例文 (999件) |
connection layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3007件
The connection storage layer is provided between the connection conductive layer and the semiconductor connection part.例文帳に追加
接続部記憶層は、接続部導電層と半導体接続部との間に設けられる。 - 特許庁
The connection conductive layer faces the semiconductor connection part.例文帳に追加
接続部導電層は半導体接続部に対向する。 - 特許庁
The connection conductor layer 24b is provided over the connection conductor layer 20b.例文帳に追加
接続導体層24bは、接続導体層20b上に設けられている。 - 特許庁
The connection conductor layer 24a is provided over the connection conductor layer 20a.例文帳に追加
接続導体層24aは、接続導体層20a上に設けられている。 - 特許庁
INTER-LAYER CONNECTION HOLE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
層間接続穴およびその製造方法 - 特許庁
An upper connection layer 4 and a lower connection layer 5 are provided for achieving serial connection and parallel connection between fluid control devices.例文帳に追加
流体制御機器間の直列接続および並列接続を行う接続層が、上接続層4および下接続層5よりなる。 - 特許庁
The connection layer 12 is a discontinuous layer of a granular structure.例文帳に追加
接続層12が粒状構造をもつ不連続層である。 - 特許庁
Put the SMTP connection in TLS (Transport Layer Security) mode. 例文帳に追加
TLS(Transport Layer Security)モードでSMTPコネクションを出し、全てのSMTPコマンドは暗号化されます。 - Python
Drain - gate connection layers 41a and 41b are formed on a second-layer interlayer insulation layer 71, and each connects the drain - drain connection layer 31a and the gate-gate connection layer 21b, and the drain - drain connection layer 31b and the gate - gate connection layer 21a.例文帳に追加
ドレイン−ゲート接続層41a,41bは、第2層目の層間絶縁層71上に形成され、其々がドレイン−ドレイン接続層31aとゲート−ゲート接続層21b、ドレイン−ドレイン接続層31bとゲート−ゲート接続層21aを接続する。 - 特許庁
The portion of the connection layer is at least 90 wt.% of the connection layer created from the solder layer.例文帳に追加
該接続層の一部は、上記はんだ層から生成された接続層の少なくとも90重量%である。 - 特許庁
The portion of the connection layer is at least 90% by weight of the connection layer created from the solder layer.例文帳に追加
該接続層の一部は、上記はんだ層から生成された接続層の少なくとも90重量%である。 - 特許庁
A connection-side flexible wiring board 31 comprises a connection-side base layer 29 and a connection-side conductor layer 30.例文帳に追加
一方、接続側フレキシブル配線板31を、接続側ベース層29および接続側導体層30により構成する。 - 特許庁
CONNECTION CONTROL DEVICE AND PHYSICAL LAYER LSI AND CONNECTION CONTROL SYSTEM例文帳に追加
接続制御機器ならびに物理層LSIおよび接続制御システム - 特許庁
A connection layer 11, an insulating layer 12, and a cover-lay layer 13 are formed in the mounting area 6a.例文帳に追加
実装エリア6aに、接続層11、絶縁層12、カバーレイ層13を形成する。 - 特許庁
To improve reliability of connection between a wiring layer and an external connection electrode.例文帳に追加
配線層と外部接続電極との接続信頼性を向上させる。 - 特許庁
The anti-ferromagnetism layer 22 and the first layer 311 is subjected to switched connection.例文帳に追加
反強磁性層22と第1層311は交換結合している。 - 特許庁
MUTUAL CONNECTION LAYER AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING THE LAYER例文帳に追加
相互接続層および同層を備えた半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
A flip-flop is constituted of two gate-to-gate electrode layers situated in the first-layer conductive layer, a drain-to-drain connection layer situated in the second-layer conductive layer and a drain-to-gate connection layer situated in the third-layer conductive layer.例文帳に追加
フリップフロップは、第1層導電層に位置する二つのゲート-ゲート電極層、第2層導電層に位置するドレイン-ドレイン接続層、第3層導電層に位置するドレイン-ゲート接続層により構成される。 - 特許庁
To form a diffusion barrier for a mutual connection layer of a semicon ductor device, especially for a mutual connection layer of copper.例文帳に追加
半導体デバイスの相互接続層、特に銅の相互接続層のための拡散バリアを形成すること。 - 特許庁
To secure connection between an electrode layer and a copper wiring layer while keeping adhesiveness between an insulating layer and an adhesion layer.例文帳に追加
絶縁層と密着層との密着性を保ちつつ、電極層と銅配線層との接続を確保する。 - 特許庁
Then, an electrode connection layer 11 covering the wiring layer 10 is formed.例文帳に追加
次に、配線層10を被覆する電極接続層11を形成する。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING INNER SURFACE LAYER AND CONDUCTIVE CONNECTION DEVICE例文帳に追加
内面層形成方法および導電接続装置 - 特許庁
An interlevel dielectric layer 21 is stacked on the gate electrode 17, a metallic mutual connection layer is stacked on the interlevel dielectric layer 21 and they are patterned.例文帳に追加
すなわち第1レベル間誘電体層を形成する前におこなうのがよい。 - 特許庁
HANDLING DEVICE FOR LAYER 2 LINK AND ITS PATH CONNECTION METHOD例文帳に追加
レイヤ2リンクのハンドリング装置及びそのパス接続方法 - 特許庁
The connection includes 1-2 layer connection to second layer printed wiring from the surface and 1-3 layer connection to a third printed wiring from the surface.例文帳に追加
接続は、表面から数えて2層目のプリント配線に対する1−2層接続と、表面から数えて3層目のプリント配線に対する1−3層接続である。 - 特許庁
The EL film does not completely coat the connection electrode layer surface, and a region where the connection electrode layer surface is exposed is formed.例文帳に追加
また、上部電極層の抵抗に起因する電圧降下が抑制された発光装置を提供する。 - 特許庁
STRUCTURE AND METHOD FOR CONNECTION OF DOUBLE LAYER PIPE, AND DOUBLE LAYER PIPE例文帳に追加
複層配管の接続構造、複層配管の接続方法および複層配管 - 特許庁
The scar treatment silicone dressing is used for attaching onto a wound of the skin and comprises a silicone layer, a surface layer, a connection layer, and a protection film.例文帳に追加
皮膚の傷口に貼って使用し、シリコン層と、表面層と、接合層と、保護膜と、からなる。 - 特許庁
The first connection metal layer 41 and the second connection metal layer 31 are subjected to eutectic bonding or diffusion bonding.例文帳に追加
そして、第1の接続金属層41と第2の接続金属層31とが共晶接合又は拡散接合される。 - 特許庁
Insulation oil is impregnated in the connection part insulation layer 21.例文帳に追加
接続部絶縁層21には、絶縁油が含浸されている。 - 特許庁
ELECTRODE FOR CONNECTION OF VIA-HOLE HAVING PROJECTED PART AT INTERNAL LAYER SIDE例文帳に追加
内層側に凸出部のあるビアホール接続用の電極 - 特許庁
First, an antioxidant layer is provided by forming a zinc layer on the connection pad or by selectively etching the connection pad.例文帳に追加
先ず、亜鉛層が接続パッドに形成されるか接続パッドを選択的エッチングすることで抗酸化層を形成する。 - 特許庁
Further, electric connection is performed by the conductive layer of the recessed portion and the connection member of the projected portion, and the peripheries of the conductive layer and connection member are sealed with a sealing member.例文帳に追加
さらに、凹部の導電層と凸部の接続部材とで電気的に接続し、封止部材で導電層と接続部材の周囲を封止する。 - 特許庁
Regarding a connection pad 5, a connection pad 5a and a connection pad 5b are provided along the extending direction of a surface layer line 9a and a surface layer line 9b.例文帳に追加
接続パッド5は、接続パッド5aと接続パッド5bとが、表層線路9aと表層線路9bの延伸方向に沿って設けられる。 - 特許庁
In this case, the drain/gate connection layer 41a is connected to the gate electrode layer 21b without forming any contact pad layer between an inter-layer insulating layer 65 and an inter-layer insulating layer 71.例文帳に追加
層間絶縁層65と層間絶縁層71との間にコンタクトパッド層を形成することなく、ドレイン−ゲート接続層41aとゲート電極層21bとの接続を行っている。 - 特許庁
The Cu wiring layer 11 is formed on the ceramic layer 12 or the Ag connection layer 14 via this Ag thin-film layer 15.例文帳に追加
Cu配線層11は、このAg薄膜層15を介してセラミック層12やAg接続層14上に形成されている。 - 特許庁
The wiring groups respectively have connection parts and non-connection parts with the circuits along the directions of the wirings and the intervals between the same layer stem wirings within the connection are made two times wider than those between the same layer stem wirings within the non-connection.例文帳に追加
配線グループは、配線方向に沿って、該回路に対する接続部と非接続部とを有し、接続部内の同層幹配線間隔は非接続部内のそれの2倍である。 - 特許庁
In a connection structure area 3, a conductive connection part 30 is provided so as to penetrate the insulator layer 10 and connect the metal support layer 11 to the wiring connection part 16 of the wiring layer 12.例文帳に追加
接続構造領域3において、絶縁層10を貫通し、金属支持層11と配線層12の配線接続部16とを接続する導電接続部30が設けられている。 - 特許庁
MULTI-LAYER PRINTED CIRCUIT BOARD IMPROVED IN INTER-LAYER ELECTRICAL CONNECTION AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
層間電気接続が向上された多層印刷回路基板及びその作製方法 - 特許庁
Electrical connection of the metal layer 32 and the ITO layer 31 is performed through a through hole 34.例文帳に追加
メタル層32とITO層31との電気的接続は、スルーホール34を介して行う。 - 特許庁
The base connection layer 4 and the anode layer 3 are formed by an identical process.例文帳に追加
そして、前記ベース接続層4と前記アノード層3とを同一工程で形成する。 - 特許庁
A molybdenum(Mo) bottom layer 12 is provided for a lowermost layer of outer connection pads 11b.例文帳に追加
外部接続パッド11bの最下層にモリブデン(Mo)からなるボトム層12を設ける。 - 特許庁
The second connection metal layer 31 and the oxidation prevention layer 52 are formed of, for instance, Ge.例文帳に追加
第2の接続金属層31及び酸化防止層52は例えばGeで形成される。 - 特許庁
A wiring substrate 4 has a base end electrode layer and a connection electrode layer and bent between a first connection electrode layer 5a connected to the first transparent heat generating layer 3a and a second connection electrode layer 5b connected to the second transparent heat generating layer 3b.例文帳に追加
配線基板4は、基端部電極層と接続部電極層とを有し、第1透明発熱層3aに接続される第1接続部電極層5aと第2透明発熱層3bに接続される第2接続部電極層5bとの間で折り曲げられている。 - 特許庁
例文 (999件) |
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
この対訳コーパスは独立行政法人情報通信研究機構の研究成果であり、Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 Unportedでライセンスされています。 |
Copyright 2001-2004 Python Software Foundation.All rights reserved. Copyright 2000 BeOpen.com.All rights reserved. Copyright 1995-2000 Corporation for National Research Initiatives.All rights reserved. Copyright 1991-1995 Stichting Mathematisch Centrum.All rights reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|