「diffusion region」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of manufacturing the semiconductor device includes: forming an etching inhibition layer 107; then forming an n-type extension region (diffusion layer) 112 and a p-type extension region (diffusion layer) 115 in a silicon substrate (semiconductor substrate) 104; and then cleaning the top surface of the silicon substrate 104 in a state where the etching inhibition layer 107 is formed.例文帳に追加

半導体装置の製造方法では、エッチング抑制層１０７を形成した後に、シリコン基板（半導体基板）１０４内にn型エクステンション領域（拡散層）１１２およびp型エクステンション領域（拡散層）１１５を形成した後、エッチング抑制層１０７を形成した状態でシリコン基板１０４の上面を洗浄する。 - 特許庁

In addition, in such a case in which an S-shaped diffusion region 30 is formed with the use of an ultrasonic machining horn with a plurality of machining dots arranged in matrix shape, the bending dots 32 are not always positioned at an outer edge of the diffusion region 30, so that an effect of providing the groove part 34 is great.例文帳に追加

加えて、複数の加工ドットがマトリックス状に配置された超音波加工用ホーンを用いてＳ字形状の拡散領域３０を形成するような場合には、拡散領域３０の外縁に屈曲ドット３２が常に位置するとは限らないため、溝部３４を設けることによる効果が大きい。 - 特許庁

To provide an electron beam curable composition for formation of a light diffusion film or a sheet being excellent in light diffusion of a cured product, having a chromaticity coordinate of a transmitted beam in a white light region, preventing wavelength dependence of a transmitted beam and allowing a smaller degree of yellowing after light resistance test; and a light diffusion film or a sheet obtained from the composition.例文帳に追加

硬化物の光拡散性に優れ、透過光の色度座標は白色光領域であり、透過光に波長依存性がほとんどなく、耐光性試験後の黄変度が小さい光拡散フィルム又はシート形成用電子線硬化型組成物、及び当該組成物から得られた光拡散フィルム又はシートの提供。 - 特許庁

With a mask pattern 9 formed on a first conductive type semiconductor substrate 1 as a mask, a pair of first low-concentration diffusion regions 4 of second conductive type and a pair of second low-concentration diffusion regions 3 of a second conductive type which is deeper than the first low-concentration diffusion region 4 and of high concentration are formed.例文帳に追加

第１導電型の半導体基板１上に形成したマスクパターン９をマスクとして、第２導電型の一対の第１低濃度拡散領域４と、第１低濃度拡散領域４よりも深くかつ高濃度の第２導電型の一対の第２低濃度拡散領域３と、を形成する。 - 特許庁

The MOS transistor 100, 100a, 100b formed on a semiconductor substrate 90, and having a drain region 20 and a backgate region 40 comprising different conductive type diffusion layers 21, 22, 41 and 42 is characterized in that the drain region 20 and the backgate region 40 are arranged adjacent to each other, and have a region with a PN-junction formed on the adjacent surface.例文帳に追加

半導体基板９０に形成され、異なる導電型の拡散層２１、２２、４１、４２からなるドレイン領域２０とバックゲート領域４０とを有するＭＯＳトランジスタ１００，１００ａ、１００ｂであって、 前記ドレイン領域２０と前記バックゲート領域４０とが隣接して配置され、隣接面にＰＮ接合が形成された領域を有することを特徴とする。 - 特許庁

The P base layer 2 for each IGBT cell has a flat region 2FR, through a bottom 2BF of which a main trench 6 passes and which has an emitter region 3; and also has first and second side diffusion regions 2SDR1 and 2SDR2 having the flat region 2FR disposed therebetween.例文帳に追加

各ＩＧＢＴセルのＰベース層２は、１）主トレンチ６によってその底部２ＢＦが貫通され且つエミッタ領域３を有する平坦領域２ＦＲと、２）平坦領域２ＦＲを挟み込む第１及び第２サイド拡散領域２ＳＤＲ１，２ＳＤＲ２を有している。 - 特許庁

A region just under a charge holding part, of the bottom surface of both sides of the projection of a semiconductor substrate having a projection step in the cross-section in the direction perpendicular to the gate electrode is formed as a part of the diffusion layer region completely working as the source/drain on the active region.例文帳に追加

ゲート電極に垂直な方向の断面において、凸部の段差を有する半導体基板の凸部両側底面であって電荷保持部の直下である領域が、活性領域上では、全てソース／ドレインである拡散層領域の一部である構造にした。 - 特許庁

The semiconductor device is formed with P-type embedded diffusion regions 4 discretely connected to a partial bottom face of the P-type body region 3, each extending in a direction parallel to the substrate surface, and having high concentration relative to that of the N-type drift region 5 so that respective tips reach the inside of the drift region 5.例文帳に追加

そして、Ｐ型ボディ領域３の一部底面に離散的に連結すると共に、それぞれが基板面に平行な方向に延伸し、各先端がドリフト領域５内に達するよう、Ｎ型ドリフト領域５より高濃度のＰ型埋め込み拡散領域４が形成される。 - 特許庁

Further, the diffusion reflection plate is manufactured by using a photomask 32 prepared by combining a region of pattern of size of resolution limit or more, a region of pattern less than resolution limit and a region having no pattern and, thereby, the liquid crystal display device can be manufactured with a few processes, at a good yield and at a low cost.例文帳に追加

また、この拡散反射板を、解像限界以上のサイズのパターンの領域と解像限界未満のパターンの領域とパターンのない領域とを組み合わせたフォトマスク３２を用いて作製することにより、少ない工程で歩留まり良く安価に作製できるようにする。 - 特許庁

Each impurity diffusion region 13 or 16 is formed in a projecting shape as a whole with an extension 13a or 16a which is formed in such a way that the front end section of the section 13a or 16a is extended to a spot below the wiring region 17 or 18 so that the region 13 or 16 may be utilized as wiring.例文帳に追加

Ｐ型及びＮ型不純物拡散領域１３，１６は、延出部１３ａ，１６ａを有して全体が凸状に形成されており、また延出部１３ａ，１６ａはその先端部がそれぞれ電源配線領域１７，１８の下部まで延出されて、配線として利用可能になっている。 - 特許庁

A cap film for supplying hydrogen to a region sandwiched between the embrittled region and the surface of the semiconductor substrate and preventing the diffusion of hydrogen from the embrittled region is provided for the semiconductor substrate, whereby a semiconductor layer can be transferred from the semiconductor substrate to a base substrate.例文帳に追加

そして、脆化領域からの水素の拡散を防ぎ、且つ脆化領域と半導体基板の表面に挟まれた領域に水素を供給できるキャップ膜を半導体基板に形成し、当該半導体基板からベース基板に半導体層を転載する発明に至った。 - 特許庁

The impurity atoms introduced for forming the light-absorbing region can be those of any elements, except Cu and Cr, and the region must be formed separately from a region immediately underlying the ridge, by taking the movement of the introduced atoms caused by heat diffusion into consideration.例文帳に追加

光吸収領域形成のために導入される不純物原子は、ＣｕやＣｒを除けばどのような原子でもよく、また導入した原子の熱拡散による移動を考慮して光吸収領域はリッジの直下領域から離れて形成されている必要がある。 - 特許庁

A p^+-type diffusion layer 15 is not formed just under the n^+-type source 17E unlike an n^+-type source region 17 in a region A and a sheet resistor R1 in the n^+-type source region 17E is larger than a sheet resistor R2 in the n^+-type source 17 (R1>R2).例文帳に追加

ｎ＋型ソース領域１７Ｅの直下には、領域Ａのｎ＋型ソース領域１７と異なり、ｐ＋型拡散層１５は形成されておらず、ｎ＋型ソース領域１７Ｅのシート抵抗Ｒ１は、ｎ＋型ソース領域１７のシート抵抗Ｒ２よりも大きい（Ｒ１＞Ｒ２）。 - 特許庁

In order to form the impurity diffusion regions, trenches embedded with a conductive film 10 are formed in parts of the base region, and then an impurity having the same conductivity type as that of the base region are ion-implanted into the side walls and bottoms of the trenches in a lower concentration than that of the base region and then are diffused.例文帳に追加

ベース領域の一部に導電膜１０が埋め込まれたトレンチを形成し、その側壁及び底部にベース領域と同じ導電型の不純物をベース領域の不純物濃度より低濃度にイオン注入し、拡散して前記不純物拡散領域が形成される。 - 特許庁

One- side edges of a plurality of n-type divided drift path regions 1 are pn-joined to a p-type channel diffusion region 7, and the other edges are connected to an n^+-type drain region 9 so that a drift path group 100 connected in parallel can be formed so as to be branched from the n^+-type drain region 9 side.例文帳に追加

複数のｎ型分割ドリフト経路域１の一方端はｐ型のチャネル拡散領域７にｐｎ接合し、それらの他端はｎ＋型のドレイン領域９に接続しており、ｎ＋型のドレイン領域９側から分岐して並列接続のドリフト経路群１００を形成している。 - 特許庁

In an n channel type horizontal IGBT 10, a metal silicide layer 9a is formed on a P+ diffusion layer 12 which is isolated from an N-epitaxial layer 4 with a p-base 11 therebetween and an N+ diffusion layer 13 for use as an emitter region.例文帳に追加

ｎチャネル型の横型ＩＧＢＴ１０では、Ｎ-エピタキシャル層４とはｐベース１１を介在させて隔てられているＰ+拡散層１２と、エミッタ領域としてのＮ+拡散層１３とには、金属シリサイド層９ａが形成されている。 - 特許庁

The first conductive layer connects to the first and second high concentration diffusion regions, and a second conductive layer electrically contacts and connects to the third high concentration diffusion region.例文帳に追加

フィールド酸化層は、第一高濃度拡散区、第二高濃度拡散区と第三、第四高濃度拡散区を隔離し、第一導電層は、第一及び第二高濃度拡散区を連接し、第二導電層は、第三高濃度拡散区と接触して電気連接する。 - 特許庁

The edge on a source diffusion layer 8 side of the trench element separation region 16 almost agrees with that of the charge accumulation layer 20 and control gate 24, with the source diffusion layer 8 formed flat without bending in the semiconductor substrate 2.例文帳に追加

そして、トレンチ素子分離領域１６のソース拡散層８側のエッジは、電荷蓄積層２０及び制御ゲート２４のエッジとほぼ一致しており、ソース拡散層８は半導体基板２内に屈曲することなく平面状に形成される。 - 特許庁

A front-end heat treatment operation for reducing outward diffusion of carbon from a carbon-containing region, for example, oxidation and/or annealing process is performed at a high temperature in a short period so that carbon is remained as it is for preventing or reducing dopant diffusion.例文帳に追加

ドーパントの拡散を防止又は軽減するために炭素がそのまま残るように、炭素含有領域から炭素の外方拡散を軽減するためにフロントエンド熱処理動作、例えば、酸化及び／又はアニールプロセスが高温で、短い期間行なわれる。 - 特許庁

The non-volatile memory device of the present invention includes first and second impurity diffusion regions formed on a semiconductor substrate and a memory cell formed over a channel region between the first and second impurity diffusion regions of the semiconductor substrate.例文帳に追加

本発明の不揮発性メモリ素子は、半導体基板に形成された第１及び第２不純物拡散領域、前記第１及び第２不純物拡散領域の間の半導体基板のチャンネル領域上に形成されたメモリセルを含む。 - 特許庁

In an optical control system for uniformly diffusing a transmitted light in a defined angle region, the optical control diffusion element includes a surface relief hologram diffraction grating and a surface relief hologram diffusion element for giving a predetermined illumination pattern to a diffused light.例文帳に追加

透過光を定められた角度範囲へ一様に拡散させる光制御システムにおいて、表面レリーフ型ホログラム回折格子と拡散光が特定の照明パターンを持つ表面レリーフ型ホログラム拡散体を含む光制御拡散体。 - 特許庁

In the DRAM and logic circuit forming region of a semiconductor device on which a DRAM and logic circuit are mixedly mounted, contact holes 8 for diffusion layers 6 and metallic wiring M1 are formed at prescribed positions by depositing interlayer insulating films 7 on the diffusion layers 6.例文帳に追加

ＤＲＡＭとロジック回路とが混載される半導体装置にあって、ＤＲＡＭ及びロジック回路の形成領域において、拡散層６上に層間絶縁膜７を堆積し、所定位置に拡散層６とメタル配線Ｍ１とのコンタクトホール８を形成する。 - 特許庁

Gates FG1 to FG4 in a square or circular annular shape in plan view are formed so that the center section of the diffusion layers L1 and L2 surrounded by the element separation region is exposed, and at the same time the edge sections at both sides of the diffusion layers L1 and L2 are covered.例文帳に追加

平面視で角形又は円形の環状を呈するゲートＦＧ１〜ＦＧ４を、素子分離領域によって囲まれた拡散層Ｌ１，Ｌ２の中央部を露出させ、かつこの拡散層Ｌ１，Ｌ２の両側のエッジ部を覆うように形成する。 - 特許庁

A reflection angle is made large, at an interface between the light-diffusion particle and the depletion part so that reflection of the fluorescent light converted by the scintillator layer 13 is produced in the small region, and suppresses lowering of the resolution or the luminance due to diffusion of the reflected light to long distance.例文帳に追加

光散乱性粒子と空乏部との界面での屈折角が大きくなり、シンチレータ層13により変換された蛍光の反射が小領域内で生じ、反射光の遠方拡散による解像度低下や輝度の低下を抑える。 - 特許庁

A second element has: a second body region 31 which is formed in the element forming film adjacent to the first element; a second impurity diffusion layer 7; and a third impurity diffusion layer 9 which is formed in the element forming film and reaches the insulating film.例文帳に追加

第２の素子は、第１の素子に隣接し、素子形成膜に形成される第２のボディ領域３１と、第２の不純物拡散層７と、素子形成膜に形成され絶縁膜に到達した第３の不純物拡散層９とを有する。 - 特許庁

Furthermore, an error diffusion/binary transform section 15 transforms the dot image data of each multilevel color plate into dot image data of each color plate consisting of binary basic colors by applying an error diffusion method only to pixels in the region of each individual dot.例文帳に追加

さらに、誤差拡散／二値変換部１５は、その多階調の色版別の網点画像データを、個々の網点の領域内にある画素についてのみ誤差拡散法を施すことで、２値の基本色からなる色版別の網点画像データに変換する。 - 特許庁

N-type first and second electrode diffusion layers 221 and 222 and a p-type third electrode diffusion layer 23 are formed in the same step as that at the time, when an n-channel or p-channel MOSFET source/drain region is formed.例文帳に追加

Ｎチャネル型やＰチャネル型のＭＯＳＦＥＴのソース／ドレイン領域の形成時と同一の工程でＮ型の第１電極用拡散層２２１及び第２電極用拡散層２２２、Ｐ型の第３電極用拡散層２３を形成する。 - 特許庁

When a person does not exist within a photographing region, diffusion light is emitted from one or two lights (or no irradiation light is emitted from either of the lights 41A or 41B) according to the brightness of the photographing region.例文帳に追加

撮影領域内に人物が存在していない場合には、撮影領域の明るさに応じて１つ又は２つのライトに拡散光を出射させる（或いは、ライト４１Ａ及び４１Ｂの何れにも照射光を出射させない）。 - 特許庁

Each of the capacitors at both ends of the active region 40 has an impurity diffusion layer in the inner wall of the isolation trench 2 (the side wall of the active region 40) as the storage electrode, and the N type conductive film 4n in the isolation trench 2 as the cell plate electrode.例文帳に追加

活性領域４０の両端のキャパシタは、分離トレンチ２の内壁（活性領域４０の側壁）の不純物拡散層をストレージ電極とし、分離トレンチ２内のＮ型導電性膜４ｎをセルプレート電極とする。 - 特許庁

The edge part of the semiconductor layer (intrinsic region 3) in a current direction is formed into a P+ diffusion region, so the edge part serves as an anode electrode 6 to prevent a current determining the performance of the optical sensor element from flowing through the edge part.例文帳に追加

電流方向における半導体層（真性領域３）のエッジ部分をＰ＋拡散領域にしたので、このエッジ部分がアノード電極６となり、光センサ素子の性能を決める電流がエッジ部分に流れることを防止できる。 - 特許庁

When layout-arranging a compensation capacitance part of a semiconductor device having the internal power supply and the compensation capacitance part supplying power to the internal power supply, a rectangular region of a diffusion layer is arranged in a region configuring the compensation capacitance part.例文帳に追加

内部電源と、該内部電源に電源を供給する補償容量部を有する半導体装置の補償容量部のレイアウト配置の際に、補償容量部を構成する領域に拡散層の矩形領域を配置する。 - 特許庁

Further, variable capacity is provided with a conductor 12 connecting the well region 3 positioned below the insulating film 4 and exposed from a cut-out 11, and a region below the diffusion layer 6.例文帳に追加

さらに、当該切り欠かれた部分１１から露出している、絶縁膜４の下方に位置するウエル領域３と、拡散層６の下方の領域とを接続する導電体１２を、本発明に係る可変容量はさらに備えている。 - 特許庁

Moreover, an n-type floating diffusion 33, n-type drain region 34, and an n-type source region 35 of the gate electrode 32 are also formed in the side of the first surface more than the photodiode 21 with the overlapping plane kept therewith.例文帳に追加

さらに、フォトダイオード２１と平面的に重なりをもって、フォトダイオード２１よりも第１面側に、ｎ型のフローティングディフュージョン３３と、ゲート電極３２のｎ型のドレイン領域３４およびｎ型のソース領域３５が形成されている。 - 特許庁

Further, when a region facing the sheet member of the mother sheet M1 is clipped, a region facing the light guide plate 22 of the mother substrate M2 is clipped so that a diffusion sheet positioned on the light guide plate 22 is formed.例文帳に追加

そして、マザーシートＭ１のシート部材に相対する領域を切抜くときに、マザー基板Ｍ２の導光板２２に相対する領域を切抜き、導光板２２に位置決めされた状態の拡散シートを形成するようにした。 - 特許庁

An exhaust ink absorbing member 92 is composed by laminating ink absorbing bodies 94 and an ink diffusion space 100 is formed in a container 80 by varying the number of laminated layers of the ink absorbing body 94 from region to region.例文帳に追加

排インク吸収部材９２は、インク吸収体９４が積層されて構成されており、領域ごとにインク吸収体９４の積層枚数を変えることで、容器８０内に、インク拡散空間１００が構成される。 - 特許庁

The ratio Rsch of a region on a Schottky junction 7 to a region of an anode electrode 1, the cell pitch W, the diffusion depth Xj of a p+ anode layer 2 meet a relation W<K(Xj/Rsch) with K set to 5 or less.例文帳に追加

ショットキー接合部７の領域のアノード電極１の領域に対する割合Ｒsch と、セルピッチＷと、Ｐ^+ アノード層２の拡散深さＸJ の関係を、Ｗ＜Ｋ（Ｘj ／Ｒsch ）を満足させながら、Ｋの値を５以下とする。 - 特許庁

To provide a printed matter in which two images are visually recognized under different observation conditions, that is, in a diffusion light region and in a specular reflection light region under a visible light source by using precise dot constitution.例文帳に追加

本発明は、緻密な網点構成を用いることにより、可視光源下における拡散光領域及び正反射光領域という異なる観察条件において、二つの画像を視認可能な印刷物を提供する。 - 特許庁

A PMOS transistor Q21 formed in a PMOS forming region A2 is constituted so that a source and drain region 25 is formed by passing through the buried oxide film 4 to a threshold voltage diffusion layer 28 of the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

ＰＭＯＳ形成領域Ａ２に形成されるＰＭＯＳトランジスタＱ２１において、ソース・ドレイン領域２５は埋め込み酸化膜４を貫通して半導体基板１の閾値電圧制御拡散層２８に達して形成される。 - 特許庁

The gate structure is a structure with a Pt-Ti-O region composed of amorphous titanium that oxygen is doped in the grain boundary 6 (including grain boundary near-field region 7) among platinum microcrystals 5 and a platinum-titanium diffusion layer.例文帳に追加

ゲート構造において、プラチナ微結晶５間の結晶粒界６（粒界近傍領域７を含む）に酸素をドープした非晶質のチタン、プラチナ−チタン拡散層からなるＰｔ−Ｔｉ−Ｏ領域を形成した構造とする。 - 特許庁

By forming a dielectric separation film 120 in a closed loop shape in a silicon layer 112, an n-type semiconductor layer region 130 in the silicon layer 112 is insulated and separated, and a diffusion resistor 131 is formed inside the region 130.例文帳に追加

シリコン層１１２中に誘電体分離膜１２０を閉ループ状に形成することによりシリコン層１１２中のｎ−型半導体層領域１３０を絶縁分離し、その内側に拡散抵抗１３１を形成する。 - 特許庁

To provide a fuel cell system capable of supplying stable voltage in a wide range from a low load region to a high load region and having an electrode diffusion layer substrate preventing the dryness of a membrane-electrode assembly to a high degree.例文帳に追加

低負荷領域から高負荷領域までの広い範囲において、安定した電圧を供給することができ、膜−電極接合体の乾燥を高度に防ぐ電極拡散層基材を有する燃料電池システムを提供する。 - 特許庁

The p^+ type diffusion layer 110 is formed in the region neighboring a first end part 102a in the source region side of the Locos oxide layer 102 and is doped with an impurity having conductivity type that is reverse to that of the n^- type active layer 101.例文帳に追加

ｐ＋拡散層１１０は、Ｌｏｃｏｓ酸化層１０２のソース領域側の第１端部１０２ａに隣接する領域に形成され、ｎ−活性層１０１とは導電型が逆の不純物が注入される。 - 特許庁

To prevent blooming of the readout gate section of a solid-state image pickup device, in which an impurity region for potential barrier is formed in the deep portion of a photodiode section, by suppressing the influence of thermal diffusion in the impurity region on the adjacent readout gate section.例文帳に追加

フォトダイオード部の深部にポテンシャルバリア用の不純物領域を形成する固体撮像装置において、不純物領域の熱拡散が隣接する読み出しゲート部に及ぶことを抑制し、この部分のブルーミングを防止する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a high-breakdown voltage semiconductor device, which can avoid increase in a junction leakage, due to a damaged region generated on a semiconductor substrate at the formation of an LDD low-concentration impurity diffusion structure in the case where an offset region is provided.例文帳に追加

オフセット領域を設ける場合、ＬＤＤ構造を形成する際に半導体基板に生成するダメージ領域に起因して接合リークが増加することを回避できる高耐圧半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the semiconductor device, an NMOS transistor Q11 formed in an NMOS transistor forming region A1 is constituted so that a source-drain region 15 is formed by passing through a buried oxide film 4 to a threshold voltage diffusion layer 18 of a semiconductor substrate 1.例文帳に追加

ＮＭＯＳ形成領域Ａ１に形成されるＮＭＯＳトランジスタＱ１１において、ソース・ドレイン領域１５は埋め込み酸化膜４を貫通して半導体基板１の閾値電圧制御拡散層１８に達して形成される。 - 特許庁