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「formation region」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索
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formation regionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1711



例文

This results in the formation of alternately deposited layers of a low refractive index region 12 having the physical film thickness dL and the equivalent refractive index nL* and a high refractive index region 13 having the physical thickness dH and the equivalent refractive index nH*.例文帳に追加

その結果、物理的厚さがd_Lで、等価屈折率がn_L*の低屈折率領域12と、物理的厚さがd_Hで等価屈折率がn_H*の高屈折率領域13を交互に積層したものが形成される。 - 特許庁

When the level is within the easy-to-recognize region of the change (low air quantity region), an air quantity map is formed so that the air quantity operation amount by manual setting passes through operation data having large contribution degree of air quantity map formation.例文帳に追加

そして、ブロワ風量の変化が分かり易い領域(低風量域)の場合には、手動設定による風量操作量は、風量マップ形成の寄与度の大きい操作データを通るように風量マップを形成する。 - 特許庁

Conversely, a gate insulating film 14b and a gate electrode 15b are formed on the semiconductor substrate 11 surrounded by the groove type element separation region 13 at a second p-type MIS transistor formation region Tp2.例文帳に追加

一方、第2のP型MISトランジスタ形成領域Tp2には、溝型素子分離領域13に囲まれた半導体基板11上にゲート絶縁膜14b及びゲート電極15bが形成されている。 - 特許庁

After that, a collector aperture 110 having a width W3 larger than the width W2 of an active region is formed in the film 108 and the layer 109 in an HBT formation region Rbp.例文帳に追加

その後、HBT形成領域Rbpにおいて第1の堆積酸化膜108及びポリシリコン層109に活性領域の幅W2よりも広い幅W3を有するコレクタ開口部110を形成する。 - 特許庁

例文

At formation of a first conductivity-type impurity region and a second conductivity-type impurity region respectively on the surface of the semiconductor epitaxial, a high performance PN diode, having superior characteristics for leakage current is formed.例文帳に追加

半導体エピタキシャルの表面に各々第1導電型の不純物領域及び第2導電型の不純物領域を形成すると、優れた漏洩電流の特性を有する高性能PNダイオードが形成できる。 - 特許庁


例文

On a TMR lower electrode 28, a TMR element 5 (TMR film 29, TMR upper electrode 31) is selectively formed in the region corresponding to a part of the formation region of a digit line 25d in top view.例文帳に追加

TMR下部電極28上において、平面視してデジット線25dの形成領域の一部に該当する領域にTMR素子5(TMR膜29,TMR上部電極31)が選択的に形成される。 - 特許庁

Then region parts of the gate electrode material layers present outside the gate electrode formation expected regions are removed, and a gate electrode 41 is formed of a region part of the remaining gate electrode material layer.例文帳に追加

そして、ゲート電極形成予定領域の外側に存在するゲート電極材料層の領域部分を除去するとともに、残存したゲート電極材料層の領域部分からゲート電極41を形成する。 - 特許庁

In the semiconductor device, a gate insulating film 14a and a gate electrode 15a are formed on a semiconductor substrate 11 surrounded by a groove-type element separation region 13 at a first p-type MIS transistor formation region Tp1.例文帳に追加

第1のP型MISトランジスタ形成領域Tp1には、溝型素子分離領域13に囲まれた半導体基板11上にゲート絶縁膜14a及びゲート電極15aが形成されている。 - 特許庁

An island region of an epitaxial layer is isolated by a high concentration side isolation layer and a low concentration side isolation layer, and breakdown voltage is improved by forming a channel formation region with the same impurity concentration as a low concentration side isolation layer.例文帳に追加

エピタキシャル層の島領域を高濃度側分離層と低濃度側分離層により分離し、低濃度側分離層と同じ不純物濃度をもったチャネル形成領域を形成して、素子耐圧の向上を図る。 - 特許庁

例文

The slope produced in a part along the reserved region in the processed region in the preceding step is removed by the process of the succeeding step, which prevents the formation of projections by adjacent slopes in opposite directions.例文帳に追加

先の工程で加工した領域のうち保存した領域に沿う部位に生じていた傾斜面が後の工程の加工で除去されて、逆向きの傾斜面が隣接して成す突起が生じるのが避けられる。 - 特許庁

例文

This printing device 100 is provided with: a printable region information acquisition part 201; an image acquisition part 202; a determination part 203; a calculation part 204; a print region formation part 205; a print part 207; and a display part 206.例文帳に追加

印刷装置100は、印刷可能領域情報取得部201と、画像取得部202と、判断部203と、算出部204と、印刷領域形成部205と、印刷部207と、表示部206とを備える。 - 特許庁

The N^+ layer 10 is provided at the left side end part of the element formation region 20 so as to be surrounded by the element isolation region, the P^+ source layer 9, and the P^+ source layer 11 and also provided at the bottom of the P^+ source layer 11.例文帳に追加

N^+層10は、素子分離領域、P^+ソース層9、及びP^+ソース層11に取り囲まれるように素子形成領域20の左側端部に設けられ、P^+ソース層11の底部にも設けられる。 - 特許庁

To provide an image forming system, an image forming apparatus, and an image forming method capable of suppressing the formation of a duplicate region of image and a blank region while suppressing the complication of processing by a user.例文帳に追加

ユーザの処理の煩雑化を抑制しながら、画像の重複領域や空白領域の形成を抑制することを可能とする画像形成システム、画像形成装置及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁

In the solar cell 10, the rear surface of a solar cell substrate 20 has an electrode formation region Ra which is a rectangular region formed by connecting straight line segments along the outer edge of the plurality of rear-surface-side thin wire electrodes 30B.例文帳に追加

太陽電池10において、太陽電池基板20の裏面は、複数の裏面側細線電極30Bの外縁を直線で結んだ矩形状の領域である電極形成領域Raを有する。 - 特許庁

Some of core members 4a and 4b and coil pattern 3 of a coil unit 1 are mounted in the part-mounting inhibiting region α for the formation of the coil unit 1.例文帳に追加

この部品搭載禁止領域αにコイル装置1のコア部材4a,4bおよびコイルパターン3の一部分を入り込ませてコイル装置1を形成する。 - 特許庁

Two rotatably supported rotating rollers 18 are formed above a loop formation region L provided in the downstream sides of a pair of delivery rollers 13.例文帳に追加

送り出しローラ対13の下流側に設けられたループ形成領域Lの上方には、回転自在に支持された2つの回転ローラ18が配置されている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which can suppress a decrease in an impurity concentration of a channel doped region due to the formation of a gate insulating film.例文帳に追加

ゲート絶縁膜の形成に起因してチャネルドープ領域の不純物濃度が低下することを抑制し得る、半導体装置の製造方法を得る。 - 特許庁

The photomask includes a fine pattern 53 in a mask pattern region corresponding to the formation of a hole He on an upper face of the optical path difference adjusting layer 57 which constitutes a color filter.例文帳に追加

カラーフィルタを構成する光路差調整層57上面のホールHeの形成に対応したマスクパターン領域に微細パターン53が設けられている。 - 特許庁

Preferably, the opening formation region 100 is arranged with a width of not less than L/8 on a straight line for connecting the connection sections 3a, 3b.例文帳に追加

また開口部形成領域100は、接続部3a、3b間を結ぶ直線上にL/8の以上の幅を有して配置されることが好ましい。 - 特許庁

The chemical resistance layer 21 is formed on the insulating layer 1, and partially provided at an edge part in a formation region for the conductor pattern 2.例文帳に追加

耐薬品性層21は、絶縁層1の上に形成されており、導体パターン2の形成領域において縁部分に部分的に設けられている。 - 特許庁

A fixed resistance element formation region 80 surrounding the fixed resistance elements 4, 5 and the magnetoresistance effective elements 2, 3 are opposing in a lateral direction (X1-X2 direction).例文帳に追加

固定抵抗素子4,5を囲む固定抵抗素子形成領域80と磁気抵抗効果素子2,3とが横方向(X1−X2方向)に対向している。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device wherein a short channel effect in an n-type FET formation region is restrained and nFET characteristic is improved.例文帳に追加

N型FET形成領域における短チャネル効果の抑制と、nFET特性が向上した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

An element isolation region 2 is formed on the surface of a silicon substrate 1, all the surface of the substrate 1 is oxidized for the formation of a gate oxide film 3, and then a gate electrode 4 is formed.例文帳に追加

シリコン基板1表面に素子分離領域2を形成し、全面を酸化してゲート酸化膜3を形成した後、ゲート電極4を形成する。 - 特許庁

On the interface between the element formation regions 12 where the semiconductor elements are to be formed and the element isolation region embedded with the oxide film 10, the oxide nitride film 9 is disposed.例文帳に追加

半導体素子が形成される素子形成領域12と酸化膜10が埋め込まれた素子分離領域との界面に酸窒化膜9が配置される。 - 特許庁

To provide a bent glass article in which transparency of the deep-bent region is improved while clouding or lowering of transparency due to dew formation is suppressed.例文帳に追加

結露による曇りまたは透明度の低下が抑制されつつ、深曲げ領域における透明度が改善された曲げガラス物品を提供する。 - 特許庁

To provide a controller for formation of a starting point region for cutting that can thin and divide a substrate while preventing chipping and cracking from occurring.例文帳に追加

チッピングやクラッキングの発生を防止して、基板を薄型化し且つ基板を分割することのできる切断起点領域形成の制御装置を提供する。 - 特許庁

To provide a formation method of a starting point region for cutting that can thin and divide a substrate while preventing chipping and cracking from occurring.例文帳に追加

チッピングやクラッキングの発生を防止して、基板を薄型化し且つ基板を分割することのできる切断起点領域の形成方法を提供する。 - 特許庁

The element isolation film 102 has an STI structure, and is buried in a substrate 101 to isolate an element formation region where a transistor is formed.例文帳に追加

素子分離膜102はSTI構造を有しており、基板101に埋め込まれており、かつトランジスタが形成される素子形成領域を分離している。 - 特許庁

Formation of a two-dimensional electronic gas region by forming the conductive layer into a super-lattice structure reduces conduction resistance of the conductive layer.例文帳に追加

導電性層を超格子構造として二次元電子ガス領域を形成することで、導電性層の導通抵抗をより低減させることができる。 - 特許庁

To reproduce a dot region of an image as a target of image formation which is acquired by an image forming apparatus more correctly than by a conventional method.例文帳に追加

画像形成装置で取得した画像形成の対象とする画像について、その画像中の網点領域を従来よりも正確に再現する。 - 特許庁

A lead frame 1 comprises: a shape pattern formation region 2 for four pieces of semiconductor packages; and a frame portion 5 having an outer edge 3 and a boundary 4.例文帳に追加

リードフレーム1は、半導体パッケージ4個分の形状パターン形成領域2と、外縁部3と境界部4とを有する枠体部5とからなっている。 - 特許庁

Then, the dicing tape 20 is released leaving the adhesive layer 22 only in regions except a formation region of the opening 2 of each separated element substrate 3.例文帳に追加

次いで、分離された各素子基板3の開口部2の形成領域を除く領域にのみ粘着層22を残してダイシングテープ20を剥離させる。 - 特許庁

Then, when the drawing of the pixel formation region 10A_2n+1 is completed, a nozzle row 54 is moved by a nozzle pitch of P' in a line feed direction (Y direction).例文帳に追加

そして、画素形成領域10A_2n+1の描画が終了したら、改行方向(Y方向)におけるノズルピッチP’だけノズル列54を移動させる。 - 特許庁

A plurality of position accuracy measurement patterns 16 comprising openings are formed in the circumference of the pattern formation inhibition region 19 within a light-shielding zone 14.例文帳に追加

遮光帯領域14内のパターン形成禁止領域19の周囲に、開口部からなる複数の位置精度測定用パターン16が形成されている。 - 特許庁

Thereafter, a thin film transistor is formed by using the microcrystalline semiconductor film having crystallinity enhanced on the interface to the gate insulating film as a channel formation region.例文帳に追加

次に、ゲート絶縁膜との界面における結晶性が高められた微結晶半導体膜をチャネル形成領域として用いて薄膜トランジスタを形成する。 - 特許庁

The solar cell comprises a selective donor element diffusion region 131A and an electrode 133 formed by using the paste composition for electrode formation.例文帳に追加

また、該電極形成用ペースト組成物を用いて形成した選択的なドナー元素拡散領域131A及び電極133を有する太陽電池セルである。 - 特許庁

In the data holding portion, a transistor using an oxide semiconductor as a semiconductor material for forming a channel formation region is used as a switching element.例文帳に追加

データ保持部は、チャネル形成領域を構成する半導体材料として酸化物半導体を用いたトランジスタをスイッチング素子として用いている。 - 特許庁

To prevent crack occurrence in a circuit formation region in dicing while preventing oxidation and corrosion of a seal ring including a copper layer in the uppermost layer.例文帳に追加

最上層に銅の層を有するシールリングの酸化および腐食を防止しつつ、ダイシングの際の回路形成領域におけるクラック発生を防止する。 - 特許庁

The pattern formation defect region is calculated by performing convolution operation of the correspondence relation on the layout used for forming the step portion.例文帳に追加

前記パターン形成不良領域は、前記段差部の形成に用いたレイアウトに対して前記対応関係の畳み込み演算を行うことによって算出される。 - 特許庁

The memory transistor TR3 is provided on the memory transistor TR2, and a gate electrode 5c is formed on the C plane of the side face of the element formation region 100.例文帳に追加

メモリトランジスタTR3はメモリトランジスタTR2の上部に設けられ、ゲート電極5cが素子形成領域100の側面のC面に形成される。 - 特許庁

To provide a semiconductor technique which can achieve both lowered resistance in a logic formation region and a reduced leakage current of a capacitor that a memory device has.例文帳に追加

ロジック形成領域の低抵抗化と、メモリデバイスが有するキャパシタの低リーク電流化とを両立させることができる半導体技術を提供する。 - 特許庁

A lattice-shaped trench 47 is formed in a passivation film 13 provided on a scribe region B so as to surround a plurality of circuit formation regions A.例文帳に追加

スクライブ領域B上に設けられたパッシベーション膜13に、複数の回路形成領域Aを囲むように格子状の溝47を形成した。 - 特許庁

Then, after reverse sputter etching, Ti and TiN are formed continuously as a contact layer, and further a dielectric film is formed on the capacitance formation region.例文帳に追加

次に、逆スパッタエッチングを行った後、連続してTi及びTiNを密着層として形成し、さらに容量形成領域に誘電体膜を形成する。 - 特許庁

Consequently, an impurity-injection layer 26 is formed as the top surface of the semiconductor substrate 10 in the element formation region D1 (first impurity injecting process).例文帳に追加

これにより、素子形成領域D1における半導体基板10の表層に不純物注入層26を形成する(第1の不純物注入工程)。 - 特許庁

The insulating layer 34 functions as a protective film (first protective film) for covering the lower surface (a surface at a side opposite to the semiconductor chip 10) of the circuit formation region A1.例文帳に追加

絶縁層34は、回路形成領域A1の下面(半導体チップ10と反対側の面)を覆う保護膜(第1保護膜)として機能する。 - 特許庁

The concentration of impurities in the channel formation region CH is inhibited, thus preventing the threshold voltage of the D-MOSFET 20 from becoming higher than conventional.例文帳に追加

チャネル形成領域CHの不純物濃度を抑えることで、D−MOSFET20のしきい値電圧が従来より高くなることを防ぐことができる。 - 特許庁

Then, an oxide film 5 is formed over the surface of the gate electrode 4, and impurity ions are implanted for the formation of an impurity region 8a of low concentration.例文帳に追加

次に、ゲート電極4の表面を覆う酸化膜5を形成し、不純物イオンを注入して低濃度不純物領域8aを形成する。 - 特許庁

The other part of the region corresponding to the pressure chamber formation part of the substrate 1 of the elastic film 4 is removed to form a hole 7 for etching.例文帳に追加

また、弾性膜4の、基板1における圧力室形成部分に対応する領域の他の一部が除去されて、エッチング用孔7が形成される。 - 特許庁

In an immersion lithography apparatus, formation of bubbles in an immersion liquid is reduced or prevented by reducing the size or the region of a gap above a substrate table.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置では、基板テーブル上のギャップのサイズ又は領域を低減することで液浸液内の泡の形成が低減又は防止される。 - 特許庁

例文

A gate insulation film 2, a gate electrode 3a and a protective layer 4a are formed on an Si substrate 1 and followed by formation of a lightly doped source-drain region 6.例文帳に追加

Si基板1上に、ゲート絶縁膜2、ゲート電極3a、ゲート上保護層4aを形成した後、低濃度ソース・ドレイン領域6を形成する。 - 特許庁




  
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