例文 (657件) |
defects inspectionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 657件
To provide a method for inspecting a mask by which defects in a fine pattern and a hole on a mask for exposure with charged particle rays are accurately detected and to provide an apparatus for inspecting a mask capable of shortening inspection time while ensuring high resolution.例文帳に追加
荷電粒子線露光用のマスク上の微小なパターンやホールの欠陥を高精度に検出するマスク検査方法を提供すると共に、高解像度でありながら検査時間の大幅な短縮が可能なマスク検査装置を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a method for producing a surface-protective adhesive film facilitating the inspection of defects of an adherend in a state of the film pasted on the adherend, hardly leaving the paste on the adherend when the adhesive is peeled off, and not requiring a curing period after coating the adhesive.例文帳に追加
被着体に貼り付けた状態で被着体欠点の検査が容易に出来、粘着剤を剥がした際には被着体への糊残りがなく、かつ、粘着剤塗布後の養生期間が不要である表面保護粘着フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁
In the method for manufacturing the glass substrate for the magnetic disk including an inspection step of inspecting the manufactured glass substrate for the magnetic disk, whether the glass substrate for the magnetic disk is acceptable or not is determined based on a plurality of determination standards determined by the magnitude and the number of defects on the glass substrate for the magnetic disk in the inspection step.例文帳に追加
本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、製造された磁気ディスク用ガラス基板を検査する検査工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記検査工程において、前記磁気ディスク用ガラス基板上の欠陥の大きさと数とで決められた複数の判定基準に基づいて磁気ディスク用ガラス基板のOK/NGを判定することを特徴とする。 - 特許庁
The method for inspecting the electrooptical device includes: the plurality of sheet type inspection stages of inspecting a plurality of display defects of the electrooptical panel by the inspection contents; and an aging stage where a plurality of electrooptical panels are heated while conveying them one after another, and a processing time for each electrooptical panel is needed longer than any of processing times in the plurality of respective inspection stages.例文帳に追加
電気光学パネルについて複数の表示欠陥の検査を検査内容別に順次実施する枚葉方式の複数の検査工程と、この複数の検査工程の各工程間又は前に組み込まれ、複数個の電気光学パネルを順次搬送しつつ加熱する工程であって、電気光学パネル1個当たりの処理時間は前記複数の検査工程の各工程の処理時間より長い処理時間を要するエージング工程と、を具備した電気光学装置の検査方法である。 - 特許庁
To provide a correction projection foreign matter determination method of a color filter substrate, wherein the method reduces the number of defects to be confirmed by a defect correction machine by determining a projection foreign matter from among defects in the color filter substrate to be detected by an automatic defect inspection device before inputting the color filter substrate into the defect correction machine, and performs an efficient defect correction work by the minimum correction devices.例文帳に追加
自動欠陥検査装置で検出したカラーフィルタ基板内の欠陥の中から、カラーフィルタ基板を欠陥修正機投入する前に突起異物を判定することによって欠陥修正機で確認する欠陥数を減少させ、最小限の修正装置で効率的な欠陥修正作業を行うことを可能とするカラーフィルタ基板の修正突起異物判定方法を提供するを提供する。 - 特許庁
This device for inspection defects is designed so that by adopting achromatic reflecting objective lens, sensitivity is improved by inhibiting brightness variations due to multiple-wave length illumination (i.e., illumination by illuminating radiation of multiple-wavelength band), and also by manifesting defects through optional wavelength detection; and moreover, so that it can acquire identical spatial image on the sample, with various multiple kinds of optical images.例文帳に追加
本発明は、色収差のない反射対物レンズを採用することにより、多波長照明(複数の波長帯域を有する照射光による照明)による明るさ変動を抑制すると共に波長選択検出によって欠陥を顕在化して感度向上を図り、しかも試料上の同一空間像を異なる複数種の光学像で取得できるように構成した欠陥検査装置である。 - 特許庁
To provide a defective marking apparatus capable of detecting defects of long, sheet-like products being transferred in a length direction by an inspection device, marking detected defective parts without damaging the sheet-like products, and easily removing or repairing the defective parts in after processes.例文帳に追加
長さ方向に搬送される長尺のシート状製品の欠陥を検査装置により検出し、検出された欠陥部分にシート状製品に損傷を与えることなくマーキングを施し、後工程において容易に欠陥部分の除去又は補修をすることができる欠陥マーキング装置を提供する。 - 特許庁
In electron beam type automatic defect inspection equipment comprising an X-ray detector, the X-ray spectrum and image of a dust generated on a wafer for process QC are registered as reference data and defects occurring on the process wafer are sorted with reference to the reference data.例文帳に追加
X線検出器を備えた電子線式自動欠陥検査装置において、プロセスQC用ウエーハ上に生じた異物のX線スペクトルと画像とを参照用データとして登録し、前記参照用データを照会してプロセスウエーハ上に生じた欠陥を分類する。 - 特許庁
The visual inspection device is provided with a laser pointer and a data processing and storing device, which records accurate defective spots and the details of defects, when the inspector presses a pertinent key on a switch box for recording without keeping his eyes off an object to be inspected, while the inspector performs visual inspections on a printed wiring board assembly placed on an X-Y table.例文帳に追加
X−Yテーブル上に配置したプリント配線板組立の目視検査をしながら検査対象から目を離さずに記録用スイッチボックスの該当キーを押下するだけで正確な不良個所と不良内容を記録するレーザポインタとデータ処理・記憶装置を備える。 - 特許庁
To allow even a nonexpert to perform inspection without requiring advanced technical knowledge, to readily evaluate the soundness and unsoundness of a steel pipe pillar underground section and instantaneously, at site, to simplify a program for evaluating defects, and to allow the program to be readily incorporated into an ultrasonic flaw detector used on site.例文帳に追加
高度の技術知識を要さず、専門家でなくても検査でき、現地で簡単に即時に鋼管柱地中部の健全、不健全を評価でき、かつ、欠陥を評価するプログラムも簡単で、現地で使用する超音波探傷器に容易に組み込むことができるようにする。 - 特許庁
An inspection apparatus includes: a first processing unit for calculating signals for each pixel and determining abnormality in the detection unit; a second processing unit for correcting a pixel where the abnormality has occurred; and a third processing unit for determining defects of a substrate by use of detection results of the pixel after correction by the second processing unit.例文帳に追加
画素ごとの信号を計算し、前記検出部の異常を判定する第1の処理部と、前記異常が発生した画素を補正する第2の処理部と、前記第2の処理部による補正後の画素の検出結果を用いて、前記基板の欠陥を判定する第3の処理部と、を有する。 - 特許庁
To provide a pattern for evaluation and a photomask for forming the pattern for evaluation capable of evaluating irregularity defect detection capacity and capacity for detecting and analyzing periodicity of irregularity defects in an inspection device for inspecting irregularities of a body to be inspected having a periodic pattern.例文帳に追加
周期性のあるパターンをもつ被検査体のムラ検査をする検査装置の、ムラ欠陥検出能力やムラ欠陥の周期性を検出・解析する能力を評価することが可能な、評価用パターンおよびその評価用パターンを形成したフォトマスクを提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a method and a device for the inspection of a write type optical pickup which can evaluate the optical pickup without using any actual recording medium by eliminating defects of conventional technology which evaluates the optical pickup by using an actual recording medium and performing recording and reproduction.例文帳に追加
実際の記録媒体を使用して、記録し再生して評価するという従来技術におけるこのような欠点を解消して、実際の記録媒体を使用せずに光学ピックアップの評価をすることができる書込み型光学ピックアップの検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁
To provide a probe pin for semiconductor device inspection which can realize low-cost manufacturing and a significant shortening of a processing period by preventing defects of soldering by residual resin at soldering of the probe pin to a probe card, and by not using an expensive insulated tube.例文帳に追加
プローブピンをプローブカードに半田付けする際の残留樹脂による半田付けの不良を防止し、高価な絶縁チューブを使用しないことにより、低廉な製作コストと作業工程時間の大幅な短縮を実現することができる半導体装置検査用プローブピンを提供すること。 - 特許庁
To provide an optical polyester film not recognizing a light interference color when it is arranged as a polarizing plate in the state of cross nicol and observed, being also excellent in UV ray absorption characteristic, capable of easily performing inspection of defects and foreign matter and being preferably used for protection of the polarizing plate.例文帳に追加
偏光板としてクロスニコルの状態に配置して観察した時に、光干渉色が認められず、紫外線吸収特性にも優れ、欠陥や異物の検査が容易にでき、偏光板の保護用として好適に使用することのできる光学用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁
To provide an inspection apparatus that captures cracks generated on a transparent plate, such as a glass plate, by images for detection, and detects defects in the transparent plate for detecting cracks regardless of the relationship between the direction of cracks and the irradiation direction of a lighting means.例文帳に追加
ガラス板のような透明板に発生したクラック(割れ)を画像で捉えて検出する検査装置であって、クラックの方向と照明手段の照射方向との関係にかかわらずクラックの検出が可能な透明板の欠陥を検出する検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
A wafer processing apparatus 42 comprises peripheral chambers 111, 112 for performing peripheral exposure processing, an inspection chamber 113 for inspecting defects of a wafer W, and a transportation chamber 114 provided with a transportation arm 130 for transporting the wafer W in a vertical direction.例文帳に追加
ウェハ処理装置42は、周辺露光処理を行う周辺露光室111、112と、周辺露光処理後のウェハWの欠陥を検査する検査室113と、ウェハWを鉛直方向に搬送する搬送アーム130を備えた搬送室114とを有している。 - 特許庁
To realize a method for inspecting a semiconductor device, which can inspect for the presence of generation of etching stop phenomenon or a mis-etching during hole formation with a simple visual inspection, can find defects in manufacture at a early stage, and can prevent flow out of the defect to a next step.例文帳に追加
ホール形成時におけるエッチングストップ現象又は抜け不良の発生の有無を簡単な外観検査により検査することができ、製造不良を早期に発見することができると共に、次工程への流出を防止することができる半導体装置の検査方法を提供する。 - 特許庁
The method of inspecting a leakage in an oil hole eliminates the case where the cylinder block having no defects is rejected in the leakage inspection in the oil hole, due to the mis-evaluation of the leakage in the oil hole which is caused by the internal leakage from the oil hole into the crank room.例文帳に追加
このオイルホールの漏れ検査方法によれば、オイルホールの漏れ検査で、オイルホールからクランクルームへの内部漏れに起因して、オイルホールの漏れが過大評価されて不合格とされる場合がなくなり、本来、合格と判定するべきシリンダブロックを適切に合格と判定することができる。 - 特許庁
To provide a paper sheet processing device and its operation condition inspection method for correcting a conveying attitude of a paper sheet fed out onto a conveying passage for prevent various defects due to a bad attitude and easily inspecting an operation condition of the device.例文帳に追加
この発明は、搬送路上に取出した紙葉類の搬送姿勢を補正でき、姿勢不良に起因した種々の不具合を防止でき、装置の動作状態を容易に点検できる紙葉類処理装置、およびその動作状態の点検方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
Defects are detected by connecting connection terminals of an inspection device with the scanning lines and the signal lines of an active matrix substrate or the active matrix liquid crystal panel and by applying a several times higher voltage of a liquid crystal display device to the active matrix substrate or the active matrix liquid crystal panel.例文帳に追加
アクティブマトリクス基板、又はアクティブマトリクス液晶パネルの走査線及び信号線、又は対向電極に検査装置の接続端子を接続して、アクティブマトリクス基板、又はアクティブマトリクス液晶パネルに液晶表示装置の数倍の電圧を印加し、欠陥検出する。 - 特許庁
Signal intensity of the acquired image of the partial area and an area ratio between a desired inspection area and the partial area are used to determine a detection threshold so that the number of signals showing signal intensity equal to or more than the detection threshold becomes equal to or less than the target number of pseudo defects in the desired detection area.例文帳に追加
取得された一部領域の像の信号強度と、所望検査領域と一部領域の面積比を用い、所望検査領域において検出しきい値以上の信号強度を示す信号数が目標擬似欠陥数以下になるように検出しきい値を決定する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing for high quality liquid crystal display substrates for inspection with neither admixture of air bubbles nor gap non-uniformity disturbing recognition of defects and the assembling device in the liquid crystal display substrates used for evaluation of a manufacturing process of the liquid crystal display substrates.例文帳に追加
本発明は液晶表示基板の製造プロセスの評価に用いる液晶表示基板において、不良発見の妨げとなる気泡の混入やギャップ不良の無い高品質な検査用液晶表示基板の製造方法及び組立装置を提供することを目的としている。 - 特許庁
To provide a welding defect automatically detecting method in radiographic inspection capable of automatically and precisely separating and identifying and detecting various kinds of defects by a picture processing technique from a welding part which is irradiated with radiation by a radiographic device and capable of quantitatively evaluating the grades of them.例文帳に追加
放射線透過装置によって放射線が照射された溶接部から、画像処理技術により各種欠陥を自動的に精度良く分離・識別して検出すると共に、それらのグレードを定量的に評価できる放射線透過検査における溶接欠陥自動検出法を提供する。 - 特許庁
To prevent damage of an image forming apparatus and defects of image formation, which are caused by operator's misoperations, and misoperations at the time of maintenance and inspection, by surely setting a heat roller and a pressure roller to a press-fitting state when installing and operating the apparatus and to simplify and miniaturize the fixing device to reduce the cost.例文帳に追加
設置稼働時に加熱ローラ及び加圧ローラが必ず圧着状態になり、オペレータの操作ミスや保守点検時の操作ミスによる画像形成装置のダメージや画像形成不良の防止がなされると共に、定着装置の簡単小型化及びそれによるコストダウンを達成する。 - 特許庁
To automatically divide an exposure mask into regions without requiring manual work of a worker by extracting and classifying a characteristic part of the mask pattern in the process of inspecting pattern defects in the exposure mask, and to improve inspection efficiency and its reliability or the like.例文帳に追加
露光用マスクにおけるパターン欠陥を検査するのにあたり、マスクパターンの特徴部分を抽出分類することで、作業者の手作業を要することなく自動的にその露光用マスク上を領域分割し得るようにし、これにより検査効率やその信頼性の向上等が図れるようにする。 - 特許庁
To enable selecting an illumination angle for enlarging an effective inspection range and excellently detecting defects by suppressing generation of reflection, and to improve irregularity detection ability with improved image contrast between irregularity defect and a normal part by reducing limitations of illumination angle in an irregularity inspection device and method for detecting irregularity defect of an inspected object having a periodic pattern.例文帳に追加
周期性のあるパターンをもつ被検査体のムラ欠陥を検出するためのムラ検査装置および方法において、映り込みの発生を抑制して、有効な検査範囲の拡大、良好な欠陥の検出が可能な照明角度を選択できるようにすること、また照明角度の制限を減らすことによって、ムラ欠陥と正常部との画像コントラストの向上が期待でき、結果的にムラ検出能力を向上すること - 特許庁
To provide a defect inspecting apparatus and its method for sensitively and quickly inspecting defects, such as minute foreign particles, flaws, etc. of the order of 0.1μm on an inspection substrate, such as a wafer having a transparent thin film on a surface, a wafer having a circuit pattern, etc.例文帳に追加
表面に透明薄膜が形成されたウェハ等の被検査対象基板はもとより、回路パターンを有するウェハ等の被検査対象基板に対して、0.1μmレベルの微小な異物やキズ等の欠陥を、高感度で、しかも高速に検査できるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁
The defect inspecting apparatus has a laser source 3, and a linear sensor 13 for detecting reflection light from a sample 1 irradiated with laser beams emitted from the laser source 3 and an observation camera 24 for acquiring defect inspection images for detecting defects on the sample by the linear sensor and acquiring the observation images of the samples by the observation camera.例文帳に追加
レーザ源3と、レーザ源3から出射したレーザ光によって照射された試料1からの反射光を検出するリニアセンサ13と観察カメラ24とを有し、上記リニアセンサにより試料上の欠陥を検出するための欠陥検査画像を取得し、上記観察カメラにより試料の観察画像を取得する。 - 特許庁
To provide a detection signal processing method for periodic defects, capable of detecting surely micro irregular flaws having several μm of unevenness difficult to be visually confirmed in an object of coarse surface roughness to be inspected, and difficult to be automatically detected as detected by grinding inspection with a grindstone, and a device therefor.例文帳に追加
表面粗さの粗い被検査対象物において通常視認困難で、砥石がけ検査により検出しているような自動検出が困難な、凹凸が数μm程度の微小凹凸性疵を確実に検出できるようにした、周期性欠陥の検出信号処理方法及びその装置を提供する。 - 特許庁
The liquid crystal inspection system comprises a lighting optical systems 1, 2, 3 for having an object 4 irradiated with a substantially collimated light, a light-receiving means 5 for receiving the transmitted light from the object 4, and an image processing means 6 for detecting optical defects in the object 4, through contrast enhancing of the image of the object 4.例文帳に追加
被検物4に略平行光を照射する照明光学系1、2、3と、前記被検物4からの透過光を受光する受光手段5と、前記被検物4の画像のコントラストを強調して前記被検物4中の光学的欠陥を検出可能にする画像処理手段6とを有する液晶検査装置。 - 特許庁
A feature data merging means 108 merges feature data satisfying prescribed conditions into one piece of feature data (merges the feature data of plural close defects) concerning feature data (such as maximum value, minimum value and area value) for each of defective areas provided from image information (surface images of the inspection object).例文帳に追加
特徴データ統合手段108は、画像情報(検査対象物の表面画像)から得られた欠陥領域毎の特徴データ(最大値、最小値、面積値)において、所定の条件を満たす特徴データを1つの特徴データに統合する(近くにある複数の欠陥の特徴データを統合する)。 - 特許庁
To accurately discriminate when using a laser light scattering surface inspection device whether a light scattering bodies on a mirror-finished silicon wafer surface, is caused by sticking foreign objects such as sticking dust or caused by minute defects.例文帳に追加
レーザ光散乱式表面検査装置を用いて測定検出された鏡面加工シリコンウエハ表面上の光散乱体が、付着ダスト等の異物付着に起因する光散乱体であるか、または、微細欠陥に起因する光散乱体であるかを正確に識別できるシリコンウエハ表面微細欠陥の評価方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for assuring strength of a cast product, which can reliably assure that a cast product is free from internal defects in terms of the size of the product that can cause strength problems to assure the strength of the cast product more accurately than before without increasing the performance of a defect inspection device.例文帳に追加
欠陥検査装置の能力アップを要することなく、鋳造製品に強度上問題となるサイズの内部欠陥が存在しないことを確実に保証することにより、従来よりも高い精度で、鋳造製品の強度を保証することができる鋳造製品の強度保証方法を提供する。 - 特許庁
In step S1, a defect detection processing for extracting the ordinates of a new defect and a detection size by a prescribed process is performed, after a prescribed process by using an area reducing function of an inspection device, and in step S3, existence of a new defect is determined in chip unit by a discrimination condition validating all detected new defects.例文帳に追加
ステップS1で、検査装置の面積縮小機能を用いて所定の工程後に所定の工程による新規欠陥の座標及び検出サイズを抽出する欠陥検出処理を行い、ステップS3で、検出されたすべての新規欠陥を有効とする識別条件で新規欠陥の有無をチップ単位に判定する。 - 特許庁
To provide a lens-defect inspection device capable of inspecting the defects of a lens with high accuracy, while preventing foreign matters adhered to the lens from being deemed a defect by effectively using a facial illuminator, a liquid crystal panel, an imaging means and a foreign-matter removal means and which is made simple in constitution and cane beg formed at low cost.例文帳に追加
面照明と液晶パネル、撮像手段及び異物除去手段等の効果的な使用により、レンズに付着した異物を欠陥として判定することを防止しつつ、レンズ自体の欠陥を高精度に検査できると共に、構成簡易にして安価に形成可能なレンズ欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
To inspect various sizes of transparent materials without changing optical magnification, a distance from a light source to a screen or luminous intensity of the light source in an inspection device wherein a light beam emitted from the light source is made to pass through the transparent material such as sheet glass and is projected on the screen so that defects in the transparent material can be detected.例文帳に追加
光源から放射される光ビームを、板ガラスのような透明材料を透過させてスクリーンに投影し、透明材料内の欠陥を検出する検査装置において、光学倍率、光源からスクリーンまでの距離、または光源の光度を変えることなしに、種々のサイズの透明材料の検査を可能にする。 - 特許庁
In this inspection method, a transparent specimen 5 is located between polarizers 3 and analyzers 9 arranged with their plane polarization stems perpendicularly-intersected each other, and plane polarization luminous flux are bidirectionally-impinged towards the specimen, to detect the defects 13, 14, 16 of the specimen based on images 12, 15 bidirectionally-picturized from the above-mentioned specimen.例文帳に追加
直線偏光軸が互いに直交するように配置された偏光子3と検光子9との間に透明な被検物5を設置し、直線偏光光束を被検物に対して2方向から入射させ、上記被検物の2方向から撮像した画像12,15に基づいて被検物の欠陥13,14,16を検出する。 - 特許庁
The inspection apparatus of a display device includes: a plurality of stages to which at least one display panel is loaded; and a plurality of cameras arranged on at least one of the plurality of stages and capable of photographing the display panel while moving from one side of the display panel to the counter side on the corresponding stage to inspect defects of the display panel.例文帳に追加
表示装置の検査装置は、少なくとも1つの表示パネルがロードされる複数のステージと、前記複数のステージの少なくとも1つに配置され、対応するステージで表示パネルの一辺側から対辺側に移動しながら前記表示パネルを撮影して表示パネルの不良を検査する複数のカメラとを含む。 - 特許庁
To provide a surface defect inspection device usable for detecting a surface defect such as micro-unevenness and a protrusion in an inspected object and for detecting and inspecting a defect accompanied by a concentration change on a surface, and capable of detecting easily and precisely the surface defects in the inspected objects having a plurality of kinds of diameters and lengths.例文帳に追加
被検査物の微小な凹凸、突起等の表面の欠陥の検出、さらに併せて表面の濃度変化を伴う欠陥の検出・検査に利用することができ、複数種類の直径や長さの被検査物の表面欠陥を精度よく容易に検出できる表面欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
In the color liquid crystal display device, insulating substrates 31 on which analog amplifiers 14 at which defects are easily generated are formed and insulating substrates 30 on which circuit parts other than the analog amplifiers 14 are formed are separately prepared, conforming/nonconforming inspection thereof are performed and only the conformed insulating substrate 31 are mounted on the conformed insulating substrate 30.例文帳に追加
このカラー液晶表示装置では、不良が発生し易いアナログアンプ14が形成された絶縁基板31と、アナログアンプ14以外の回路部分が形成された絶縁基板30とを別々に用意し、それぞれの良否をテストし、良好な絶縁基板31のみを良好な絶縁基板30に実装する。 - 特許庁
To provide a letterpress having few pattern defects when manufacturing an organic electronic device such as an organic electroluminescent element at a letterpress printing method, an inspection method for a letterpress for implementing in advance to preventing of the pattern defect, a manufacturing method for an organic electronic device using the same letterpress, and an organic electronic device using the same letterpress.例文帳に追加
有機エレクトロルミネッセンス素子をはじめとする有機電子デバイスを凸版印刷法で作製する際、パターン欠陥の少ない凸版、及びパターン欠陥を防止するために予め行う凸版の検査方法、並びにそれを用いた有機電子デバイスの製造方法並びにそれを用いた有機電子デバイスを提供する。 - 特許庁
To provide a method of inspecting a color filter defect in a color filter substrate which allows extraction of contaminations and defects (singularities) such as white pins on the color filter substrate with high accuracy by simultaneously imaging a color filter pattern by a line sensor and setting an inspection area used as a reference, and comparatively inspecting adjacent repetitive patterns.例文帳に追加
ラインセンサでカラーフィルタパターンを撮像すると同時に基準となる検査エリアを設定し、隣り合う繰り返しパターンを比較検査して、カラーフィルタ基板の異物、白ピン等の欠陥(特異点)を精度良く抽出するためのカラーフィルタ基板のカラーフィルタ欠陥検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an inspection method for high-frequency circuit chip manufacturing substrate, in which defects such as breaking and short circuit of a transmission line are easily discovered, even when a direct current bypass channel is formed between both ends of the transmission line to be inspected, in a condition in which a substrate unit is not divided.例文帳に追加
基板単位を分離しない状態において、検査対象となる伝送線路の両終端間に直流バイパス経路が形成される場合でも、該伝送線路の断線や短絡などの不具合を容易に発見することができる高周波回路チップ製造用基板の検査方法を提供する。 - 特許庁
To provide a sample analysis method and an apparatus by which desired locations such as foreign substances and defects detected by inspection of all or part of a wafer are accurately located without cutting or separating the wafer, and are analyzed by various kinds of analytical apparatuses, with processing them into a sample piece suitable for various kinds of analyses.例文帳に追加
半導体ウエハやデバイスチップから所望の特定領域を含む試料片のみをサンプリング(摘出)して、分析/計測装置の試料ステ−ジに、経験や熟練や時間のかかる手作業の試料作り工程を経ることなく、マウント(搭載)する試料作製方法およびその装置を提供すること。 - 特許庁
The ultrasound inspection method for noisy materials and the related probe are disclosed to inspect defects in a cast material that uses a polycarbonate delay (14) layer having a first surface configured to be disposed on a surface of the cast material and an acoustic crystal element (12) disposed on a second surface of the polycarbonate delay layer.例文帳に追加
鋳造材料の欠陥を検査するために、鋳造材料の表面上に配置されるように構成された第1の表面を有するポリカーボネートディレイ(14)層と、該ポリカーボネートディレイ層の第2の表面上に配置された音響水晶素子(12)とを用いた、雑音のある材料の超音波検査方法及び関連するプローブが開示される。 - 特許庁
To significantly improve convenience of data processing by storing all of image data in a primary storage device, namely, a memory that allows direct access to any part of the image data, in a device that collects a large amount of image data in a defect inspection device or the like for semiconductor photomasks and allows a computer to detect defects on photomasks on the basis of the image data.例文帳に追加
半導体用フォトマスクの欠陥検査装置等の大量の画像データを収集し、その画像データに基づいてコンピュータがフォトマスク上の欠陥を検出する装置などでは、画像データの任意の部分に直接アクセスできる一次記憶装置、即ちメモリ上にその全てを収納できるならばデータ処理の利便性が飛躍的に向上する。 - 特許庁
Then vibration sound generated when the respective hammers 2a-2d shake the sheet W is collected by condenser microphones 3a-3d provided corresponding to the inspection regions A-D in the sheet W, and the collected vibration sound is subjected to frequency analysis to compute the presence or absence, and the position of defects in the sheet W.例文帳に追加
そして、前記各ハンマー2a〜2dが前記薄板Wを加振したときに発生した振動音を、前記薄板Wの検査領域A〜Dに対応して設けられたコンデンサーマイク3a〜3dで集音し、前記集音された振動音を周波数分析して前記薄板Wの欠陥の有無及び位置を演算するようにした。 - 特許庁
The inspection method includes obtaining information of true defects in the display substrate by means of a first image signal by a first light beam traveling from the display substrate to a photodetector and a second image signal by a second light beam for which the first light beam is passed through a polarizing filter having a polarizing angle different at 90° against a polarizing angle by the display substrate.例文帳に追加
検査方法は、表示用基板から光検出手段に向かう第1の光による第1の画像信号と、第1の光を表示用基板による偏光角度に対し90°異なる偏光角度を有する偏光フィルタに通した第2の光による第2の画像信号とを用いて、表示用基板の真の欠陥情報を得ることを含む。 - 特許庁
An ultrasonic inspection device is constituted of an ultrasonic scanning section equipped with a local immersion type ultrasonic probe 1, the driving section of the scanning section, and an arithmetic processing section which controls the scanning section through the driving section and executes inspections on a coating film formed on the surface of a base material which is an object to be inspected for defects.例文帳に追加
超音波検査装置については、局部水浸式の超音波プローブ1を備えた超音波走査部と、当該超音波走査部の駆動部と、当該駆動部を介して前記超音波走査部を制御し、被検体である母材表面に形成された皮膜の欠陥検査を実行する演算処理部とから超音波検査装置を構成する。 - 特許庁
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