「process of inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

To decrease a carrying work of a photomask in an inspection process and to easily and rapidly inspect photomasks with different exposure wavelengths by using one simulator.例文帳に追加

検査工程におけるフォトマスクの搬送作業を低減できるようにすると共に、露光波長の異なるフォトマスクを同一のシミュレータを用いて簡単、かつ迅速に検査できるようにする。 - 特許庁

To provide a check sheet registration system in which development costs of a check sheet to be used for work process management, inspection report and the like can be reduced and efficiency in a check sheet entry job can be improved.例文帳に追加

作業の工程管理、検査報告等で用いるチェックシートの開発コストを軽減すると共に、チェックシート記入業務の効率向上が可能なチェックシート登録システムを提供する。 - 特許庁

To automatically perform a series of operations until the process fit for the purpose is completed, with a manufacturing device, by uniting an inspection device, the manufacturing device, a wafer sorting function, and a wafer carrier.例文帳に追加

検査装置と製造装置およびウェハー仕分け機能、ウェハー搬送装置が一体となって製造装置が目的にあったプロセスが完了するまで自動的に一連の繰作を行う。 - 特許庁

To determine an illumination angle not dependent so much on dispersion in an angle for an inspection area generated in a production process for products, when determining the illumination angle emitted toward the inspection area for a semiconductor substrate or the like for providing the plurality of products.例文帳に追加

複数の製品を取ることができる半導体基板などの検査領域に、照射する照明の角度を決定する際、製品の作製工程で発生する検査領域の角度のばらつきに大きく依存されない照明の角度を決めることを目的とする。 - 特許庁

The sheet inspection sampling counter numbering system comprises a display means performing sampling inspection at a specified timing in a print process, and a means for printing at least the number of printed sheets at sampling on a printed matter thus sampled.例文帳に追加

印刷工程における抜き取り検査のための抜き取りを所定のタイミングで行なうための表示手段と、抜き取った印刷物に少なくとも抜き取り時の印刷枚数を印字する手段とを備えたことを特徴とする検紙抜き取りカウンタナンバリングシステム。 - 特許庁

To obtain a wide-ranged and precise one-dimensional image of a printed circuit board, to cope with a mass production process, and to obtain an inspection result quickly and precisely, in an inspection device for inspecting optically through holes provided in the printed circuit board.例文帳に追加

プリント回路基板に設けられた貫通穴を光学的に検査する検査装置において、プリント回路基板の広範囲かつ高精度の一次元画像を得ることができ、量産工程に対応でき、高速かつ高精度で検査結果が得られるようにする。 - 特許庁

(a) Scattered light from a surface of a sample after the same process as that of an inspection object is observed to detect defects based on the intensity of the scattered light, and the positions of the detected defects and the intensity of scattered light caused by the defects are acquired.例文帳に追加

（ａ）検査対象物と同一の処理を経たサンプルの表面からの散乱光を観測して、散乱光の強度に基づいて欠陥を検出し、検出された欠陥の位置、及び当該欠陥に起因する散乱光の強度を取得する。 - 特許庁

To provide an optimal support tool as a means of carrying out a precise inspection, especially in the case patterns of fine slit-shape are worked in a row, and as a means of preventing deformation troubles at the time of transfer in a manufacturing process of a metal mask.例文帳に追加

メタルマスクの製作工程において、特に微細なスリット状のパターンが整列して加工された場合に検査を精確に実施するための手段として、また、搬送時の変形トラブルを防ぐための手段として、最適な保持具を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device and a defect inspection method using the device capable of reducing a maintenance work, transferring accurately defect information detected in upper processes to lower processes, and recognizing surely the defect in the lower process even when a defect detector installed in the lower process is simplified.例文帳に追加

保守作業を少なくすることができ、かつ正確に上工程で検出した欠陥情報を下工程に伝達することができ、たとえ下工程に設置する欠陥検出器を簡単なものとした場合であっても下工程で欠陥を確実に認識することができる欠陥検査装置およびそれ用いた欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

The terminal A includes a communicating part 8 and a processing part A6 which carries out processes for transmitting through the communicating part to the server B request information including predetermined data needed for inspection or measurement made by an image process for a product handled as the subject of inspection by a customer using the terminal A, and for receiving the image process program delivered from the server B.例文帳に追加

端末Ａは、通信部８と、これを通じて、当該端末Ａ側の顧客が扱う検査対象物としての製品に対する画像処理による検査または計測に必要な所定データを含むリクエスト情報をサーバＢに送信するとともにそのサーバＢから配信されてくる画像処理プログラムを受信する処理を行う処理部Ａ６とを含む。 - 特許庁

The inspection method of a semiconductor wafer includes a process of preparing a wafer formed with a chip region which will become a semiconductor chip, a first probe test for inspecting the wafer by probing, a process of pressing the electrode of the wafer by a pressurization member having a flat plane, and a second probe test for inspecting the wafer by probing.例文帳に追加

半導体ウェハの検査方法は、 半導体チップとなるチップ領域が形成されたウェハを準備する工程と、 前記ウェハをプロービングによって検査する第１プローブ検査と、 平坦面を有する加圧部材によって、前記ウェハの電極を押圧する工程と、 前記ウェハをプロービングによって検査する第２プローブ検査と、を含む。 - 特許庁

To solve the problem wherein important abnormalities cannot be detected for all wafers, because a baseline formed by the residual scores of each wafer subjected to maintenance and inspection deviates from a baseline formed by the residual scores of each wafer not being subjected to maintenance and inspection, and because it exceeds abnormality decision line and decides the process of a processor as being abnormal.例文帳に追加

図９に示すように保守点検後の各ウエハの残差得点によって形成されるベースライン▲２▼が保守点検前の各ウエハの残差得点によって形成されるベースライン▲１▼から変動して異常判定ラインＬを超え、処理装置のプロセスを異常と判定し、全てのウエハについて本来の異常を検知できない。 - 特許庁

To provide a system and method for processing and inspection of biological samples which increase automation and its accuracy, decrease travel of the sample processed in an inspection process, and also decrease delay time, possibility of degradation in inconvenient and repetitive diagnostic/treatment processes.例文帳に追加

自動化および自動化に関する精度を増加させ、検査プロセスにおいて処理される標本の移動の量を減少させ、そして遅れ時間、不都合ならびに反復的な診断工程および処理工程に関する分解の可能性を減少させる、生物学的標本の処理および検査のシステムおよび方法を提供すること。 - 特許庁

If it is determined to be an area to perform three dimensional inspection by the determination process, the inspection area is photographed a plurality of times by the photographing part while projecting the lattice fringe by a lattice fringe projection part and shifting the projection location of the lattice fringe, and the three dimensional shape is inspected from the image photographed a plurality of times.例文帳に追加

また、判断処理で３次元検査を行う領域と判断した場合に、格子縞投射部で格子縞を投射させると共にその格子縞の投射位置をシフトさせながら、該当する検査領域を撮影部で複数回撮影して、その複数回撮影された画像から３次元形状を検査する。 - 特許庁

A portable terminal device 13 reads the ID information of the RFID tag 16A, creates a work record of the process of isolating a part to be isolated and restoration, and sends the record to the work management server computer 200 via a network 5 and a network 3 so that inspection/isolation information in the inspection/isolation DB 207 can be quickly updated.例文帳に追加

携帯端末装置１３は、ＲＦＩＤタグ１６ＡのＩＤ情報を読み出して隔離箇所の隔離処理、復旧の作業記録を作成し、ネットワーク５およびネットワーク３を介して、作業管理サーバ計算機２００に送り、点検・隔離ＤＢ２０７の点検・隔離情報を迅速に更新可能とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a band pass microstrip filter without the need for an adjustment process of a center frequency of the pass band on the basis of a frequency characteristic measurement result through the measurement and inspection of a frequency characteristic after manufacturing of the filter.例文帳に追加

フィルタ製造後にその周波数特性を測定検査し、その後周波数特性測定結果をもとに通過帯域の中心周波数の調整工程を行なうことを必要としない帯域通過型マイクロストリップフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system for defect classification capable of shortening the work time of the visual examination of a product determined to be defective by an automatic inspection machine in a manufacturing process of a color filter or the like and capable of efficiently performing the input work of defect classification data.例文帳に追加

カラーフィルタ等の製造工程において、自動検査機で不良と判定された製品についての目視検査の作業時間を短縮するとともに、不良区分情報の入力作業を効率良く行うことができる不良分類システムを提供する。 - 特許庁

To provide a magnetic tape cassette capable of simply measuring the perpendicularity of a roller shaft and of stably transporting the magnetic tape, and provide a guide roller support structure and a roller shaft inclination measuring method capable of simplifying the measurement/inspection process of the perpendicularity of the roller shaft.例文帳に追加

ローラ軸の垂直度を簡単に測定できる磁気テープカセット、磁気テープを安定して走行させることができる磁気テープカセット、及び、ローラ軸の垂直度の測定検査工程を簡略できるガイドローラ支持構造並びにローラ軸傾斜計測方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reflection-type mask blank and a reflection-type mask for EUV exposure that eliminate the need for a low-reflection layer made of TaBO etc., which is difficult to work, are adaptive to a shorter wavelength of inspection light, and have a black defect corrected without requiring any complicated process even when the black defect is found through process inspection, and to provide a manufacturing method and an inspecting method thereof.例文帳に追加

本発明は、加工の困難なＴａＢＯ等からなる低反射層を不要とし、検査光の短波長化にも対応可能で、工程検査で黒欠陥が見つかった場合でも、複雑な工程を要することなく欠陥修正が可能なＥＵＶ露光用の反射型マスクブランクス及び反射型マスク、その製造方法、並びに検査方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

The image data processing method includes a haze value measuring process for measuring the haze value corresponding to each of the respective surface positions of the wafer using a wafer surface inspection device and a noise removing process for removing a noise component by performing the processing of image data along the measuring direction of the haize value with respect to the image data comprising the haze value corresponding to each of the surface positions of the wafer.例文帳に追加

ウェーハ表面検査装置を用いて、ウェーハ表面の各位置に対応したヘイズ値を測定するヘイズ値測定工程と、ウェーハ表面の各位置に対応したヘイズ値からなる画像データに対し、ヘイズ値の測定方向に沿って画像データ処理を行ってノイズ成分を除去するノイズ除去工程とを含む画像データの処理方法である。 - 特許庁

To provide a semiconductor inspection device and method that minimize damage to a semiconductor substrate due to illumination light (UV light) in the ultraviolet range thereby achieving inspection or observation using an image of high resolution or resolving power, and achieving efficient inspection etc., using UV light suitable to a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

紫外領域の照明光（ＵＶ光）による半導体基板へのダメージを最小限に抑え、分解能または解像度の高い画像での検査または観察を行うことを可能とし、半導体製造工程に適した効率的なＵＶ光による検査等を行なうことが可能な半導体検査装置および方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a press plate process device for exhibiting functions for monitoring and managing working states after defining an operator in charge of operation to allow the working to progress as to the progress of item work for allowing respective devices such as an RIP machine/inspection machine in a press plate process to progress.例文帳に追加

刷版工程において、ＲＩＰ機・検査機といった刷版工程の各装置を進行する品目作業の進行について、作業責任者を明確にした上で作業状況をモニタ管理し、進行させる機能を発揮する装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

This inspection method for a three-dimensional object arranged on a sheet-like body is provided with a process for acquiring an image picked up from a direction capable of imaging a side face of the three-dimensional object, using a wide angle lens, and a process for inspecting the three-dimensional object based on the image.例文帳に追加

板状物体上に配置されている三次元物体を検査するための方法であって、広角レンズを用いて三次元物体を側面が映し出される方向から撮像した画像を取得する工程と、画像に基づいて前記三次元物体を検査する工程とを備える。 - 特許庁

To provide an analysis display device of a defective factor for deciding the validity of an analysis result in regard to data items extracted by the analysis as a defective factor, in defective factor analysis using data obtained from a manufacturing process and an inspection process, and for selecting appropriate detailed data required for planning measures to improve the manufacturing process.例文帳に追加

生産プロセスと検査プロセスから取得されるデータを用いた不良要因分析において、分析により不良要因として抽出されたデータ項目について、分析結果の妥当性の判断と、生産プロセスの改善策の立案に必要な、適切な詳細データを選択する不良要因の分析表示装置を提供する。 - 特許庁

In a spacer forming process F31 for forming a plate-shaped spacer inserted between a cathode substrate and an anode substrate in a method of manufacturing the FED, excess parts to be dummies at both ends of the spacer in its longitudinal direction are prepared in advance, and the spacer is handled using the excess parts in a subsequent spacer inspection process F32 or a spacer cleaning process F33.例文帳に追加

ＦＥＤの製造方法として、カソード基板とアノード基板との間に介装される板状のスペーサを作成するスペーサ作成工程Ｆ３１で、スペーサの長手方向の両端に予めダミーとなる余剰部を設けておき、その後のスペーサ検査工程Ｆ３２やスペーサ洗浄工程Ｆ３３では、余剰部を用いてスペーサを取り扱う。 - 特許庁

To remotely operate opening and closing of a blowout and/or suction opening of an air conditioning duct arranged in a nuclear power plant, to eliminate the need to install a temporary scaffold, and to realize shortening of an inspection process and cost reduction.例文帳に追加

原子力発電所内に配設された空調ダクトの吹出口及び／又は吸込口を遠隔位置から開閉操作可能とし、仮設足場の設置を不要とするとともに、点検工程の短縮とコスト削減を実現する。 - 特許庁

To provide a screening method of semiconductor laser element in which a semiconductor laser element having low COD (catastrophic optical damage) resistant characteristics can be eliminated surely by performing nondestructive inspection of the COD resistant characteristics, and to provide a fabrication process of optical head device.例文帳に追加

耐ＣＯＤ特性を非破壊で検査することにより、耐ＣＯＤ特性が低い半導体レーザ素子を確実に排除可能な半導体レーザ素子の選別方法、および光ヘッド装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In light of the fact that this committee handles information concerning the inspection and supervision of a specific financial institution, the process of review will not be open to the public. However, its reports will be made public in principle. 例文帳に追加

なお、本委員会は個別金融機関に対する検査・監督に関する情報等を扱うこと等に鑑み、検証作業は非公開とするが、報告書については原則として公表することにしたいと思っております。 - 金融庁

In an inspection process of crystallinity of a p-Si film 23, irradiation light Lout is emitted to the p-Si film 23 and an a-Si film 230 to acquire transmission images of the p-Si film 23 and the a-Si film 230.例文帳に追加

ｐ−Ｓｉ膜２３の結晶化度の検査処理の際に、ｐ−Ｓｉ膜２３およびａ−Ｓｉ膜２３０へ向けて照射光Ｌoutを照射し、ｐ−Ｓｉ膜２３およびａ−Ｓｉ膜２３０の透過画像を取得する。 - 特許庁

The whole property is inspected in a customized method composed of repeated call of the property inspection schema related to each of the operators F(p), G(p), U(p, q), and X(p), and a standard process to an atomic proposition and Boolean operator.例文帳に追加

特性全体は、Ｆ（ｐ）、Ｇ（ｐ）、Ｕ（ｐ， ｑ）、Ｘ（ｐ）の各演算子に関する特性検査スキーマの反復呼び出しと、原子命題およびブール演算子の標準的な処理で構成されるカスタマイズされた方法で検査される。 - 特許庁

To simplify the quality inspection process of a product after the machining by judging the machining condition of a work even in machining with the machining load not reaching a rated load of a motor, and to remarkably reduce the machining cost.例文帳に追加

加工負荷が電動機の定格負荷量に達しない加工を行っているときでも、被加工物の加工状態を判定し、これによって加工後における製品の品質検査工程を簡素化して、加工コストを大幅に低減させる。 - 特許庁

To provide a mold releasing film for a liquid crystal polarizing plate, formed of a polyester film that can achieve high accuracy in an inspection of processing aptness by a crossed-Nicol method, in widening and quality improvement of a process for manufacturing a liquid crystal polarizing plate.例文帳に追加

液晶偏光板の製造工程の広幅化や高品質化において、加工適正、のクロスニコル法による検査において、高度な精度を実現できるポリエステルフィルムからなる液晶偏光板用離型フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a method for inspecting nonvolatile memories 1 capable of reducing the probability of mixture of the nonvolatile memories 1 to be actually used on the market and become defectives by adding an inspection process in which a manufacturing side and a receiving side are combined.例文帳に追加

製造側と受け入れ側とを組合わせた検査工程を追加して、市場で実使用されて不良品となる不揮発性メモリ１の混在確率を低減することができる不揮発性メモリ１の検査方法を提供する。 - 特許庁

To measure not only the height of outermost layer, but also the height of the upper surface (or lower surface) of the other layers of an inspection object, constituted by forming a transparent or translucent material layer on a material layer, in a single scanning/imaging process.例文帳に追加

一の材料層に透明或いは半透明の材料層が形成されてなる被検物に対し、一回の走査・撮像工程で、その最表層の高さのみならず、それ以外の層の上面（或いは下面）高さをも測定できるようにする。 - 特許庁

To provide configuration of a contact probe card capable of easily uniform arrangement in a manufacturing process of the contact probe card by being applied to inspection of a minute electronic circuit element arranged in a compact state and comparatively facilitating elastic deformation.例文帳に追加

コンパクトな状態にて配置された微細な電子回路素子の検査に適用でき、弾性変形が比較的容易であり、かつコンタクトプローブカードの製造工程において容易に均一な配置を可能とするようなコンタクトプローブカードの構成を提供すること。 - 特許庁

To provide an inspection tool which reduces the occurrence probability of receiving converters having characteristics degraded by deformation of waveguide parts or the like and is used in a manufacturing process of reception devices like receiving converters, and to provide a method of manufacturing the reception devices.例文帳に追加

導波管部の変形などにより特性の劣化した受信用コンバータの発生確率を低減することが可能な、受信用コンバータなどの受信装置の製造工程において用いる検査治具および受信装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the inspection process, whenever formation of each elongated hole 7a-7d is finished, or when the formation of the circuit pattern is finished, it is inspected whether the resultant processed portion of the punched hole 4 in each of the elongated holes 7a-7d is perforated or not.例文帳に追加

検査工程では、各長孔７ａ〜７ｄの形成が終了する毎に、または回路図柄の形成が終了したときに、長孔７ａ〜７ｄにおける打ち抜き孔４の最終加工箇所が穿孔されているか否かを検出する。 - 特許庁

To provide a method for inspecting the emission of laser beams capable of easily inspecting at a low cost the defective emission of laser beams in the product using a high speed emission waveform, in which the increase of a defect is expected due to the complication is furthered hereafter, even in the component inspection process.例文帳に追加

今後さらに複雑になり不良が増大すると予想できる高速発光波形を用いる製品でのレーザ発光不良の検査を、低コストで、簡易に、部品検査工程でも行なえるレーザ発光検査方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that it is necessary to detect the center and direction of a disk in order to correctly allign the disk to a stage upon a surface inspection in a manufacturing process of a patterned medium, but the direction of the disk can not be detected in the case of the present disk.例文帳に追加

パターンドメディアの製造過程における表面検査時に、ディスクをステージに正確にアライメントするために、ディスクの中心及び方向を検出する必要があるが、現状のディスクではディスクの方向を検出することができない。 - 特許庁

Prior to putting the wafer into the wafer process, one part of a contact layer 6 of the wafer forming a device is eliminated to form an opening 11, and an excitation laser 9 is applied from the opening 11 to perform PL wavelength inspection for the active layer 3.例文帳に追加

ウェハプロセス投入前に、デバイスを形成するウェハのコンタクト層６の一部を除去して開口部１１を形成し、開口部１１から励起レーザ９を入射して活性層３のＰＬ波長検査を行う。 - 特許庁

To provide a highly versatile support capable of performing electric connection between the conductive pattern of the support and a slider, and easily and efficiently executing a slider holding process, and an inspection method using the same.例文帳に追加

支持体の導電パターンとスライダとの電気的接続を良好にでき、スライダ保持工程を容易に効率良く行え、汎用性の高い支持体、およびこの支持体をを用いた検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resistance measuring method capable of measuring accurately and stably an electric resistance of a sheet-shaped, cloth-shaped or film-shaped measuring object, and a component inspection process to which the resistance measuring method is applied.例文帳に追加

シート状や布状や膜状の測定対象物の電気抵抗の測定を正確かつ安定に行なうことができる抵抗測定方法およびその抵抗測定方法が適用された検査部品プロセスを提供する。 - 特許庁

To improve the inspection efficiency of registration accuracy while assuring the quality of a semiconductor device regarding a measurement control device for controlling the registration accuracy method in a semiconductor- manufacturing process.例文帳に追加

本発明は半導体製造プロセスにおいて重ね合わせ精度の手法を制御する測定制御装置に関し、半導体デバイスの品質を保証しつつ、重ね合わせ精度の検査効率を高めることを目的とする。 - 特許庁

To provide a parts housing and a method and device of inspecting parts using the same part housing where a time for transferring a part is not required, in addition to a time required for inspecting the part, thus the efficiency of an inspection process can be improved.例文帳に追加

検査を要する時間以外に部品を移載する時間が不要となり、検査工程の効率を向上させることができる部品収納体及びそれを用いた部品検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁

After a resist pattern formation process with a prescribed layer of a semiconductor wafer, a selected wafer is irradiated with an inspection light which causes fluorescence emission in the resist pattern, for example, ultraviolet ray (UV) of a prescribed wavelength band.例文帳に追加

半導体ウェハ所定層におけるレジストパターン形成工程終了後、選ばれたウェハは、そのレジストパターンに対して蛍光発光させる検査用の光、例えば所定の波長帯を有する紫外線（ＵＶ）を照射する。 - 特許庁