate drive circuits has the defects.例文帳に追加

1つのTFTアレイ領域に2つのゲート駆動回路が設けられた基板においてゲート駆動回路の検査を行う場合において、いずれか一方のゲート駆動回路に欠陥がある場合でもゲート駆動回路の欠陥を検出する。 - 特許庁

例文

To provide a semiconductor device inspection method which automatically specifies flaws, defects, or the like, of the back of a semiconductor substrate constituting a semiconductor device and can specify a semiconductor chip which corresponds to the flaws, defects, or the like.例文帳に追加

半導体装置を構成する半導体基板の裏面の傷や欠陥等を自動的に検出し、前記傷や欠陥等に対応する半導体チップを自動的に特定することができる半導体装置の検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for detecting defects of a welding gun for a capacitor discharge type stud welding, enabling visual capturing, being capable of carrying out data inspection and being capable of exactly detecting defects in action of the welding gun, and also to provide a defect detection device.例文帳に追加

視覚的に捉えることができ、データ的点検が可能で、しかも正確に溶接ガンの作動良否の判定を行うことができるコンデンサ放電型スタッド溶接用溶接ガンの良否判定方法及び良否判定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a surface inspection apparatus making highly accurate surface defect inspections without being affected by white defects constantly generating prescribed luminance or greater or white defects having variable luminance and gradually increasing luminance.例文帳に追加

恒常的に所定以上の輝度を発生する白傷ばかりでなく、輝度が変動したり、徐々に輝度が大きくなったりする白傷の影響を受けることなく、精度の高い表面欠陥検査を行うことができるような表面検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask defect inspection apparatus which can inspect defects of a mask at once and can easily identify the kinds of defects even when illumination light has shorter wavelengths and even when the mask pattern has larger film thickness.例文帳に追加

照明光の短波長化にもかかわらずかつマスクのパターンの膜厚が厚くなってもマスクの欠陥検査を一度に行うことができかつその欠陥の種類の識別も容易に行うことができるマスク欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device and method capable of easily searching for defects when reviewing the defects detected from the plane to be inspected of a body to be inspected such as a semiconductor wafer by an observing device such as a scanning microscope.例文帳に追加

半導体ウェーハ等の被検査体の被検査面から検出した欠陥を走査型顕微鏡等の観察装置によってレビューする際に欠陥の探索を容易に行うことができる欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

At the time of inspection, the pitch correction table generated by the correction table generation means 2 is used, and pitch correction is applied to an input picture by a pitch correction means 3 to correct the pitch distortion, thus reducing false defects to improve the inspection sensitivity.例文帳に追加

検査の時には補正テーブル作成手段2で作成されたピッチ補正テーブルを用い、ピッチ補正手段3で入力画像にピッチ補正をかけてピッチ歪みを補正し、疑似欠陥を減らし、検査感度の向上を図る。 - 特許庁

To provide an inspection device, capable of performing the visual inspection of a semiconductor at a high speed with high resolution and uniformly preparing a sample for TEM observation and various analyses, with high position accuracy, from a region where foreign matters or defects exist.例文帳に追加

半導体ウエハの高速で高分解能な外観検査と、異物や欠陥の存在部位からTEM観察や各種分析のための試料を高い位置精度で一貫して作製することのできる検査装置を提供すること。 - 特許庁

To accurately inspect defects on a substrate in an inspection region through conveying of the substrate by preventing bending, deflections, warpages the like of the substrate and suppressing deformation in the thickness direction over the width direction of the substrate in the inspection region.例文帳に追加

基板の湾曲、撓み、反り等を防止し、検査領域内の基板の幅方向に亘り肉厚方向の変位を抑制して基板を搬送することにより、当該検査領域において精度良く基板の欠陥を検査する。 - 特許庁

To provide a downsized charged beam inspection apparatus, saving on a space, reducing a cost, preventing vibration, accelerating the speed, and having a high reliability of inspection, and large effects, especially for the case of a wafer having a large diameter, in a device for inspecting defects of a sample.例文帳に追加

試料の欠陥を検査する装置において、装置が小型化できて省スペース,コストダウン,振動抑止と高速化,検査の信頼性が得られ、特に大口径化したウエハの場合に効果が大きい荷電ビーム検査装置を得る。 - 特許庁

To provide an inspection device capable of consistently manufacturing a sample for appearance inspection of a semiconductor wafer in high speed and high resolution and for TEM observation or various analyses from an existing part of foreign matters or defects, with high positioning accuracy.例文帳に追加

半導体ウエハの高速で高分解能な外観検査と、異物や欠陥の存在部位からTEM観察や各種分析のための試料を高い位置精度で一貫して作製することのできる検査装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an inspection device that determines reflection in a short time in detecting unevenness defects of an inspected object having a periodic pattern, and reduces the time for inspecting a large-area inspected body, and to provide an inspection method.例文帳に追加

周期性のあるパターンを持つ被検査体のムラ欠陥を検出する場合に、映り込みの判別を短時間に行うことが出来、さらに大面積の被検査体の検査時間を短縮する検査装置及び検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus for speeding up inspection with high resolution for a technique in inspecting defects, foreign materials, residues, and steps, etc., using electron beam for a pattern on a wafer in a manufacturing process for a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection system capable of highly accurately determining correlation between the distribution pattern of defects in a semiconductor wafer found in a defect inspection, and the distribution pattern in a defective semiconductor chip found in an electric test, in a short time.例文帳に追加

欠陥検査で発見された半導体ウエハの欠陥の分布パターンと、電気的試験で発見された不良半導体チップの分布パターンとの間の相関関係を、極めて高い確度をもって、より高精度に短時間に行う。 - 特許庁

To provide an inspection method of a printed board, which enables determination of not only the number of found defects but also whether or not the printed board is defective with consideration of even expansion/contraction rate of the board, in defect inspection of the printed board.例文帳に追加

プリント基板の欠陥検査において、発見された欠陥数のみでなく、基板の伸縮率をも考慮してプリント基板が「不良品」かどうかを判別することが可能なプリント基板の検査方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and device of defect inspection for accurately detecting various defects such as various flaws present on an inspection object formed of a sheet-like or plate-like material; and a linear light source device used for it.例文帳に追加

シート状もしくは板状の材料等からなる検査対象物に存在する様々な傷等の欠陥を精度良く検出できる欠陥検査の方法及び装置並びにそれに用いるライン状光源装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device of a high resolution realizing the increase of inspection speed in a technology of inspecting defects of patterns, foreign matters, remnants, steps or the like on a wafer in the course of manufacturing process by electron beams.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device and method capable of inspecting an optical film using a simple constitution, and capable of easily detecting defects automatically.例文帳に追加

光学フィルムの検査を簡単な構成で行なうことが可能であり、欠陥の自動検出も容易に行なうことが可能な検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cutting dimension inspection device that inspects the length of a book in the conveyance direction highly accurately, without causing defects in quality, such as damages or rubbing on the book.例文帳に追加

本の搬送方向の長さを高精度に検査することが可能で、本へのキズやコスレといった品質不良を引き起こさない断裁寸法検査装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of inspecting defects and a defect inspection system, capable of updating a conforming article range of light and shade values at all times for optimization by relatively simple processing.例文帳に追加

比較的簡単な処理で、濃淡値の良品範囲を随時更新して最適化することができる欠陥検査方法および欠陥検査システムを提供する。 - 特許庁

To provide a visual inspection apparatus capable of properly detecting defects in appearance of shape, such as, irregular shape and concave shape formed on the outer circumference surface of a tube.例文帳に追加

管の外周面に形成された凹凸形状や凹み形状などの形状的な外観不良を適切に検出できる外観検査装置を提供する。 - 特許庁

In defect detection of conductor patterns 20, 21, there is a case that defects cannot be detected by a comparative inspection, using a periodic pitch, in each outermost pattern 22, 23, 26, and 27.例文帳に追加

導体パターン20,21の欠陥検出において、最外部パターン22,23,26,27での周期ピッチを用いた比較検査では、欠陥を検出できない場合がある。 - 特許庁

Since the line-and-space pattern P is a periodical pattern, it has high visibility for visual check with an optical microscope, and the region for inspection of defects can be defined.例文帳に追加

さらに、ラインアンドスペースパターンPは、周期パターンであるため、光学顕微鏡を使って目視した場合に視認性が高く、欠陥検査領域を明確にすることができる。 - 特許庁

A plurality of pieces of grouping information can be registered to a plurality of inspection data in one defect, and the grouping information of defects as an analyzing object can be selected arbitrarily.例文帳に追加

ひとつの欠陥に複数の検査データに対する複数の分類情報を登録可能とし、解析対象である欠陥の分類情報を任意に選択可能とした。 - 特許庁

To ensure quick defective inspection when even fine defects on a mask substrate are desired to be detectable in the mask substrate which becomes an origin of an exposure mask.例文帳に追加

露光用マスクの元となるマスク基材について、そのマスク基材上の微細な欠陥をも検出可能にする場合に、その欠陥検査を迅速に行えるようにする。 - 特許庁

The defect inspection apparatus for metal materials thereby inspects defects which occur in the surface and inside of the metal material 1 as continuously feeding the metal material 1.例文帳に追加

これにより、金属材料の欠陥検査装置は、金属材料1を連続的に送りながら、金属材料1の表面や内部に生じる欠陥を検査することができる。 - 特許庁

To provide a periodic defect inspection method and device for a strip-shaped material, which appropriately determines the degree of harmfulness of periodic defects occurring in the strip-shaped material.例文帳に追加

帯状材料に発生する周期性欠陥の有害度を適正に判定することができる帯状材料の周期性欠陥検査方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of carrying out inspection of an organic EL display panel during its manufacturing stage and correcting discovered defects, without the characteristics of its components to deteriorate.例文帳に追加

有機ELディスプレイパネルの製造途中段階において、構成要素の特性を劣化させることなく検査を実施し、発見された欠陥を修正する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and device for inspecting surface defects in a disc capable of improving the throughput of disc inspection by shortening the handling time of the disc.例文帳に追加

ディスクのハンドリング時間を短縮して、ディスク検査のスループットを向上させることができるディスクの表面欠陥検査方法および検査装置を提供することにある。 - 特許庁

To prevent generation of defects affecting an energy absorbing capacity and inspection intervals after installing a steel damper by performing a surface treatment on the elastic and plastic steel damper.例文帳に追加

鋼製弾塑性ダンパに表面処理を施すことにより、エネルギ吸収能力や点検頻度に影響を与える鋼製ダンパ設置後の欠陥の発生を防ぐ。 - 特許庁

Meanwhile, if the difference exceeds the threshold, the operator determines the inspection object 11 to be defective and analyses the cause of defects and feeds back the analysis result to a preceding step (the electrode formation step).例文帳に追加

一方、差分が閾値を超える場合、検査対象物11は、不良品であると判定し、不良の原因を分析し、前工程(電極工程)にフィードバックする。 - 特許庁

To provide a data processor and a data processing method for carrying out the display of feature quantities wherein the classification of defects extracted by a visual inspection device is facilitated.例文帳に追加

外観検査装置で抽出された欠陥の分類が容易になるような特徴量の表示を行うデータ処理装置、およびデータ処理方法を提供する。 - 特許庁

To improve the capability of detecting defects existing near a surface of an industrial component when executing a phased array ultrasonic inspection for the component.例文帳に追加

本発明は一般に、超音波イメージング方法に関し、より具体的には、工業用部品のフェーズド・アレイ超音波検査のための改良された表面近傍解像度に関する。 - 特許庁

When a defect is observed during the defect inspection, defect information such as a position, a size and a shape of the defect is recorded, and a data such as the number of the defects is displayed.例文帳に追加

欠陥検査中に欠陥を発見した場合、その欠陥の位置や大きさ、形状などの欠陥情報を記録し欠陥数などのデータを表示する。 - 特許庁

To eliminate defects of a solder ball and a connection defect without requiring mounting facility with high precision and also eliminate man-hours for visual inspection and later adjustment.例文帳に追加

はんだボール及び接続不良による不具合をなくすと共に、高精度な実装設備を不要とし、かつ目視検査及び手直し作業にかかる労力を不要とする。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus for defect inspection or the like for detecting various types of defects having different occurring variation in a light route with sufficient accuracy at the same time.例文帳に追加

生じる光線経路の変化が異なる様々な種類の欠陥を一度に十分な精度で検出できる欠陥検査用画像処理装置等を実現する。 - 特許庁

Data in a part where patterns are joined, the part produced in the negative resist while drawing with electron beams, is deleted from the part where defects are detected by the above comparing inspection (process 104).例文帳に追加

この比較検査で得られた欠陥検出部から、電子線描画処理時に上記ネガレジストに生じた描画繋ぎ部分のデータを削除する(工程104)。 - 特許庁

To provide an inspection device of a plugged honeycomb structure, which simultaneously inspects the depths and defects of plugged portions in a short time and in a non-contact manner.例文帳に追加

短時間かつ非接触にて、目封止部の深さ及び目封止部の欠陥を、同時に検査することが可能な目封止ハニカム構造体の検査装置を提供する。 - 特許庁

To readily confirm resolution of an image, and to measure the size of defects by using contactless visual inspection method and device thereof.例文帳に追加

本発明の目的は、画像の分解能の確認が簡単に行えると共に、欠陥の寸法測定も行える非接触式目視検査方法および装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a bobbin inspection method for a filament yarn package capable of detecting defects such as scratch and breakage of a bobbin stably without recognizing them erroneously and performing their processing at a high speed.例文帳に追加

ボビンの傷、欠損等の欠陥を誤認識することなく安定して検出し、かつ処理も高速に行える糸条パッケージのボビン検査方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a steel stock turning/transferring apparatus with which a weighty steel stock is freely turned without necessitating labors, the visual inspection of defects is facilitated and working efficiency is improved.例文帳に追加

重量のある鋼材を労力を要さずに自由に転回でき、疵の目視検査を容易にし作業効率を向上させる鋼材転回移載装置を提供する。 - 特許庁




  
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